一種拋釉磚的制備方法與流程

本發(fā)明涉及建筑陶瓷技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種拋釉磚的制備方法。

背景技術(shù)：

目前市場(chǎng)上對(duì)于現(xiàn)有的拋釉磚生產(chǎn)，由于其坯體四邊沒有圍邊環(huán)和布料腔結(jié)構(gòu)，因此在裝飾層施布釉料時(shí)，因?yàn)橛粤狭鲃?dòng)性過(guò)大時(shí)，釉層的厚度無(wú)法鋪厚，其厚度通常在2mm以下，且不能保證釉面平整度，甚至在拋釉過(guò)程中，因?yàn)楹穸炔粔蚨鴵?dān)心釉層被拋?zhàn)?，難以確保釉層的完整性和常有波浪紋的出現(xiàn)。

現(xiàn)有通常是通過(guò)工藝疊加的方法增加拋釉磚的裝飾釉層，但仍然無(wú)法進(jìn)行有效地堆厚，最終導(dǎo)致目前拋釉磚存在其裝飾釉層的鏡面效果和透度立體感不足，裝飾效果比較單一的缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提出一種可以增大裝飾釉層厚度的拋釉磚的制備方法。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種拋釉磚的制備方法，包括以下步驟：

A、將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具的下模的模腔內(nèi)，由上模沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)結(jié)構(gòu)的坯體，所述上模的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)在所述坯體的表面環(huán)繞形成布料腔，轉(zhuǎn)移坯體備用；

B、將步驟A獲得的坯體干燥后，向其布料腔內(nèi)施釉，形成裝飾釉層；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層的坯體入窯燒制，燒成；

D、拋光打磨：將燒成后的瓷磚，進(jìn)行拋光打磨，獲得具有裝飾釉層的瓷磚。

更進(jìn)一步說(shuō)明，對(duì)壓制好的坯體還可通過(guò)圖案裝飾使坯體獲得圖案紋理， 所述圖案裝飾為一種或幾種裝飾方式的疊加，所述裝飾方式為絲印、滾筒、噴墨，布釉，布漿等，在圖案裝飾后再進(jìn)行布施透明釉或透明微晶玻璃熔塊。

進(jìn)一步說(shuō)明，所述布料腔的高度為3-10mm。

優(yōu)選的，所述步驟D的拋光打磨還包括切割工序，將燒成獲得的瓷磚的圍邊環(huán)結(jié)構(gòu)切割去除。

優(yōu)選的，所述步驟B中的施釉材料為透明釉料、裝飾性釉料或功能性釉料中的至少一種。

進(jìn)一步說(shuō)明，所述步驟B的施釉分為兩層或兩層以上的分層施釉。

優(yōu)選的，步驟A壓制后的坯體在進(jìn)入步驟B前，通過(guò)拋坯工序或輥壓工序在所述坯體的表面設(shè)置有紋理圖案。

優(yōu)選的，所述步驟B中的施釉材料為透明釉料，步驟A中使用的沖壓模具的上模的沖壓面還設(shè)置有紋理圖案。

優(yōu)選的，在所述步驟B中的施釉前或施釉過(guò)程中，向布料腔內(nèi)加入熔?；蜓b飾物，所述裝飾物為燒成后不燒失的裝飾顆粒。

所述布料腔設(shè)有分界凸起，并由所述分界凸起間隔形成多個(gè)布料分腔，所述分界凸起的高度與圍邊環(huán)的高度一致。

本發(fā)明的有益效果：在本發(fā)明的拋釉磚生產(chǎn)中，施釉時(shí)釉層的厚度由布料腔的高度決定，通過(guò)施施獲得具有一定厚度的裝飾釉層，保證了釉面的平整度，由于裝飾釉層的厚度增大，增強(qiáng)了裝飾層的鏡面效果和透度立體感，并且在拋光打磨時(shí)無(wú)需擔(dān)心釉層被拋?zhàn)?，確保釉層的完整性，減少波浪紋的出現(xiàn)，大大的提高瓷磚的產(chǎn)品質(zhì)量以及裝飾效果。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的沖壓模具和坯體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明一種拋釉磚的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明多個(gè)實(shí)施例的拋釉磚的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的一種拋釉磚的生產(chǎn)制備流程圖；

