一種支撐架的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種支撐架，用以解決由于支撐架凹槽內(nèi)粉塵的遺留而影響支撐架使用的問題。該支撐架包括：支撐體，以及與所述支撐體相連接的支撐桿；所述支撐體設(shè)置有上大下小的錐形凹槽；所述凹槽的一個開口，位于所述支撐體的支撐面；所述支撐桿，包括中空管道。
【專利說明】
一種支撐架
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及顯示屏幕制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示屏幕制造工藝中使用的支撐架。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示屏幕的制造過程中，常常需要在制造基臺上運輸作為顯示屏幕基礎(chǔ)材料的玻璃基板。
[0003]其中，玻璃基板是一種表面蒸鍍有一層透明導(dǎo)電層的、極其平整的薄玻璃片。如果玻璃基板的表面出現(xiàn)劃傷、污染或者腐蝕，都會造成整個玻璃基板的報廢。
[0004]在運輸玻璃基板時，會使用支撐架(LiftPin)將玻璃基板從基臺上支撐起來。目前經(jīng)常使用的支撐架的具體結(jié)構(gòu)如圖1所示。其中，10為所述支撐架的支撐體，所述支撐體的上表面11直接與玻璃基板接觸的一面，稱為支撐面11 ;20為所述支撐架的支撐桿。圖2為圖1所示的支撐架的俯視圖，圖2中的環(huán)形區(qū)域為所述支撐架的支撐面11，所述環(huán)形區(qū)域內(nèi)的小圓點，為遺留在所述支撐面上的粉塵，則在這種情況下，在使用支撐架運輸玻璃基板的過程中，支撐面與玻璃基板直接接觸，支撐面上的粉塵可能會對玻璃基板造成污染，甚至劃傷玻璃基板。
[0005]為了減少支撐面上粉塵對玻璃基板的影響，現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計了如圖3所示的支撐架，其中，30為所述支撐架的支撐體，31為支撐面，40為支撐桿，圖4為圖3所示的支撐架的俯視圖，圖4中最外圈的環(huán)形區(qū)域為圖3所示的支撐架的支撐面31，通過這種設(shè)計減少支撐面的面積，進而減少了支撐面與玻璃基板的接觸面積，從而降低了由于支撐面上遺留的粉塵而對玻璃基板造成污染和劃傷的可能性。
[0006]然而，如圖3所示的支撐架在使用過程中，粉塵很容易遺留在該支撐架的凹槽內(nèi)，而支撐架往往具有重力感應(yīng)功能，用于感應(yīng)支撐架上是否承載有玻璃基板，當粉塵在支撐架的凹槽內(nèi)大量積攢時，將會影響支撐架的重力感應(yīng)功能。
[0007]如何避免由于粉塵在支撐架凹槽內(nèi)遺留而對支撐架的使用造成影響，成為目前亟待解決的問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0008]本實用新型提供一種支撐桿，用以解決由于支撐架凹槽內(nèi)粉塵的遺留而影響支撐架使用的問題。
[0009]本實用新型采用下述技術(shù)方案:
[0010]一種支撐架，包括:
[0011 ]支撐體，以及與所述支撐體相連接的支撐桿；
[0012]所述支撐體設(shè)置有上大下小的錐體形凹槽;所述凹槽具有兩個開口；其中，一個開口，位于所述支撐體的支撐面;另一個開口位于所述凹槽的底部；
[0013]所述支撐桿，包括中空管道。
[0014]可選的，所述凹槽位于支撐面的開口的邊界，與所述支撐面的邊界重合。
[0015]可選的，所述凹槽內(nèi)表面光滑。
[0016]可選的，所述中空管道的一個端口位于所述支撐桿上表面。
[0017]可選的，所述凹槽通過位于凹槽底部的一個開口與位于所述支撐桿上表面的中空管道的端口相連接。
[0018]可選的，所述支撐桿通過螺紋連接的方式，連接在所述支撐體的底部。
[0019]可選的，所述支撐桿通過卡扣連接的方式，連接在所述支撐體的底部。
[0020]可選的，所述中空通道的特定端口位于所述支撐桿的底面;所述特定端口，為與所述凹槽相連接的端口相對的端口。
[0021 ]可選的，所述中空管道的特定端口位于所述支撐桿的側(cè)面;所述特定端口，為與所述凹槽相連接的端口相對的端口。
[0022]可選的，所述支撐架為玻璃基板的支撐架。
[0023]本實用新型能夠達到的有益效果是:
[0024]本實用新型所提供的支撐架包括支撐體，以及與所述支撐體相連接的支撐桿;所述支撐體設(shè)置有上大下小的錐體形凹槽;所述凹槽具有兩個開口；其中，一個開口，位于所述支撐體的支撐面；另一個開口位于所述凹槽的底部;所述支撐桿，包括中空管道，當粉塵落入所述支撐架的凹槽內(nèi)時，粉塵會沿著所述錐形凹槽滑落至所述錐形凹槽的底部，并從位于底部的開口滑出凹槽，從而減少了支撐架凹槽內(nèi)粉塵的遺留。
【附圖說明】
[0025]此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本申請的示意性實施例及其說明用于解釋本申請，并不構(gòu)成對本申請的不當限定。在附圖中:
