一種pvd鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，包括依次設置的工序：水洗一段、氣洗一段、水洗二段、水洗三段、水洗四段、氣洗二段、水洗五段、皂化清洗、真空切水、碳氫清洗、蒸汽浴洗與干燥以及氣相清洗，通過對各個工序中的真空度、清洗劑溫度、超聲波頻率、清洗時間的控制以及清洗劑的選擇，從而形成對PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗。本發(fā)明對污染物處理徹底，良率可提高到98％以上，工藝精減，大大減少了安裝空間，采用環(huán)保的清洗劑，符合環(huán)保要求，減排廢水97％以上，工序后段清洗劑可回收程度高，清洗成本低。
【專利說明】
一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及工件表面清理領域，特別涉及一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工〇【背景技術】
[0002]目前，傳統(tǒng)的PVD鍍膜件、電鍍件主要采用純水基清洗劑進行清洗，即通過如表面活性劑、有機酸堿等水基清洗劑的乳化、滲透、清洗等性質(zhì)以及酸堿化學反應等作用，經(jīng)過多道純水清洗，最終達到清洗的目的，主要工藝為:超聲波清洗一超聲波純水漂洗一超聲波清洗一超聲波純水漂洗一超聲波清洗一超聲波純水漂洗一慢拉脫水一干燥，雖然該工藝能滿足清洗的要求，但其存在下述缺點:
[0003]1、對過程控制要求精細嚴格，水質(zhì)要求高且使用量大，產(chǎn)生的廢水量大，成本高；
[0004]2、清洗劑更換頻率快，表面活性劑不能回收利用，有污水排放，污水處理難度大， 成本高；
[0005]3、無機酸堿不僅污染環(huán)境，人操作時危險系數(shù)高，且接觸時間過長對身體有害；
[0006]4、品質(zhì)不穩(wěn)定波動大，容易產(chǎn)生潔凈度不夠或者水印等不良影響PVD鍍膜效果，不良率高達5%-10%。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0007]本發(fā)明要解決的技術問題是提供一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，該工藝在減少廢水的產(chǎn)生同時，還能降低成本和提高清洗的良品率。
[0008]為了解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案為，一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，包括依次設置的如下工序:
[0009]水洗一段，在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為75?85 °C的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入堿性水基清洗劑中， 工件于堿性水基清洗劑中拋動480?720s;
[0010]氣洗一段，首先進行抽氣，對工件進行負壓處理，至壓力值為-80Kpa后，保持1? 5s，再通入氣體，對工件進行正壓處理，至壓力值為零，正負壓作用反復交替，正負壓作用的總時間為240?360s;[〇〇11]水洗二段，在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為55?85 °C的水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入水基清洗劑中，工件于水基清洗劑中拋動480?720s;[〇〇12] 水洗三段，在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C、 質(zhì)量濃度為40?50 %的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100 %超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動480?720s;
[0013] 水洗四段，在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65?75 °C的酸性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件于酸性水基清洗劑中拋動240?360s;[〇〇14] 氣洗二段，首先進行抽氣，對工件進行負壓處理，至壓力值為_80Kpa后，保持1? 5s，再通入氣體，對工件進行正壓處理，至壓力值為零，正負壓作用反復交替，正負壓作用的總時間為240?360s;[〇〇15] 水洗五段，在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65?75 °C的酸性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入酸性水基清洗劑中， 工件于酸性水基清洗劑中拋動240?360s;