圖5是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的一種拋釉磚的生產(chǎn)制備流程圖；

其中：沖壓模具1，下模11，上模12，坯體2，圍邊環(huán)21，布料腔22，分界凸起23，布料分腔24，紋理圖案25，裝飾釉層3。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖并通過(guò)具體實(shí)施方式來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案。

如圖1所示，一種拋釉磚的制備方法，包括以下步驟：

A、將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具1的下模11的模腔內(nèi)，由上模12沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)21結(jié)構(gòu)的坯體2，所述上模12的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模11的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)21在所述坯體2的表面環(huán)繞形成布料腔22，轉(zhuǎn)移坯體2備用；

B、將步驟A獲得的坯體2干燥后，向其布料腔22內(nèi)施釉，形成裝飾釉層3；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制，燒成；

D、拋光打磨：將燒成后的瓷磚，進(jìn)行拋光打磨，獲得具有裝飾釉層的瓷磚。

本發(fā)明的拋釉磚生產(chǎn)中，使用的坯體2具有圍邊環(huán)21和布料腔22結(jié)構(gòu)，施釉時(shí)釉層的厚度由布料腔22的高度決定，與現(xiàn)有的沒有圍邊環(huán)和布料腔結(jié)構(gòu)的普通坯體相比，普通坯體的施釉層的厚度最大不超過(guò)2mm，而且其與釉料的比重或流動(dòng)性具有大大的關(guān)聯(lián)性，釉料流動(dòng)性過(guò)大時(shí)，釉層的厚度根本無(wú)法鋪厚，其厚度一般只能達(dá)到1mm，而本發(fā)明的制備方法中所制備獲得的釉層，其釉層最小的厚度與釉料自身的比重或流動(dòng)性不相關(guān)，只與布料腔22或圍邊環(huán)21 的高度相關(guān)，釉料限制于由圍邊環(huán)21環(huán)繞形成的布料腔22內(nèi)，通過(guò)布施獲得具有一定厚度的裝飾釉層3，由于圍邊環(huán)21的高度高于圍邊內(nèi)圖案紋理最高點(diǎn)的高度，施釉以液體的形式灌注進(jìn)布料腔22內(nèi)，由于重力作用及液體之間的相融性，可以很好的保證了一個(gè)水平的釉面平整度；再將具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制、拋光打磨后即可獲得具有裝飾釉層3的瓷磚。裝飾釉層3的厚度增大，增強(qiáng)了裝飾層的鏡面效果和透度立體感，另外，裝飾釉層的厚度增加，拋光打磨時(shí)無(wú)需擔(dān)心釉層被拋?zhàn)?，確保釉層的完整性，減少波浪紋的出現(xiàn)，保證磚面的平整度，大大的提高瓷磚的產(chǎn)品質(zhì)量以及裝飾效果。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述布料腔22的高度為3-10mm。布料腔22高度的設(shè)定決定了裝飾釉層的厚度，因此設(shè)置布料腔的高度在3-10mm，保證了裝飾釉層的布施厚度，增強(qiáng)了裝飾釉層的鏡面效果和透度立體感。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述步驟D的拋光打磨還包括切割工序，將燒成獲得的瓷磚的圍邊環(huán)21結(jié)構(gòu)切割去除。使瓷磚可制備成與市場(chǎng)的拋釉磚結(jié)構(gòu)相似的瓷磚，其不同點(diǎn)在于本發(fā)明制備的瓷磚，其裝飾層的厚度比原有的拋釉磚的厚度要大，且其生產(chǎn)的成品合格率更高，減少次品的出現(xiàn)。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述步驟B中的施釉材料為透明釉料、裝飾性釉料或功能性釉料中的至少一種。由于透明釉具有一定的透光性，選擇透明釉進(jìn)行施釉，可使磚面具有一定的立體透光效果，增加了磚面的裝飾效果。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述步驟B的施釉分為兩層或兩層以上的分層施釉。進(jìn)行兩層或多層的分層施釉，一方面保證釉層的厚度，確保釉層的完整性；另一方面提高了裝飾釉層的透度立體感和立體透光效果，減少波浪紋的出現(xiàn)，也保證磚面的平整度。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，步驟A壓制后的坯體2在進(jìn)入步驟B前，通過(guò)圖案裝飾 在所述坯體2的表面設(shè)置有紋理圖案25。所述圖案裝飾為一種或幾種裝飾方式的疊加，所述裝飾方式為絲印、滾筒、噴墨，布釉，布漿等，在圖案裝飾后再進(jìn)行布施透明釉或透明微晶玻璃熔塊。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述步驟B中的施釉材料為透明釉料，步驟A中使用的沖壓模具1的上模12的沖壓面還設(shè)置有紋理圖案。