[0026]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的一種支撐架的具體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖2為現(xiàn)有技術(shù)的一種支撐架的俯視圖；
[0028]圖3為現(xiàn)有技術(shù)的一種支撐架的具體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖4為現(xiàn)有技術(shù)的一種支撐架的俯視圖；
[0030]圖5為本實用新型提供的一種支撐架的具體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031 ]圖6為本實用新型提供的一種中空管道的具體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖7為本實用新型提供的一種支撐架的具體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖8為本實用新型提供的一種支撐架的俯視圖。
【具體實施方式】
[0034]為使本申請的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本申請具體實施例及相應(yīng)的附圖對本申請技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒旧暾堉械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本申請保護的范圍。
[0035]以下結(jié)合附圖，詳細說明本申請各實施例提供的技術(shù)方案。
[0036]實施例1
[0037]本申請實施例提供一種支撐架，用以解決由于支撐架凹槽內(nèi)粉塵的遺留而影響支撐架使用的問題。
[0038]所述支撐架包括:支撐體，以及與所述支撐體相連接的支撐桿;所述支撐體設(shè)置有上大下小的錐體形凹槽;所述凹槽具有兩個開口；其中，一個開口，位于所述支撐體的支撐面;另一個開口位于所述凹槽的底部;所述支撐桿，包括中空管道。
[0039]所述支撐架的一種具體結(jié)構(gòu)示意圖如圖5所示，其中，a為所述支撐架的支撐體;b為所述支撐架的支撐桿；圖中虛線所圍的區(qū)域c為所述支撐架的錐體形凹槽;d為所述支撐架的中空管道。
[0040]需要說明的是，所述中空管道d可以為圖5中所示的一字型的管道，或者，所述中空管道d也可以為圖6所示的L型管道，其中，101為支撐架的支撐桿，102為支撐架的中空管道，103為所述中空管道102的端口，104為所述中空管道102的端口，所述端口 103位于所述支撐桿101的上表面，所述端口 104位于所述支撐桿101的側(cè)面。
[0041]對于所述中空管道d的結(jié)構(gòu)，本申請實施例不做具體限定，只要所述中空管道d的一端可以與所述凹槽c的下端開口相連通，以使得凹槽c中的粉塵可以通過中空管道d排出即可。
[0042]為了便于理解，下面以圖5為例，詳細的介紹一種中空管道d的具體結(jié)構(gòu)，所述中空管道d的一個端口 201位于所述支撐桿b的上表面，且與所述凹槽c底部的開口相連接，所述中空管道d的另一個端口 202位于所述支撐桿b的下表面。
[0043]所述支撐桿b可以通過螺紋連接的方式，連接在所述支撐體a的底部，或者所述支撐桿b可以通過卡扣連接的方式，連接在所述支撐體a的底部，關(guān)于所述支撐桿b與所述支撐體a的連接方式，本申請實施例不做具體限定。
[0044]需要說明的是，如圖5所示，所述凹槽c的底部可以與所述支撐體a的底部相重合。
[0045]或者，如圖7所示，所述凹槽c的底部也可以位于所述支撐體a的內(nèi)部，其中，301為所述支撐架的支撐體，302為所述支撐架的支撐桿，圖中虛線所圍的區(qū)域303為所述支撐架的凹槽，304為所述支撐架的中空管道。為了可以使支撐架凹槽中遺留的粉塵可以從位于所述凹槽底部的開口排出，所述支撐體還設(shè)置有中空的連接結(jié)構(gòu)305，如圖7所示，所述中空的連接結(jié)構(gòu)305的上端口 306與所述凹槽30 3底部的開口相連接，所述中空的連接結(jié)構(gòu)305的下端口 307與所述中空管道304相連接。其中，所述中空連接結(jié)構(gòu)305可以采用螺紋連接的方式，分別與所述凹槽303以及所述中空管道304建立連接;或者所述中空連接結(jié)構(gòu)305也可以采用卡扣連接的方式，分別與所述凹槽303以及所述中空管道304建立連接，本申請實施例不做具體限定。
[0046]在這種情況下，遺留在所述凹槽303內(nèi)的粉塵可以滑落至所述凹槽303底部，并從所述凹槽303底部的開口滑落至所述中空的連接結(jié)構(gòu)305，進而順著所述連接結(jié)構(gòu)305滑落到所述中空管道304，從而達到從位于所述凹槽303底部的開口排出所述凹槽303內(nèi)粉塵的目的。
