本申請的發(fā)明涉及印刷基板制造用的曝光裝置，特別涉及具備一邊糾正基板的變形一邊進(jìn)行曝光的功能的曝光裝置。
背景技術(shù)：
：：印刷基板搭載于便攜電話或個(gè)人計(jì)算機(jī)等電子設(shè)備中。這些電子設(shè)備為了進(jìn)行小型輕量化，要求提高形成在基板上的圖案的集成度，電路要素和圖案的微細(xì)化得到進(jìn)展。在進(jìn)行圖案向印刷基板的形成的光刻法中，存在對于涂敷在基板上的抗蝕劑而形成電路圖案等規(guī)定的圖案的曝光工序，使用了曝光裝置。曝光裝置為了在基板的規(guī)定的位置進(jìn)行電路圖案等規(guī)定的圖案的轉(zhuǎn)印，需要將基板相對于進(jìn)行曝光的光學(xué)系統(tǒng)配置在正確的位置。因此，采用在相對于光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置的基臺(tái)(table)上的規(guī)定的位置處載置基板、并在曝光中以保持該位置的方式將基板真空吸附到基臺(tái)上的機(jī)構(gòu)。專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1日本特開2009－109553號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開2011－81156號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3日本專利4589198號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：在采用了上述那樣的將基板真空吸附到基臺(tái)上的機(jī)構(gòu)的印刷基板用曝光裝置中，要求即使對于發(fā)生了翹曲或應(yīng)變這樣的變形的基板也正確地進(jìn)行曝光。基板的翹曲或應(yīng)變這樣的變形因幾個(gè)要因而發(fā)生。其一，可以舉出為了電子設(shè)備的小型輕量化而采用非常薄的基板。由聚酰亞胺、聚酯等形成的較薄的柔性基板存在容易受到前工序中的熱處理的影響、若從橫向觀察則彎曲或像波浪那樣彎曲的情況。并且，即使是像環(huán)氧玻璃那樣的剛性基板的情況，在基板為多層構(gòu)造的情況下，也由于原料間的熱膨脹系數(shù)的不同等而隨著重復(fù)用于層疊的處理容易在基板的周邊部發(fā)生翹曲或應(yīng)變。在使用曝光裝置的用戶的角度，期望的是，即使是如此產(chǎn)生變形的基板，也想要將電路圖案等規(guī)定的圖案曝光。在對上述那樣的變形后的基板的曝光中成為問題的是，真空吸附的錯(cuò)誤。這是在使變形后的基板載置于基臺(tái)而進(jìn)行真空吸附的情況下，在變形的部位出現(xiàn)真空泄露，因此變得不能充分地吸附的錯(cuò)誤。若產(chǎn)生吸附錯(cuò)誤，則有在曝光中基板發(fā)生錯(cuò)位的情況，所以通常，裝置的動(dòng)作停止，曝光處理被中斷。由此，提出了幾個(gè)在真空吸附時(shí)將基板按壓在基臺(tái)上的技術(shù)。其中，專利文獻(xiàn)1公開了在基板被真空吸附時(shí)成為以包圍基板的方式配置襯墊的狀態(tài)、并利用襯墊成為密閉空間而使密閉空間內(nèi)抽真空的構(gòu)造。在該構(gòu)造中，將基板按壓在基臺(tái)上的機(jī)構(gòu)在曝光時(shí)被卸除，因此翹曲的彈性較強(qiáng)的基板有在曝光時(shí)發(fā)生真空吸附錯(cuò)誤的情況。并且，由于基板被直接曝露在真空中，所以在基板的表面設(shè)有保護(hù)膜的情況下，也考慮其剝離或在保護(hù)膜的內(nèi)側(cè)產(chǎn)生氣泡。并且，專利文獻(xiàn)2中公開了以將被真空吸附的基板的周邊部覆蓋的狀態(tài)配置基板固定片(聚酯片)，通過基板的真空吸附時(shí)的吸引力來使該片彈性變形的技術(shù)。該構(gòu)造需要按照基板的形狀來設(shè)計(jì)夾緊機(jī)構(gòu)，為了使其與多種基板尺寸相對應(yīng)，需要在曝光基臺(tái)上單獨(dú)設(shè)計(jì)夾緊機(jī)構(gòu)，使得成本提高。并且，基板的尺寸不同的情況下需要進(jìn)行片的更換，但專利文獻(xiàn)2的片被機(jī)械地夾緊，因此更換不容易。進(jìn)而，可以認(rèn)為由于基板被暴露在真空中，因此產(chǎn)生與上述相同的問題。并且，專利文獻(xiàn)3中公開了通過具有彈性部件的邊框狀的固定夾具來按壓基板的周邊部的技術(shù)。在構(gòu)造中，固定夾具的按壓用的吸引是與將基板吸附在基臺(tái)上的吸引完全相同的系統(tǒng)。因此，在用于將基板吸附于基臺(tái)的真空產(chǎn)生了較大的泄露的情況下，有固定夾具將基板的周邊按壓在基臺(tái)上的力變?nèi)醵荒軐⒒逦皆诨_(tái)上的情況。特別是，在剛性較高的基板上產(chǎn)生變形的情況下難以矯正變形。本申請的發(fā)明是為了解決上述的各課題而做出的，其目的在于，在印刷基板用曝光裝置中，不會(huì)利用將基板真空吸附于基臺(tái)的力或?qū)⒒宓闹苓叢勘┞队谡婵罩卸軌蛟谄毓庵袑⒅苓叢肯蚧_(tái)按壓，并且對于厚度不同的基板也能夠容易地對應(yīng)。