專利名稱：氯化氫氣體噴出用構(gòu)件及三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種氯化氫氣體噴出用構(gòu)件及具有該氯化氫氣體噴出 用構(gòu)件的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置、以及使用該氯化氫氣體噴出用構(gòu) 件的三氯硅烷制造方法，上述氯化氫氣體噴出用構(gòu)件在使金屬硅粉末 與氯化氫氣體發(fā)生反應(yīng)而生成三氯硅烷時(shí)所使用的三氯硅烷制造用反 應(yīng)裝置中使用，使氯化氫氣體向供給到裝置主體內(nèi)的金屬硅粉末中噴 出。
背景技術(shù)：
作為用于制造99.999999999%以上極高純度珪的原料而使用的三 氯硅烷(SiHCl3)，是通過(guò)使純度為98%左右的金屬硅粉末(Si)和 氯化氫氣體(HC1)發(fā)生反應(yīng)而制造的。
作為用于這樣使金屬硅粉末和氯化氫氣體發(fā)生反應(yīng)來(lái)生成三氯硅 烷的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置，提出了例如如專利文獻(xiàn)l所示的裝置， 其包括被供給金屬硅粉末的裝置主體、從該裝置主體的底部將氯化 氫氣體導(dǎo)入裝置主體內(nèi)的氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)。在此，為了使氯化氫氣體噴 出到金屬硅粉末中，氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)上安裝有具有噴出孔的氯化氫氣體 噴出用構(gòu)件。
將粒徑為lOOOjim以下的較小金屬硅粉末供給到裝置主體，從裝置 主體底部通過(guò)氯化氫氣體噴出用構(gòu)件使氯化氫氣體高速噴出，使金屬 硅粉末流動(dòng)。由此，使金屬硅粉末與氯化氫氣體充分接觸，通過(guò)它們 的反應(yīng)得到三氯硅烷。
專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2002 - 220219號(hào)公報(bào)。
但是，以往的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，以其噴出孔朝向裝置主體 上方開(kāi)口的方式固定在裝置主體底部。在此，金屬硅粉末如上述那樣 粒徑較小，有可能進(jìn)入噴出孔中而發(fā)生堵塞。因此，需要更換或清潔 氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，但由于氯化氫氣體噴出用構(gòu)件固定在裝置主 體底部，因此無(wú)法容易地卸下氯化氫氣體噴出用構(gòu)件。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而作出的，其目的在于提供一種可抑制由 金屬硅粉末引起的堵塞、并可使氯化氫氣體廣闊分散而提高三氯硅烷 的生產(chǎn)效率的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件及具有該氯化氬氣體噴出用構(gòu)件 的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置、以及使用該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的三 氯珪烷制造方法。
本發(fā)明的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，在使氯化氫氣體與金屬硅粉末 發(fā)生反應(yīng)來(lái)生成三氯硅烷的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置中使用，其中， 該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件具有朝向長(zhǎng)度方向延伸的軸部、和沿與該軸 部的上述長(zhǎng)度方向交叉的方向延伸的頭部。上述軸部上設(shè)有朝向上述 長(zhǎng)度方向延伸的供給孔.上述頭部上形成有多個(gè)噴出孔。各噴出孔與 上述供給孔連通，并且沿與上述供給孔的延伸方向交叉的方向延伸而 在上述頭部的外表面開(kāi)口。
本發(fā)明的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，具有朝向長(zhǎng)度方向延伸的軸部、 和沿與該軸部的長(zhǎng)度方向交叉的方向延伸的頭部，設(shè)于軸部上的供給 孔沿軸部長(zhǎng)度方向延伸，并且頭部上設(shè)有沿與供給孔交叉的方向延伸 的噴出孔。因此，在上述三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置上安裝了該氯化氫 氣體噴出用構(gòu)件時(shí)，金屬硅粉末難以進(jìn)入噴出孔，可防止噴出孔的堵 塞。