通過(guò)上模12沖壓面的紋理圖案設(shè)計(jì)或壓制后的拋坯處理，使坯體表面具有紋理圖案，結(jié)合一定厚度的裝飾釉層3，增強(qiáng)的燒成后磚面的可視效果，豐富的拋釉磚的裝飾效果。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，在所述步驟B中的施釉前或施釉過(guò)程中，向布料腔22內(nèi)加入熔?；蜓b飾物。利用在釉層加入熔?；蜓b飾物，可增加磚面的裝飾層的多樣性，從而提高其裝飾效果。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述裝飾物為燒成后不燒失的裝飾顆粒。在布料腔22中加入以固體形式熔?；蜓b飾物，通過(guò)透明釉的包裹覆蓋，形成了足夠厚度的裝飾層。其中，裝飾物可為燒成后不燒失的裝飾顆粒，也可為云母片等，熔?？梢詾榕c釉料顏色不同的熔塊粒，使裝飾釉層具有琥珀的裝飾效果，形成琥珀釉層，釉面如同琥珀一般晶瑩剔透，實(shí)現(xiàn)琥珀般的視覺效果，其厚度可達(dá)3mm或3mm以上的釉層，有別于市場(chǎng)上主流的全拋釉、厚拋釉或薄微晶等產(chǎn)品，新增了具有琥珀般裝飾效果的瓷磚，且其在生產(chǎn)過(guò)程中，根據(jù)不同的需求可制備獲得不同的琥珀釉效果，裝置效果十分豐富。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，所述布料腔22設(shè)有分界凸起23，并由所述分界凸起23間隔形成多個(gè)布料分腔24，所述分界凸起23的高度與圍邊環(huán)21的高度一致。在布料腔22里面設(shè)有分界凸起23形成多個(gè)布料分腔24，可實(shí)現(xiàn)不同腔的布料，實(shí)現(xiàn)具有拼接效果的拋釉磚。在布料腔22里面設(shè)有分界凸起23形成多個(gè)布料 分腔24，可實(shí)現(xiàn)不同腔的布料，實(shí)現(xiàn)具有拼接效果的微晶玻璃瓷磚，另外，還可對(duì)其拼接處進(jìn)行切割，對(duì)磚體進(jìn)行分割，可適應(yīng)不同尺寸的安裝使用，分界凸起33的設(shè)計(jì)使其切割不影響磚面裝飾效果。

實(shí)施例1

如圖4所示，一種拋釉磚的制備方法：

A、如圖1所示，將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具1的下模11的模腔內(nèi)，由上模12沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)21和結(jié)構(gòu)的坯體2，所述上模12的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模11的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)21在所述坯體2的表面環(huán)繞形成布料腔22，其布料腔22的高度為6mm，轉(zhuǎn)移坯體2備用；

B、將步驟A獲得的坯體2干燥后，向其布料腔22內(nèi)進(jìn)行施透明釉，分別進(jìn)行3次的分層施釉，其每次釉層厚度均為2mm，得到透明的裝飾釉層3；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制，燒成；

D、拋光打磨：將燒成后的瓷磚，進(jìn)行拋光打磨，獲得具有透光釉層效果的瓷磚，如圖2所示。

需要說(shuō)明，在所述步驟B中，除選擇布施透明釉料以外，還可以選擇裝飾性釉料或功能性釉料的施釉材料。

實(shí)施例2

一種具有紋理圖案的透光釉層效果的瓷磚的制備方法：

A、將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具1的下模11的模腔內(nèi)，使用的沖壓模具1的上模12的沖壓面是設(shè)置有紋理圖案的，由上模12沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)21和結(jié)構(gòu)的坯體2，所述上模12的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模11的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)21在所述坯體2的表面環(huán)繞形成布 料腔22，其布料腔22的高度為8mm，通過(guò)輥壓工序在所述坯體2的表面置有紋理圖案25，轉(zhuǎn)移坯體2備用；

B、將步驟A獲得的坯體2干燥后，向其布料腔22內(nèi)進(jìn)行施透明釉，分別進(jìn)行2次的分層施釉，其每次釉層厚度均為4mm，得到透明的裝飾釉層3；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制，燒成；