為了解決上述課題，本申請的技術(shù)方案1記載的發(fā)明是一種印刷基板用曝光裝置，具備：載置基板的基臺(tái)；和對載置在基臺(tái)上的基板照射形成規(guī)定的圖案的曝光光的曝光系統(tǒng)，該印刷基板用曝光裝置具有如下構(gòu)成：設(shè)有將基板真空吸附到基臺(tái)上的真空吸附機(jī)構(gòu)、和將載置在基臺(tái)上的基板的周邊部向基臺(tái)按壓的按壓機(jī)構(gòu)，按壓機(jī)構(gòu)具備不遮擋對基板形成規(guī)定的圖案的曝光光的形狀的框體、和通過將框體以在其與基臺(tái)之間夾入有基板的周邊部的狀態(tài)朝向基臺(tái)按壓從而將基板的周邊部向基臺(tái)按壓的驅(qū)動(dòng)部，框體具有在偏離基板的位置形成密閉空間的構(gòu)造，并且在對基板進(jìn)行用于形成規(guī)定的圖案的曝光光的照射時(shí)，驅(qū)動(dòng)部將該密閉空間抽真空，從而將基板的周邊部向基臺(tái)按壓，上述印刷基板用曝光裝置設(shè)有控制曝光系統(tǒng)以及按壓機(jī)構(gòu)的控制部，控制部在向基板進(jìn)行形成規(guī)定的圖案的曝光光的照射的期間，也進(jìn)行使按壓機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)部動(dòng)作的控制。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案2記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案1的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：在朝向上述基臺(tái)按壓的上述框體的面對上述基臺(tái)側(cè)的面上，設(shè)有具有彈性的周狀封固部件，周狀封固部件為在偏離上述基板的位置處抵接于上述基臺(tái)而形成上述密閉空間的形狀。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案3記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案1的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：上述基臺(tái)的面對被按壓的上述框體的面上，設(shè)有具有彈性的周狀封固部件，周狀封固部件為在偏離上述基板的位置處抵接于上述框體而形成上述密閉空間的形狀。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案4記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案2或3的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：上述周狀封固部件是管狀。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案5記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案1～4中任一項(xiàng)的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：設(shè)定有待機(jī)位置，該待機(jī)位置為上述基板向上述基臺(tái)的送入以及上述基板從上述基臺(tái)的送出時(shí)上述框體所處的位置，設(shè)有使上述框體在動(dòng)作位置與待機(jī)位置之間反復(fù)移動(dòng)的框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，上述動(dòng)作位置是將上述框體以夾入了上述基板的周邊部的狀態(tài)向基臺(tái)按壓的位置。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案6記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案5的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：上述基板的輸送機(jī)構(gòu)被兼用于上述框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案7記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案5或6的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：上述框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)是一邊將上述框體真空吸附并保持一邊使上述框體移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。