此外，由于形成多個(gè)噴出孔，因此可朝向多個(gè)方向噴出氯化氫氣 體，使氯化氫氣體在金屬硅粉末中廣闊分散，可促進(jìn)反應(yīng)。
本發(fā)明的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，優(yōu)選在上述軸部上形成有螺紋部。
本發(fā)明的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，可裝卸地安裝在上述三氯硅烷 制造用反應(yīng)裝置的氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)上。因此，即使長(zhǎng)時(shí)間使用而劣化， 也可容易地進(jìn)行更換。此外，在萬(wàn)一發(fā)生噴出孔堵塞的情況下，也可 取下該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件來(lái)進(jìn)行清潔，因此維修保養(yǎng)非常容易。 而且，通過(guò)螺紋的旋緊旋松即可簡(jiǎn)單裝卸氯化氬氣體噴出用構(gòu)件，可 進(jìn)一步提高維修保養(yǎng)性。另外，優(yōu)選地，氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的頭 部為可與扳手等作業(yè)用工具嚙合的形狀。
本發(fā)明的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，優(yōu)選將多個(gè)上述噴出孔形成為 從上述供給孔以放射狀延伸。在本發(fā)明的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件中，通過(guò)供給孔供給來(lái)的氯化 氫氣體從多個(gè)噴出孔以放射狀噴出，可使氯化氫氣體在金屬硅粉末中 更廣闊地分散。
本發(fā)明的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置，使氯化氫氣體與金屬硅粉末 發(fā)生反應(yīng)來(lái)生成三氯硅烷，其中，該三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置具有被 供給上述金屬硅粉末的裝置主體、從該裝置主體的底部側(cè)將上述氯化 氫氣體向上述裝置主體內(nèi)導(dǎo)入的氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)。在該氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)中， 上述氯化氫氣體噴出用構(gòu)件貫穿上述裝置主體的底板部而可裝卸地安 裝，上述頭部配置在上述底板部上方。
根據(jù)本發(fā)明的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置，可防止氯化氫氣體噴出 用構(gòu)件的堵塞，可進(jìn)行穩(wěn)定操作。此外，通過(guò)使氯化氫氣體在金屬硅 粉末中廣闊分散，可大幅度提高三氯硅烷的生產(chǎn)效率。
本發(fā)明的三氯硅烷制造方法，使氯化氫氣體與金屬硅粉末發(fā)生反 應(yīng)來(lái)生成三氯硅烷，其中，在被供給上述金屬硅粉末的裝置主體的底 板部上安裝上述的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，將上述頭部配置在上述底 板部的上表面上方，向上述裝置主體下部一邊供給金屬硅粉末， 一邊 從上述氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的上述噴出孔噴出氯化氫氣體。
根據(jù)本發(fā)明，可抑制由金屬硅粉末引起的堵塞。除此之外，根據(jù) 本發(fā)明，可使氯化氫氣體廣闊分散而提高三氯硅烷的生產(chǎn)效率。
圖l是表示本發(fā)明實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的側(cè)視圖。
圖2是圖1所示氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的俯視圖。
圖3是使用圖1所示氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的三氯硅烷制造用反 應(yīng)裝置的概略說(shuō)明圖。
圖4是表示在氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)上安裝有圖1所示氯化氫氣體噴出用 構(gòu)件的狀態(tài)的說(shuō)明圖。