D、拋光打磨：將燒成后的瓷磚，進(jìn)行拋光打磨，獲得具有紋理圖案的透光釉層效果的瓷磚。

實(shí)施例3

一種沒有圍邊環(huán)21的非透明釉層效果的瓷磚的制備方法：

A、將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具1的下模11的模腔內(nèi)，由上模12沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)21和結(jié)構(gòu)的坯體2，所述上模12的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模11的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)21在所述坯體2的表面環(huán)繞形成布料腔22，其布料腔22的高度為8mm，轉(zhuǎn)移坯體2備用；

B、將步驟A獲得的坯體2干燥后，向其布料腔22內(nèi)施普通非透明釉，分別進(jìn)行2次的分層施釉，其每次釉層厚度均為4mm，得到裝飾釉層3；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制，燒成；

D、切割和拋光打磨：將燒成后的瓷磚，將其圍邊環(huán)21切割去除，再拋光打磨，獲得沒有圍邊環(huán)21的非透明釉層效果的瓷磚，如圖2所示。

實(shí)施例4

如圖5所示，一種具有琥珀視覺效果的瓷磚的制備方法：

A、將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具1的下模11的模腔內(nèi)，由上模12沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)21和結(jié)構(gòu)的坯體2，所述上模12的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模11的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)21在所述坯體2的 表面環(huán)繞形成布料腔22，其布料腔22的高度為6mm，轉(zhuǎn)移坯體2備用；

B、將步驟A獲得的坯體2干燥后，向其布料腔22內(nèi)進(jìn)行第一層施透明釉，第一層釉層厚度為2mm，在第一層釉層上隨機(jī)布撒一些熔粒，布撒完后再進(jìn)行施透明釉，使熔粒位于整體透明釉層的內(nèi)部，獲得裝飾釉層3；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制，燒成；

D、拋光打磨：將燒成后的瓷磚，進(jìn)行拋光打磨，獲得具有琥珀視覺效果的瓷磚，如圖2所示。

實(shí)施例5

一種具有拼接效果的拋釉磚的制備方法：

A、將粉料均勻鋪設(shè)于沖壓模具1的下模11的模腔內(nèi)，使用的沖壓模具1的上模12的沖壓面是設(shè)置有紋理圖案的，由上模12沖壓壓制獲得具有圍邊環(huán)21和結(jié)構(gòu)的坯體2，所述上模12的沖壓面設(shè)置有凸臺(tái)，所述凸臺(tái)的面積小于所述下模11的模腔的布料面積，所述圍邊環(huán)21在所述坯體2的表面環(huán)繞形成布料腔22，其布料腔22的高度為8mm，所述布料腔22由分界凸起23間隔成波狀形的布料分腔24，所述分界凸起23的高度與圍邊環(huán)21的高度一致，通過(guò)拋坯工序在所述坯體2的表面置有紋理圖案25，轉(zhuǎn)移坯體2備用；

B、將步驟A獲得的坯體2干燥后，向其布料分腔24內(nèi)進(jìn)行施透明釉，分別進(jìn)行2次的分層施釉，其每次釉層厚度均為4mm，得到透明的裝飾釉層3；

C、將步驟B所獲得的具有裝飾釉層3的坯體2入窯燒制，燒成；

D、拋光打磨：將燒成后的瓷磚，進(jìn)行拋光打磨，獲得具有拼接效果的拋釉磚。

補(bǔ)充說(shuō)明，所述分界凸起23除了間隔成波狀形的布料分腔24外，還可以形成網(wǎng)格、水圈、多邊形等多種形狀的布料分腔24，其與所述紋理圖案25結(jié)合， 實(shí)現(xiàn)具有拼接效果的拋釉磚，增加了拋釉磚的裝飾多樣性，如圖3所示。

更進(jìn)一步的說(shuō)明，其分界凸起23的設(shè)計(jì)，通過(guò)一瓷磚的制備，后續(xù)鋪貼使用時(shí)，可對(duì)其進(jìn)行分割使用，適應(yīng)性強(qiáng)。

以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本發(fā)明的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本發(fā)明的原理，而不能以任何方式解釋為對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制。基于此處的解釋，本領(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可聯(lián)想到本發(fā)明的其它具體實(shí)施方式，這些方式都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。