并且，為了解決上述課題，技術(shù)方案8記載的發(fā)明在上述技術(shù)方案6或7的構(gòu)成中具有如下構(gòu)成：上述基板的輸送機(jī)構(gòu)具備將上述基板吸附并保持的基板用吸附墊，上述框體具有供該基板用吸附墊插通的切口。如以下所說明的那樣，根據(jù)本申請的技術(shù)方案1記載的發(fā)明，曝光時(shí)，基板被真空吸附到基臺(tái)，并且基板的周邊部通過框體被按壓到基臺(tái)。此時(shí)，框體上通過所形成的密閉空間的真空壓力而被施加朝向基臺(tái)的力。該真空壓力能夠通過獨(dú)立于用于將基板向基臺(tái)吸附的系統(tǒng)的系統(tǒng)來供給，因此即使在基板與基臺(tái)之間產(chǎn)生泄露，也能夠向框體施加較強(qiáng)的按壓力。由此，即使是在剛性較高的基板上產(chǎn)生變形的情況，也能夠在曝光中將基板可靠地保持在基臺(tái)上。并且，密閉空間形成在偏離基板的位置，從而這里的真空壓力不會(huì)直接作用于基板。并且，根據(jù)技術(shù)方案2或3記載的發(fā)明，除了上述效果以外，通過具有彈性的周狀封固部件形成閉空間，從而按壓力柔和地作用。并且，根據(jù)技術(shù)方案4記載的發(fā)明，除了上述效果以外，由于周狀封固部件是管狀，所以按壓時(shí)的壓力的調(diào)整變得容易，并且對于厚度不同的基板也能夠容易地按壓。并且，根據(jù)技術(shù)方案5記載的發(fā)明，除了上述效果以外，由于設(shè)有框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所以在基板向基臺(tái)的載置和基板從基臺(tái)的卸除時(shí)能夠使框體退避，不需要使基臺(tái)大規(guī)模地移動(dòng)，從而在這點(diǎn)上機(jī)構(gòu)上得到簡化。并且，根據(jù)技術(shù)方案6記載的發(fā)明，除了上述效果以外，通過基板的輸送機(jī)構(gòu)兼用作框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，從而在這點(diǎn)上裝置的構(gòu)造和動(dòng)作得到簡化。并且，根據(jù)技術(shù)方案7記載的發(fā)明，除了上述效果以外，由于輸送帶一邊將框體吸附保持一邊使其移動(dòng)，所以有容易在基板的曝光時(shí)由輸送帶將框體剝離并退避、并且框體的更換變得容易的效果。并且，根據(jù)技術(shù)方案8記載的發(fā)明，除了上述效果以外，框體具有供基板用吸附墊插通的切口，所以有不使構(gòu)造復(fù)雜化而能夠以充分的吸附力進(jìn)行基板的保持的效果。附圖說明圖1是實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的正面剖面概略圖。圖2是圖1的曝光裝置的主要部分的俯視概略圖。圖3是框體的立體概略圖。圖4是關(guān)于實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的動(dòng)作而示出的正面剖面概略圖。圖5是關(guān)于實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的動(dòng)作而示出的正面剖面概略圖。圖6是關(guān)于實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的動(dòng)作而示出的正面剖面概略圖。圖7是關(guān)于按照基板的尺寸準(zhǔn)備的各框體的一例而示出的立體概略圖。標(biāo)號(hào)說明1基臺(tái)100升降機(jī)構(gòu)11吸附孔12基板用排氣通路13框體用排氣孔14框體用排氣通路2曝光系統(tǒng)3真空吸附機(jī)構(gòu)41第一輸送機(jī)42第二輸送機(jī)51第一輸送帶512基板用吸附墊514框體用吸附墊52第二輸送帶522基板用吸附墊6按壓機(jī)構(gòu)61框體611切口62周狀封固部件63框體用排氣管65壓力調(diào)整閥具體實(shí)施方式接著，說明用于實(shí)施本申請發(fā)明的形態(tài)(以下為實(shí)施方式)。圖1是實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的正面剖面概略圖，圖2是圖1所示的印刷基板用曝光裝置的主要部分的俯視概略圖。實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置具備載置基板s的基臺(tái)1、和向載置于基臺(tái)1上的基板s照射用于形成電路等圖案的曝光光的曝光系統(tǒng)2。圖2為載置有基板s的狀態(tài)下的基臺(tái)1的俯視概略圖。如圖2所示，基臺(tái)1是俯視方形的臺(tái)狀的部件?；_(tái)1的水平的上表面為基板s的載置面，在載置面上以均等間隔設(shè)有多個(gè)吸附孔11。此外，設(shè)有通過經(jīng)由各吸附孔11抽真空從而將基板s吸附于基臺(tái)1的真空吸附機(jī)構(gòu)3?