圖5是表示排列于裝置主體的底板部的多個(gè)氯化氫氣體噴出用構(gòu) 件的說(shuō)明圖。
圖6是氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的第2實(shí)施方式的側(cè)視圖。
圖7是圖6所示氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的俯視圖。
圖8是氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的第3實(shí)施方式的側(cè)視圖。圖9是圖8所示氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的俯視圖。
圖IO是氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的第4實(shí)施方式的側(cè)視圖。
圖11是圖IO所示氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的俯視圖。
附圖標(biāo)記說(shuō)明
1氯化氫氣體噴出用構(gòu)件
2軸部
2A外螺紋部(嗜合部) 3頭部 4供給孔 5噴出孔
10三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置 11裝置主體 13底部
20氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)
51、 53、 55氯化氫氣體噴出用構(gòu)件
52、 54、 56頭部
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
如圖1和圖2所示，本實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1包括 呈大致圓柱狀的軸部2、在該軸部2的上端沿與軸部2的長(zhǎng)度方向(圖 1中的上下方向)交叉的方向延伸的頭部3。
在本實(shí)施方式中，頭部3沿與軸部2的長(zhǎng)度方向正交的方向延伸， 如圖2所示那樣，在俯視圖中頭部3為正六邊形。另外，頭部3的上 表面3A是與軸部2的長(zhǎng)度方向正交的平面，頭部3的側(cè)面3B與上表 面3A正交。由此，頭部3為大致正六棱柱形。
此外，軸部2的外周面形成有外螺紋。如此，氯化氫氣體噴出用 構(gòu)件1做成與所謂的六角螺栓相同的形狀，頭部3可與扳手等作業(yè)用 工具嚙合。
軸部2上i殳有在軸部2的下端面2B開(kāi)口、且沿軸部2的長(zhǎng)度方向 延伸的供給孔4。另外，該供給孔4在頭部3的上表面3A上不開(kāi)口， 做成所謂的盲孔。并且，在頭部3上形成有與供給孔4連通、且沿與供給孔4的延伸 方向交叉的方向延伸的多個(gè)噴出孔5。在本實(shí)施方式中，如圖1和圖2 所示，6個(gè)噴出孔5形成為分別與供給孔4的延伸方向正交。如圖2所 示，這6個(gè)噴出孔5形成為從位于頭部3中心的供給孔4以放射狀延伸， 分別在呈正六棱柱狀的頭部3的側(cè)面開(kāi)口。即，噴出孔5的開(kāi)口部朝 向與軸部2的長(zhǎng)度方向正交的方向。
接著，對(duì)使用本實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1的三氯硅烷 制造用反應(yīng)裝置IO進(jìn)行說(shuō)明。
如圖3所示，三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置10包括裝置主體ll，該裝 置主體11具有呈大致圓筒狀的膛部12、底板部13和頂板14。在此， 如圖3和圖4所示，底板部13的上表面13A和下表面13B配置成與膛 部12所形成的圓筒的軸線正交。
在裝置主體11的膛部12的下部，形成有將金屬硅粉末供給到裝 置主體ll內(nèi)的硅粉末供給口 15。該硅粉末供給口上連接有載氣的導(dǎo)入 配管30，從進(jìn)料斗31向該載氣的導(dǎo)入配管30供給金屬硅粉末，經(jīng)由 硅粉末供給口 15供給到裝置主體11內(nèi)。進(jìn)料斗31上連接有后述的旋 風(fēng)分離器33,并連接有從外部供給金屬硅粉末的硅粉末供給線40。
此外，在裝置主體11的頂板14上設(shè)有將因反應(yīng)生成的三氯硅烷 的氣體取出到外部的氣體取出口 17。
在該裝置主體11的下側(cè)設(shè)有用于將氯化氫氣體導(dǎo)入到裝置主體11 內(nèi)部的氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)20。
氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)20包括儲(chǔ)存氯化氫氣體的氣體室21、和將氯化氫氣 體供給到氣體室21內(nèi)的氣體供給口 22。在此，由裝置主體11的底板 部13將氣體室21與裝置主體11內(nèi)部隔開(kāi)。
并且，如圖4所示，在裝置主體11的底板部13上設(shè)有本實(shí)施方式 的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1。對(duì)其進(jìn)行詳述，在裝置主體ll的底板部 13上設(shè)有安裝孔13C，氯化氬氣體噴出用構(gòu)件1的軸部2插入該安裝 孔13C,該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1的頭部3配置在底板部13的上表 面13A上。螺母25從底板部13的下表面13B側(cè)旋入到形成在軸部2 上的外螺紋部2A上，用螺母25和頭部3夾入底板部13而將其固定。 另外，在頭部3與底板部13的上表面13A之間設(shè)有墊圏26。此外，在 螺母25與底板部13的下表面13B之間設(shè)有墊圈26。由此，氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1的軸部2穿過(guò)底板部13而插入氣 體室21內(nèi)部，可裝卸地安裝于該底板部13上。此外，氯化氫氣體噴 出用構(gòu)件1的軸部2上連接有與供給孔4連通的均壓管27。
如上所述，本實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1固定在裝置11 的底板部13上，并且配置成，軸部2從底板部13向下方(沿裝置主 體ll的膛部12所形成的圓筒的軸線)延伸，且頭部3的上表面3A與 裝置主體11的底板部13的下表面13B平行。此外，軸部2的供給孔4 的下端向氣體室21內(nèi)開(kāi)口 ，另一方面，頭部3的噴出孔5向與裝置主 體11的膛部12所形成的圓筒的軸線正交的方向開(kāi)口。并且，從氣體 供給口 22供給到氣體室21內(nèi)的氯化氬氣體經(jīng)由氯化氫氣體噴出用構(gòu) 件l的供給孔4而從噴出孔5噴出到裝置主體11內(nèi)。氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)20 包括氣體供給口 22、氣體室21和氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1。
另外，在本實(shí)施方式中，如圖5所示，多個(gè)氯化氫噴出噴嘴l在 底板部13的上表面13A的整個(gè)面上以交錯(cuò)格子狀排列。
接著，對(duì)利用上述三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置IO的三氯硅烷制造方 法進(jìn)行說(shuō)明。
金屬硅粉末從硅粉末供給線40供給到進(jìn)料斗31，從該進(jìn)料斗31 經(jīng)閥32而被導(dǎo)入到載氣的導(dǎo)入配管30內(nèi)，并借助氣流移送而通過(guò)硅 粉末供給口 15供給到裝置主體11內(nèi)部。此時(shí)，將氯化氫氣體用作氣 流移送用的載氣。此外，以恒定壓力導(dǎo)入栽氣。
此外，利用氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)20將氯化氫氣體導(dǎo)入到裝置主體11內(nèi) 部。氯化氫氣體經(jīng)配置在裝置主體11的底板部13上的多個(gè)氯化氫氣 體噴出用構(gòu)件1而向裝置主體11內(nèi)噴出。由氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1 噴出的氯化氫氣體被導(dǎo)入到金屬硅粉末中。
如此，通過(guò)將氯化氫氣體噴出到裝置主體ll內(nèi)的金屬硅粉末中， 而使金屬硅粉末在裝置主體11內(nèi)流動(dòng)。金屬硅粉末一邊流動(dòng)一邊與氯 化氫氣體接觸，從而金屬硅粉末與氯化氫氣體在既定溫度下發(fā)生反應(yīng)， 生成三氯硅烷的氣體。
生成的三氯硅烷氣體從設(shè)于裝置主體11的頂板14上的氣體取出 口 17被取出而供給到后續(xù)工序。此外，在裝置主體11內(nèi)部未反應(yīng)的 金屬硅粉末與三氯硅烷的氣體一起從氣體取出口 17排出，被后續(xù)工序 的旋風(fēng)分離器33回收而供給到進(jìn)料斗31并導(dǎo)入到載氣的導(dǎo)入配管30內(nèi)，再次供給到裝置主體11內(nèi)。未被旋風(fēng)分離器33回收的金屬硅粉 末被后續(xù)工序的過(guò)濾器34除去。