[0047]對于凹槽c在支撐體a中的位置，本申請實施例不做具體限定，只要凹槽c中遺留的粉塵可以從位于所述凹槽c底部的開口排出凹槽c即可。
[0048]為了使遺留在凹槽c內(nèi)的粉塵可以在重力的作用下自然滑落至所述凹槽c的底部，所述凹槽c為內(nèi)表面光滑的凹槽。
[0049]需要說明的是，僅僅依靠重力的作用，可能無法使所述凹槽c內(nèi)遺留的粉塵滑落至所述凹槽C底部的開口，為了較為徹底的清除所述凹槽內(nèi)遺留的粉塵，所述中空管道d與所述凹槽C相連接的一端相對的端口可以與排氣裝置相連，通過排氣裝置，向外抽出所述中空管道d以及所述凹槽C中的空氣，以使得所述凹槽C內(nèi)產(chǎn)生向下的吸附力，從而使得所述凹槽C內(nèi)遺留的粉塵在向下的吸附力以及重力的雙重作用下，更易滑落至所述凹槽C的底部。
[0050]還需要說明的是，在使用所述支撐架運輸基板的過程中，可以通過所述排氣裝置，將凹槽C以及中空管道d中的空氣完全排除，以使得基板、凹槽C以及中空管道d組成一個真空環(huán)境，在大氣壓的作用下，在基板的上表面會產(chǎn)生向下的作用力，以使得運輸過程中，所述支撐架可以較為牢固的固定住所述基板。
[0051]為了減少支撐面的面積，進而減少支撐面與玻璃基板的接觸面積，從而降低支撐面上遺留的粉塵可能對玻璃基板造成的污染和劃傷，所述凹槽c位于所述支撐面的開口的邊界，與所述支撐面的邊界重合。如圖8所示，圖8為圖5所示支撐架的俯視圖，其中，401為所述支撐架的支撐面，圖中陰影區(qū)域402為所述支撐架的凹槽，403為所述支撐架的中空管道。
[0052]本實用新型所提供的支撐架包括支撐體，以及與所述支撐體相連接的支撐桿;所述支撐體設(shè)置有上大下小的錐體形凹槽;所述凹槽具有兩個開口；其中，一個開口，位于所述支撐體的支撐面；另一個開口位于所述凹槽的底部;所述支撐桿，包括中空管道，當粉塵落入所述支撐架的凹槽內(nèi)時，粉塵會沿著所述錐形凹槽滑落至所述錐形凹槽的底部，并從位于底部的開口滑出凹槽，從而減少了支撐架凹槽內(nèi)粉塵的遺留。
[0053]以上所述僅為本申請的實施例而已，并不用于限制本申請。對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說，本申請可以有各種更改和變化。凡在本申請的精神和原理之內(nèi)所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本申請的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種支撐架，其特征在于，包括: 支撐體，以及與所述支撐體相連接的支撐桿； 所述支撐體設(shè)置有上大下小的錐體形凹槽;所述凹槽具有兩個開口；其中，一個開口，位于所述支撐體的支撐面;另一個開口位于所述凹槽的底部； 所述支撐桿，包括中空管道。2.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述凹槽位于支撐面的開口的邊界，與所述支撐面的邊界重合。3.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述凹槽內(nèi)表面光滑。4.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述中空管道的一個端口位于所述支撐桿上表面。5.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述凹槽通過位于凹槽底部的一個開口與位于所述支撐桿上表面的中空管道的端口相連接。6.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述支撐桿通過螺紋連接的方式，連接在所述支撐體的底部。7.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述支撐桿通過卡扣連接的方式，連接在所述支撐體的底部。8.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述中空通道的特定端口位于所述支撐桿的底面； 所述特定端口，為與所述凹槽相連接的端口相對的端口。9.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述中空管道的特定端口位于所述支撐桿的側(cè)面； 所述特定端口，為與所述凹槽相連接的端口相對的端口。10.如權(quán)利要求1所述的支撐架，其特征在于，所述支撐架為玻璃基板的支撐架。
【文檔編號】B65G49/06GK205708857SQ201620650629
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年6月27日
【發(fā)明人】周萍, 張鵬記
【申請人】昆山國顯光電有限公司