；_(tái)1與排氣管(以下為基板用排氣管)31連接，基板用排氣管31通過設(shè)置于基臺(tái)1內(nèi)的基板用排氣通路12而與各吸附孔11連通?；逵门艢夤?1上設(shè)有開閉閥32和壓力調(diào)整閥33。在基臺(tái)1的兩側(cè)設(shè)有輸送機(jī)41、42。輸送機(jī)41、42用于基板相對于基臺(tái)1s的送入、送出，可以將任意一側(cè)作為送入用、送出用。以下，為了方便說明，將右側(cè)的輸送機(jī)41設(shè)為第一輸送機(jī)，將左側(cè)的輸送機(jī)42設(shè)為第二輸送機(jī)。作為與各輸送機(jī)41、42協(xié)作動(dòng)作的部件，在基臺(tái)1的兩側(cè)設(shè)有輸送帶51、52。關(guān)于輸送帶51、52，也能夠?qū)⑷我庖粋€(gè)設(shè)為送入側(cè)，將任意一個(gè)設(shè)為送出側(cè)。以下，為了方便說明，將右側(cè)的輸送帶51設(shè)為第一輸送帶，將左側(cè)的輸送帶52設(shè)為第二輸送帶。各輸送帶51、52具備框511、521和安裝于框511、521的基板用吸附墊512、522。各框511、521設(shè)置有輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513、523。輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513、523的細(xì)節(jié)省略圖示，但為能夠使框511、521沿輸送方向(圖1的紙面上左右方向)直線移動(dòng)而位于規(guī)定位置并且沿上下方向移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。裝置具備未圖示的控制部，各輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513、523通過未圖示的控制部控制?；逵梦綁|512、522沿著基板s的周緣設(shè)有多個(gè)。各基板用吸附墊512、522連接著未圖示的基板用吸引源。基板用吸引源的接通斷開也同樣通過未圖示的控制部控制。曝光系統(tǒng)2配置在基臺(tái)1的上方。實(shí)施方式的曝光裝置不特別選擇曝光的方式，能夠采用投影曝光、接觸或接近式曝光、進(jìn)而di(直接成像)曝光的任意一種方式。例如投影曝光的情況下，曝光系統(tǒng)2由光源、被照射來自光源的光的掩模、以及將掩模的像進(jìn)行基臺(tái)1上的投影的投影透鏡等構(gòu)成。di曝光的情況下，采用設(shè)有多個(gè)具備激光光源、和對來自激光光源的光進(jìn)行空間調(diào)制而形成圖案的dmd(digitalmirrordevice)那樣的空間調(diào)制元件的曝光單元的構(gòu)成。這種實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置為了可靠地進(jìn)行真空吸附機(jī)構(gòu)對基板s的吸附，具備將載置在基臺(tái)1上的基板s的周邊部按壓在基臺(tái)1上的按壓機(jī)構(gòu)6。按壓機(jī)構(gòu)6具備框體61、和以在中間夾入有基板s的周邊部的狀態(tài)將框體61朝向基臺(tái)1按壓從而將基板s的周邊部按壓在基臺(tái)1上的驅(qū)動(dòng)部。并且，設(shè)有使框體61在動(dòng)作位置與規(guī)定的待機(jī)位置之間反復(fù)移動(dòng)的框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述動(dòng)作位置為使框體61以夾入有基板s的周邊部的狀態(tài)按壓于基臺(tái)1的位置。本實(shí)施方式中，基板s的送入送出用的第一輸送帶51和其輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513被兼用作框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)。參照圖3來更具體地說明框體61。圖3是框體61的立體概略圖。如圖3所示，框體61是方形的邊框狀。框體61的內(nèi)緣的尺寸比基板s的輪廓稍小。在內(nèi)緣的相面對的邊上設(shè)有多個(gè)大致半圓狀的切口611。該切口611是用于避免與基板用吸附墊512的干擾的形狀。如圖1所示，第一輸送帶51上設(shè)有多個(gè)框體用吸附墊514。各框體用吸附墊514設(shè)置于在更靠外緣的位置吸附框體61的位置。各框體用吸附墊514連接著未圖示的框體用吸附源。框體61具有在遠(yuǎn)離載置于基臺(tái)1的基板s的位置處形成密閉空間的構(gòu)造。具體說明的話，在框體61的下表面(面向基臺(tái)1側(cè)的面)設(shè)有具有彈性的周狀封固部件62。周狀封固部件62在偏離基板s的位置設(shè)置在與基臺(tái)1抵接的位置。周狀封固部件62在本實(shí)施方式中為管狀的部件，作為材質(zhì)為硅橡膠那樣的樹脂制。