本實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1包括呈大致圓柱狀的軸 部2、沿與軸部2的長(zhǎng)度方向(圖1中的上下方向)交叉的方向延伸的 頭部3，軸部2朝向裝置主體11的上下方向延伸地配置，設(shè)于軸部2 上的供給孔4也朝向裝置主體11的上下方向(裝置主體11的膛部12 所形成的圓筒的軸線方向)地配置.并且，與該供給孔4正交的噴出 孔5的開(kāi)口部在頭部3的側(cè)面開(kāi)口，因此，沒(méi)有噴出孔5的開(kāi)口部朝 向裝置主體11的上方的情況。因此，金屬硅粉末難以進(jìn)入噴出孔5， 可防止噴出孔5的堵塞。
由于多個(gè)噴出孔5形成為從供給孔4以放射狀延伸，因此可從一 個(gè)氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1向多個(gè)方向噴出氯化氫氣體，可使氯化氫 氣體在金屬硅粉末中廣闊分散來(lái)促進(jìn)反應(yīng)。由此，可進(jìn)一步促進(jìn)金屬 硅粉末與氯化氫氣體的反應(yīng)，提高三氯硅烷的生產(chǎn)效率。
此外，由于該氯化氬氣體噴出用構(gòu)件1可裝卸地安裝在裝置主體 11的底板部13上，因此，即使在長(zhǎng)時(shí)間使用而劣化的情況下，也可簡(jiǎn) 單進(jìn)行更換。此外，在萬(wàn)一發(fā)生噴出孔5堵塞的情況下，也可從裝置 主體11的底板部13取下該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1來(lái)進(jìn)行清潔，因 此維修保養(yǎng)非常容易。而且，由于氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1的頭部3 呈正六棱柱狀，因此可使其與扳手等作業(yè)用工具嚙合來(lái)進(jìn)行螺紋的旋 緊旋松，來(lái)簡(jiǎn)單地進(jìn)行裝卸。
此外，由于本實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1做成與所謂的 六角螺栓相同的形狀，因此通過(guò)對(duì)通用的六角螺栓實(shí)施開(kāi)孔加工，就
可制作出該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1,可降低該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件 1的制作成本。
另外，在本實(shí)施方式中，氯化氫氣體噴出用構(gòu)件1的軸部2上連 接有與供給孔4連通的均壓管27,因此可使從噴出孔5噴出的氯化氫 氣體的壓力均勻。
以上，對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件進(jìn)行了說(shuō)明， 但本發(fā)明不限于此，在不脫離本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思的范圍內(nèi)可進(jìn)行適當(dāng) 變更。
例如，在本實(shí)施方式中，說(shuō)明的是噴出孔與供給孔的延伸方向正交的情況，但不限于此，為了在安裝于裝置主體的底板部的狀態(tài)下開(kāi) 口部不向裝置主體上方開(kāi)口 ，只要與供給孔交叉即可。
此外，說(shuō)明了形成六角螺栓形狀而形成6個(gè)噴出孔的情況，但噴 出孔的數(shù)量沒(méi)有限定。優(yōu)選的是考慮氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的配置、 裝置主體的形狀而適當(dāng)設(shè)計(jì)。
圖6~圖11表示氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的第2~第4實(shí)施方式。任 一實(shí)施方式都是頭部的形狀與第1實(shí)施方式不同、軸部與第1實(shí)施方 式相同，因此，標(biāo)注相同附圖標(biāo)記省略iJL明。其他與第1實(shí)施方式共 通的供給孔、噴出孔，也標(biāo)注相同附圖標(biāo)記。圖6和圖7所示的氯化 氫氣體噴出用構(gòu)件51中，其頭部52在俯視時(shí)形成為正方形，上表面 52A形成為與長(zhǎng)度方向正交的平面，并且與供給孔4正交的四個(gè)噴出 孔5分別在頭部52的各側(cè)面52B上開(kāi)口。圖8和圖9所示的氯化氫氣 體噴出用構(gòu)件53中，其頭部54在俯視時(shí)為將圓形的兩側(cè)部相互平行 地切除的形狀，上表面54A形成為與長(zhǎng)度方向正交的平面，但側(cè)面則 形成有一對(duì)圓弧狀側(cè)面54B和一對(duì)平面狀側(cè)面54C。此外，與供給孔4 正交的四個(gè)噴出孔5分別在頭部54的圓弧狀側(cè)面54B上開(kāi)口。此外， 圖IO和圖11所示的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件55中，其頭部56形成為半 球狀，做成其兩側(cè)部的一部分被相互平行地切除的形狀。因此，頭部 56的上表面56A形成為半球面， 一對(duì)平面狀側(cè)面56B形成為與長(zhǎng)度方 向平行。并且，與供給孔4傾斜交叉的四個(gè)噴出孔5在半球狀的上表 面56A上傾斜朝上地開(kāi)口 。
