技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種具有(004)晶面擇優(yōu)的銦錫氧化物薄膜材料的制備方法，屬于表面加工、涂層領(lǐng)域。所述制備方法為：利用磁控濺射的方法得到具有(004)晶面擇優(yōu)的體心立方鐵錳礦相多晶銦錫氧化物薄膜材料，所述磁控濺射的功率密度為4.8?8.0W/cm2。本發(fā)明通過控制磁控濺射過程中銦錫氧化物靶表面磁控濺射的功率密度，得到具有不同擇優(yōu)取向的銦錫氧化物薄膜材料，實現(xiàn)銦錫氧化物薄膜材料擇優(yōu)取向的可調(diào)控。
技術(shù)研發(fā)人員：丁萬昱;呂智軒;劉金東;王登堯
受保護的技術(shù)使用者：大連交通大學(xué)
文檔號碼：201610854436
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.27
技術(shù)公布日：2017.01.04