如圖2所示，周狀封固部件62為大致方形，尺寸較小者較大者設(shè)置在同心上。各周狀封固部件62的形狀為與框體61的內(nèi)緣的形狀大致相似的形狀，為與基板s的輪廓大致相似的形狀。這種大小一對的周狀封固部件62相互間的空間為密閉空間，使其為真空壓力。即，框體61如后所述以夾入有基板s的狀態(tài)相對于基臺(tái)1被按壓。如圖1所示，基臺(tái)1中的臨近框體61的部位處，形成有框體用排氣孔13?？蝮w61的驅(qū)動(dòng)部為從該框體用排氣孔13進(jìn)行真空吸引的機(jī)構(gòu)?？蝮w用排氣孔13通過與基板用的吸附孔11獨(dú)立的系統(tǒng)的框體用排氣通路14進(jìn)行排氣，由一對周狀封固部件62、框體61、和基臺(tái)1形成的密閉空間被排氣成真空。所謂密閉空間意思是，除去吸引用的開口之外封閉的空間。另外，與框體用排氣通路14連接的框體用排氣管63最終與基板用排氣管31一起連接于未圖示的真空泵，但這之前為獨(dú)立的排氣管，在框體用排氣管63上也設(shè)有開閉閥64以及壓力調(diào)整閥65。并且，基臺(tái)1上設(shè)有升降機(jī)構(gòu)100。升降機(jī)構(gòu)100除了在基板s的交接時(shí)被驅(qū)動(dòng)以外，也出于調(diào)節(jié)基板s對于曝光系統(tǒng)2的距離的目的而使用。升降機(jī)構(gòu)100由含有伺服電機(jī)的直動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成，通過控制部控制。接著，參照圖4～圖7來說明這種實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的動(dòng)作。圖4～圖6是表示實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置的動(dòng)作的正面剖面概略圖。以下的說明中，作為一例，使第一輸送機(jī)41以及第一輸送帶51為送入用、使第二輸送機(jī)42以及第二輸送帶52為送出用。并且，作為一例，使第一輸送帶51兼用于框體61的移動(dòng)。如圖4(1)所示，第一輸送帶51以保持著框體61的狀態(tài)待機(jī)在第一輸送機(jī)41之上的規(guī)定的待機(jī)位置。并且，第二輸送帶52待機(jī)在第二輸送機(jī)42之上的規(guī)定的待機(jī)位置。首先，第一輸送帶51進(jìn)行基板s的送入動(dòng)作。即，如圖4(2)所示，第一輸送帶51下降。此時(shí)的下降距離為使各基板用吸附墊512抵接于基板s的位置。若下降結(jié)束，則第一輸送帶51的基板用吸引源動(dòng)作，第一輸送機(jī)41上的基板s被吸附保持在第一輸送帶51上。該狀態(tài)下，如圖4(3)所示，輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513使第一輸送帶51上升。第一輸送帶51以保持著基板s以及框體61的狀態(tài)停止在規(guī)定的上升位置。此外，如圖4(4)所示，輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513使第一輸送帶51水平移動(dòng)，使其位于基臺(tái)1的上方的規(guī)定位置。然后，升降機(jī)構(gòu)100動(dòng)作，基臺(tái)1上升規(guī)定距離。如圖5(1)所示，該距離是使基板s抵接于基臺(tái)1的上表面(載置面)、使框體61的各周狀封固部件62也抵接于基臺(tái)1的距離。之后，控制部向第一輸送帶51中的基板用吸附源512以及框體用吸附源發(fā)送控制信號(hào)，使各個(gè)動(dòng)作停止。在此基礎(chǔ)上，控制部向真空吸附機(jī)構(gòu)3中的基板用排氣管31上的開閉閥32、框體用排氣管63上的開閉閥64發(fā)送控制信號(hào)，使它們分別成為打開狀態(tài)。其結(jié)果，通過從基板用吸附孔11抽真空，基板s被真空吸附。并且，由一對周狀封固部件62形成的密閉空間由于來自框體用排氣孔13的抽真空而成為真空壓力。其結(jié)果，框體61被以在其與基臺(tái)1中間夾入有基板s的周邊部的狀態(tài)朝向基臺(tái)1被按壓。即，框體61成為內(nèi)側(cè)的邊緣被向下方彎曲的剖面形狀，該被彎曲的部分的前端抵接于基板s的周邊部，成為將該周邊部按壓于基臺(tái)1的狀態(tài)。此外，此時(shí)作為彈性體的周狀封固部件62成為稍微被壓變形那樣的狀態(tài)。在基于上述各吸附墊的吸附的解除、基板s的真空吸附以及框體61的吸引的同時(shí)，控制部向升降機(jī)構(gòu)100發(fā)送控制信號(hào)而使升降機(jī)構(gòu)100下降規(guī)定距離。其結(jié)果，基臺(tái)1如圖5(2)所示那樣返回到最初的高度。該高度是成為所設(shè)定的曝光距離的高度。另外，輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513將第一輸送帶51返回到最初的待機(jī)位置。