無(wú)論哪個(gè)氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，都具有其頭部的平面部分(圖6 和圖7中為各側(cè)面52B，圖8和圖9中為平面狀側(cè)面54C，圖10和圖 11中為平面狀側(cè)面56B)，通過(guò)與扳手等工具嚙合而進(jìn)行螺紋的旋緊 旋;^，可相對(duì)于底板部進(jìn)行裝卸。
此外，作為氯化氫氣體噴出用構(gòu)件的頭部形狀，除了上述形狀之 外，也可以是俯視呈三角形等，只要在側(cè)面上形成可與工具嚙合的平 面即可。
權(quán)利要求
1. 一種氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，在使氯化氫氣體與金屬硅粉末發(fā)生反應(yīng)來(lái)生成三氯硅烷的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置中使用，該氯化氫氣體噴出用構(gòu)件具有朝向長(zhǎng)度方向延伸的軸部、和沿與該軸部的上述長(zhǎng)度方向交叉的方向延伸的頭部，上述軸部上設(shè)有朝向上述長(zhǎng)度方向延伸的供給孔，上述頭部上形成有多個(gè)噴出孔，各噴出孔與上述供給孔連通，并且沿與上述供給孔的延伸方向交叉的方向延伸而在上述頭部的外表面開(kāi)口。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，其特征在于， 上述軸部上形成有螺紋部。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，其特征在于， 多個(gè)上述噴出孔形成為從上述供給孔以放射狀延伸。
4. 一種三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置，使氯化氫氣體與金屬硅粉末發(fā) 生反應(yīng)來(lái)生成三氯珪烷，該三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置具有被供給上述金屬硅粉末的裝置主 體、從該裝置主體的底部側(cè)將上述氯化氫氣體向上述裝置主體內(nèi)導(dǎo)入 的氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)，該氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)的如權(quán)利要求1所迷的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件貫 穿上述裝置主體的底板部而可裝卸地安裝，上述頭部配置在上述底板 部上方。
5. —種三氯硅烷制造方法，使氯化氫氣體與金屬硅粉末發(fā)生反應(yīng) 來(lái)生成三氯硅烷，在被供給上述金屬硅粉末的裝置主體的底板部上安裝權(quán)利要求1 所述的氯化氫氣體噴出用構(gòu)件，將上述頭部配置在上述底板部上方，向上述裝置主體的下部一邊供給金屬硅粉末， 一邊從上述氯化氫 氣體噴出用構(gòu)件的上述噴出孔噴出氯化氫氣體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種氯化氫氣體噴出用構(gòu)件、三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置以及三氯硅烷制造方法，氯化氫氣體噴出用構(gòu)件(1)在使氯化氫氣體與金屬硅粉末發(fā)生反應(yīng)來(lái)生成三氯硅烷的三氯硅烷制造用反應(yīng)裝置中使用，具有朝向長(zhǎng)度方向延伸的軸部(2)、和沿與該軸部(2)的上述長(zhǎng)度方向交叉的方向延伸的頭部(3)，軸部(2)上設(shè)有朝向上述長(zhǎng)度方向延伸的供給孔(4)，頭部(3)上形成有多個(gè)噴出孔(5)，噴出孔(5)與供給孔(4)連通，并且沿與供給孔(4)的延伸方向交叉的方向延伸而在頭部(3)外表面開(kāi)口。
文檔編號(hào)C01B33/00GK101417805SQ200810170599
公開(kāi)日2009年4月29日 申請(qǐng)日期2008年10月23日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月25日
發(fā)明者稻葉力 申請(qǐng)人:三菱麻鐵里亞爾株式會(huì)社