該狀態(tài)下，如圖5(3)所示，曝光系統(tǒng)2動(dòng)作，對于基臺(tái)1上的基板s照射規(guī)定的圖案的光而進(jìn)行曝光。若規(guī)定時(shí)間的曝光結(jié)束，則如圖5(4)所示，控制部向輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513發(fā)送控制信號(hào)，使處于待機(jī)位置的第一輸送帶51移動(dòng)到基臺(tái)1的上方的規(guī)定位置后，使其下降規(guī)定距離，成為第一輸送帶51的框體用吸附墊514抵接于框體61的狀態(tài)。第一輸送帶51在下降到該位置后，控制部使第一輸送帶51的框體用吸附源動(dòng)作?；逵梦皆床粍?dòng)作，基板s不被向第一輸送帶51吸附。與框體用吸附源的動(dòng)作同時(shí)地，控制部關(guān)閉框體用排氣管63上的開閉閥64，打開未圖示的大氣開放閥。其結(jié)果，由一對周狀封固部件62產(chǎn)生的密閉空間內(nèi)的壓力返回到大氣壓，由框體61產(chǎn)生的對基板s的周邊部的按壓被解除。另外，基板用排氣管31的開閉閥32保持打開，基板s的真空吸附不被解除。該狀態(tài)下，控制部向輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513發(fā)送控制信號(hào)，使第一輸送帶51上升，之后，使其水平移動(dòng)，如圖6(1)所示返回到最初的待機(jī)位置。第一輸送帶51在待機(jī)位置處確保吸附保持著框體61的狀態(tài)。之后，控制部向輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)523發(fā)送控制信號(hào)，在使第二輸送帶52移動(dòng)到基臺(tái)1的上方的規(guī)定位置后使其下降規(guī)定距離，如圖6(2)所示，成為第二輸送帶52的基板用吸附墊522抵接于基板s的狀態(tài)。該狀態(tài)下，控制部使第二輸送帶52的基板用吸附源動(dòng)作而吸附基板s。此外，控制部將基板用排氣管31的開閉閥32關(guān)閉而將吸附孔11對大氣解放，將基臺(tái)1上的基板s的真空吸附解除。由此，基板s的真空吸附被從基臺(tái)1切換為第二輸送帶52。此時(shí)，也有經(jīng)由基板用排氣管31向吸附孔11瞬間提供正壓而促進(jìn)從真空壓力向大氣壓恢復(fù)的情況。此外，輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)523使第二輸送帶52上升后，使其水平移動(dòng)，如圖6(3)所示，返回到最初的待機(jī)位置。之后，輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)523使第二輸送帶52下降規(guī)定距離，如圖6(4)所示成為基板s載置于第二輸送機(jī)42的狀態(tài)。此外，控制部在使第二輸送帶52的基板用吸附源的動(dòng)作停止后，使第二輸送帶52上升而返回到待機(jī)位置。由此，成為對一枚基板s的一系列的處理結(jié)束的狀態(tài)。第二輸送機(jī)42進(jìn)行將處理完成的基板s向接下來的工序輸送的動(dòng)作，并且接下來的基板s被送入第一輸送機(jī)41。此外，對于接下來的基板s反復(fù)進(jìn)行相同的動(dòng)作。另外，根據(jù)上述說明可知，框體61一邊在第一輸送帶51的待機(jī)位置與基臺(tái)1上的將基板s的周邊部按壓于基臺(tái)1的位置之間進(jìn)行往返移動(dòng)，一邊被反復(fù)利用于基板s的曝光處理。根據(jù)上述說明可知，通過實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置，在曝光時(shí)，基板s被真空吸附于基臺(tái)1，并且基板s的周邊部通過框體61被按壓于基臺(tái)1。此時(shí)，框體61通過由一對周狀封固部件62形成的密閉空間的真空壓力而被施加朝向基臺(tái)1的力。由此，按壓力的調(diào)整是容易的。即，通過設(shè)置在框體用排氣管63上的壓力調(diào)整閥65而設(shè)為適當(dāng)?shù)膲毫κ侨菀椎?。根?jù)場合，也能夠通過控制部來自動(dòng)控制壓力。并且，如圖1等所示，用于框體61的朝向基臺(tái)1的按壓的真空壓力的空間是與基板s所處的空間隔絕的空間，基板s不會(huì)被直接暴露于這里的真空壓力。從而，基板s的保護(hù)膜的剝離和氣泡發(fā)生這樣的問題在本實(shí)施方式中不會(huì)發(fā)生。并且，由于通過具有彈性的周狀封固部件62形成密閉空間，因此按壓力對于基板s的作用的方式變得柔軟。即使是由不是彈性部件的材料形成密閉空間而進(jìn)行真空排氣的構(gòu)造，也能夠產(chǎn)生按壓框體61的程度的壓力，但實(shí)施方式的構(gòu)造能夠柔和地施加按壓力。并且，本實(shí)施方式中，一對周狀封固部件62成為管狀。這點(diǎn)有使按壓時(shí)的壓力的調(diào)整變得容易的意義，并且有對于厚度不同的基板s也能夠容易地進(jìn)行按壓的意義。作為周狀封固部件62，可以是線狀或繩狀的彈性體而不是管狀(內(nèi)部已填塞者)。例如，也能夠使用橡膠繩狀者或海綿狀者。但是，如上所述，周狀封固部件62具有通過真空排氣而被壓縮的同時(shí)確保封固狀態(tài)、并且使彈性起作用以對抗由真空壓力產(chǎn)生的框體61向基板s的按壓壓力而調(diào)節(jié)按壓壓力的功能。若基板s的厚度變厚，則使用周狀封固部件62的剖面積較大(剖面的高度較高)者，但相反若想要對較薄的基板s進(jìn)行按壓，則為了使枠體61抵接于基板s的周邊部，需要相當(dāng)?shù)膲嚎s，有框體61不能抵接于基板s的周邊部、或即使能夠抵接也導(dǎo)致由彈性產(chǎn)生的回彈力過剩的問題。因此，產(chǎn)生需要按照基板s的厚度來更換周狀封固部件62的需要。另一方面，若是管狀的部件，則即使設(shè)為與較厚的基板s相應(yīng)的口徑，也能使從較厚的基板s到較薄的基板s作用比較均勻的回彈力而被壓縮。因此，對于厚度不同的基板s也能夠不需更換地進(jìn)行使用。另外，周狀封固部件62也可以是不為一對的情況。例如，使用一個(gè)剖面為凹狀而以周狀連續(xù)的形狀的部件，也能同樣進(jìn)行。并且，由于設(shè)有框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)，因此能夠在基板s向基臺(tái)1的載置或基板s從基臺(tái)1的移走時(shí)使框體61退避。在框體61的位置為固定的情況下，需要有使基臺(tái)1在暫時(shí)向下方移動(dòng)后沿橫向移動(dòng)這樣的大規(guī)模的基臺(tái)1的移動(dòng)機(jī)構(gòu)，但實(shí)施方式的構(gòu)成中不需要這樣的機(jī)構(gòu)，因此機(jī)構(gòu)上得到簡化。另外，根據(jù)上述說明可知，吸附保持基板s并進(jìn)行輸送動(dòng)作的手部(hand)同時(shí)也具備將框體61吸附保持的功能，通過基板s的輸送機(jī)構(gòu)而兼用作框體移動(dòng)機(jī)構(gòu)。這點(diǎn)也有將裝置的構(gòu)造和動(dòng)作簡化的意義。在本申請發(fā)明的實(shí)施時(shí)，也可以用與吸附保持基板s的手部獨(dú)立的手部來吸附保持框體61并通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)該獨(dú)立的手部。但是，若這樣做則構(gòu)造和動(dòng)作變得復(fù)雜，有裝置成本上升或動(dòng)作時(shí)間變長的問題。若是兼用作基板用的手部來進(jìn)行框體61的吸附保持的構(gòu)成，則沒有這樣的問題。并且，輸送帶一邊吸附保持框體61一邊使框體61移動(dòng)這點(diǎn)有在基板s曝光時(shí)容易使輸送帶將框體61分開而進(jìn)行退避的意義。本申請發(fā)明的實(shí)施時(shí)，也可以是框體61相對于輸送帶不裝卸而是固定的。但是該情況下，由于這樣的輸送帶和其移動(dòng)機(jī)構(gòu)位于基板s的曝光中的基臺(tái)1的附近，因此需要設(shè)為不遮擋曝光，構(gòu)造上變得復(fù)雜。另一方面，在輸送帶吸附保持框體61的構(gòu)造中，輸送帶將吸附解除而能夠退避到任意的位置，因此構(gòu)造上變得簡略。在上述的實(shí)施方式的印刷基板用曝光裝置中，框體61按照要處理的基板s的尺寸而適當(dāng)更換。以下，參照圖7來說明這點(diǎn)。圖7是關(guān)于按照基板s的尺寸準(zhǔn)備的各框體61的一例而示出的立體概略圖。如圖7所示，本實(shí)施方式中，按照基板s的各尺寸準(zhǔn)備了不同的框體61，但各框體61的外側(cè)的輪廓是相同的尺寸形狀。此外，開口的尺寸形狀不同。即，開口為比要處理的基板s稍小尺寸形狀。此外，各框體61中，在開口的相面對的緣處同樣設(shè)有設(shè)有多個(gè)切口611。切口611是用于避免與基板用吸附墊512、522的干擾的切口611。對尺寸不同的基板s進(jìn)行處理的情況下，使保持著此前使用的框體61的第一輸送帶51下降規(guī)定距離，在將框體61置于第一輸送機(jī)41之上后，使框體用吸附源斷開。此外，在使第一輸送機(jī)41向上方退避后卸除框體61，將尺寸不同的基板用的框體61載置在第一輸送機(jī)41之上。此外，使第一輸送帶51下降，使框體用吸附墊514抵接于框體61后使框體用吸附源動(dòng)作并吸附。在此基礎(chǔ)上，使第一輸送帶51上升，并在待機(jī)位置待機(jī)。另外，上述框體61更換時(shí)，適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行框體61的吸附保持位置的對位。例如，可以考慮將表示各框體用吸附墊514的吸附位置的標(biāo)記事先設(shè)置在框體61的上表面上、將該標(biāo)記作為記號(hào)來進(jìn)行對位的方法。并且，上述這樣處理不同尺寸的基板s的情況下，各基板用吸附墊512、522在不同的位置將基板s吸附保持，從而使各基板用吸附墊512、522更換或變更位置。例如，可以考慮各基板用吸附墊512、522被安裝在保持件上、按照保持件來更換的構(gòu)造。能夠采用以保持件與固定在保持件上的各基板用吸附墊512、522為單元、將該單元相對于各輸送帶進(jìn)行更換的構(gòu)造。另外，基板用的輸送帶被兼用于框體61的移動(dòng)這點(diǎn)有上述那樣簡化構(gòu)造的意義，但此時(shí)，圖3和圖7所示的切口611也有不使構(gòu)造復(fù)雜化而能夠以充分的吸附力進(jìn)行基板s的保持的意義。即，框體61按住基板s的周邊部，從而開口的緣位于比基板s的周邊部靠內(nèi)側(cè)的位置。此時(shí)，在將基板用吸附墊512、522兼用于框體61的移動(dòng)的構(gòu)成中，無論如何會(huì)產(chǎn)生在輸送帶吸附保持框體61的狀態(tài)下由基板用吸附墊512、522吸附保持基板s的動(dòng)作，基板用吸附墊512、522不得不成為經(jīng)過框體61的開口而延伸并吸附基板s的構(gòu)造。該情況下，由于不能在基板s的電路形成部分進(jìn)行吸附保持、而是對周邊的余量(margin)部分進(jìn)行吸附保持，因此若沒有切口611則不得不成為設(shè)置多個(gè)非常小的吸附墊來吸附保持基板s的構(gòu)造。但是，該構(gòu)造是非實(shí)用的，吸附力也不能充分確保。若存在切口611，則能夠使用某種程度的大小的吸附墊來進(jìn)行基板s的吸附，另一方面。能夠以某種程度的面積確保框體61對基板s有按壓作用的部分。另外，上述實(shí)施方式中，基板用吸附墊512、522在基板s的周緣中的、相面對的一對邊的周緣上，設(shè)置在吸附基板s的位置，但也有在四個(gè)邊的周緣上設(shè)置在吸附基板s的位置的情況。這在可靠地進(jìn)行基板s的吸附保持這點(diǎn)上是優(yōu)選的。在一對邊的周緣上吸附保持基板s的情況下，用于保持各基板用吸附墊512、522的框511、521為板狀，但在四個(gè)邊的周緣上保持基板s的情況下，框511、521為方形的框狀。在上述實(shí)施方式中，第一輸送帶51、第一輸送機(jī)41是送入用，第二輸送帶52、第二輸送機(jī)42是送出用，但該關(guān)系也可以是相反的，也能夠?qū)⒏鱾€(gè)用于送入送出的雙方。即，使得第一輸送帶51進(jìn)行基板s的送入動(dòng)作而執(zhí)行曝光的過程中，第二輸送帶52保持其他的基板s而待機(jī)，在最初的基板s的曝光結(jié)束后，第一輸送帶51將基板s送出后，第二輸送帶52將其他的基板s送入。也可以這樣交替地使各輸送帶進(jìn)行基板s的送入送出。該情況下，框體61對于各個(gè)輸送帶進(jìn)行設(shè)置，各輸送帶一邊吸附保持框體61一邊進(jìn)行基板s的送入送出動(dòng)作。并且，本申請發(fā)明的實(shí)施時(shí)，輸送帶即使僅一個(gè)也足夠。也可以是，吸附保持著框體61的一個(gè)輸送帶從第一輸送機(jī)41將基板s拾起而載置于基臺(tái)1，在曝光結(jié)束后將基板s與框體61一起從基臺(tái)1拾起而向第二輸送機(jī)42送出的構(gòu)成。該情況下，也能夠采用僅在單側(cè)有輸送機(jī)的構(gòu)成。另外，基臺(tái)1是具備升降機(jī)構(gòu)100且在基板s的載置時(shí)使基臺(tái)1進(jìn)行升降的構(gòu)成，但也可以通過手部的升降來將其進(jìn)行，基臺(tái)1也可以不具備升降機(jī)構(gòu)100。并且，除了基臺(tái)1具備升降機(jī)構(gòu)100以外，若各輸送機(jī)具備升降機(jī)構(gòu)，則輸送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)513、523不需要具有使各輸送帶51、52升降的功能。上述實(shí)施方式中，周狀封固部件62被安裝在框體61上，但也可以安裝在基臺(tái)1側(cè)。即，即使在基臺(tái)1的上表面中的、面對著為了按壓而逐漸臨近的框體61的部位設(shè)置周狀封固部件，也能夠同樣形成密閉空間，能夠同樣動(dòng)作。并且，真空吸附機(jī)構(gòu)3的基板用排氣管31最終與框體用排氣管63變到一起，但也可以是完全獨(dú)立系統(tǒng)的(獨(dú)立的)排氣通路、并且是通過各自的泵來排氣的構(gòu)造。另外，對框體61所形成的密閉空間內(nèi)進(jìn)行排氣的框體用排氣孔13在上述實(shí)施方式中形成在基臺(tái)1上，但也可以形成在框體61上。但是，該構(gòu)造中，框體61引繞排氣用的柔性管，因此繁雜且構(gòu)造上變得復(fù)雜。在基臺(tái)1上有框體用排氣孔13的情況下，不存在這樣的問題?？蝮w61需要使一部分抵接于基板s的周邊部來將基板s按壓于基臺(tái)1，但形成密閉空間的部分可以不是面對基臺(tái)1的部分。即，在基臺(tái)1的周邊有框狀的其他的部件，周狀封固部件62可以與該其他的部件抵接而形成密閉空間。當(dāng)前第1頁12當(dāng)前第1頁12