[0016]皂化清洗，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為25?35°C的碳氫皂化劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入碳氫皂化劑中，工件于碳氫皂化劑中拋動480?720s;[〇〇17]真空切水，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為40?45°C的碳氫切水劑溶液中拋動480?720s;[〇〇18]碳氫清洗，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑中拋動480?720s;[〇〇19]蒸汽浴洗與干燥，在真空度為_90Kpa的條件下，先將工件置于溫度為90?110°C的碳氫蒸汽中進行真空浴洗，清洗時間為30?60s，完成真空浴洗后，調(diào)整真空度為-lOOKpa， 并在溫度為90?110°C條件下干燥480?720s;[〇〇2〇]氣相清洗，在真空度小于4Pa的條件下，按100?400ml/分鐘的速率通入無機氣體， 并在射頻電源的作用下無機氣體分解成高速運轉(zhuǎn)的離子狀撞擊工件表面，形成真空條件下的氣相清洗，清洗時間為180?360 s，無機氣體選自但不局限于〇2、H2、N2、Ar2。
[0021]優(yōu)選地，碳氫清洗工序分為連續(xù)的第一次碳氫清洗和第二次碳氫清洗，過程均為在真空度為_65Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗劑中，同時將頻率為40KHz、大小為50?100%超聲波接入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑中拋動240? 360s，第二次碳氫清洗后的碳氫清洗劑流向第一次碳氫清洗。
[0022]進一步優(yōu)選地，第一次碳氫清洗與第二次碳氫清洗之間設置有蒸餾回收工序，蒸餾回收工序、第一次碳氫清洗、第二次碳氫清洗形成回路。[〇〇23]再進一步優(yōu)選地，蒸餾回收工序的回收頻率為8?10H/次，蒸餾時間:360?600s，蒸餾后的回收液回流至第二次碳氫清洗中。
[0024]優(yōu)選地，真空浴洗與干燥工序分為主用和備用的真空浴洗與干燥，均包括真空浴洗和干燥兩個階段:在真空度為_90Kpa的條件下，先將工件置于溫度為90?110°C的碳氫蒸汽中進行真空浴洗，清洗時間為15?30s，完成真空浴洗階段，接著調(diào)整真空度為-lOOKpa， 并在溫度為90?110°C條件下干燥240?360s，完成干燥階段。
[0025]優(yōu)選地，皂化清洗工序分為連續(xù)的兩次皂化清洗:第一次皂化清洗，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為25?35°C的碳氫皂化劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入碳氫皂化劑中，工件于碳氫皂化劑中拋動240?360s;第二次皂化清洗為第一次皂化清洗過程的重復。
[0026]優(yōu)選地，真空切水工序分為連續(xù)的兩次真空切水:第一次真空切水，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為40?45°C的碳氫切水劑溶液中拋動240?360s;第二次真空切水為第一次真空切水過程的重復。
[0027]優(yōu)選地，碳氫清洗工序分為連續(xù)的兩次碳氫清洗:第一次碳氫清洗，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑中拋動240?360s;第二次碳氫清洗為第一次碳氫清洗過程的重復。[〇〇28]優(yōu)選地，水洗三段工序分為連續(xù)的兩次水洗:第一次，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C、質(zhì)量濃度為40?50%的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100 %超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動240?360s;第二次為第一次過程的重復。[〇〇29]優(yōu)選地，水洗一段工序分為連續(xù)的兩次水洗:第一次，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為75?85°C的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動240?360s;第二次為第一次過程的重復。
[0030]采用上述技術方案，通過水洗和碳氫清洗結合應用，充分利用水洗和碳氫清洗各自的優(yōu)勢，可達到以下的效果:
[0031]1、與傳統(tǒng)的清洗工藝相比，整個工藝流程可減少1/3至1/2的工序，大大減少了安裝空間；
[0032]2、減少純水漂洗，清洗工藝的后段使用切水劑為中介將水洗與碳氫清洗結合，可以減排廢水97%以上。
[0033]3、采用碳氫清洗劑，對環(huán)境影響極小，同時由于碳氫清洗劑沸點高(200°C左右)， 揮發(fā)慢，后期可回收空間大，有利于降低成本。[〇〇34]4、本清洗工藝品質(zhì)穩(wěn)定易控，良率可提高到98 %以上?！靖綀D說明】[〇〇35]圖1為本發(fā)明一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝的工藝流程圖?！揪唧w實施方式】
[0036]下面結合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步說明。在此需要說明的是，對于這些實施方式的說明用于幫助理解本發(fā)明，但并不構成對本發(fā)明的限定。此外，下面所描述的本發(fā)明各個實施方式中所涉及的技術特征只要彼此之間未構成沖突就可以相互組合。 [〇〇37]如圖所示，本發(fā)明的工序設置依次為:水洗一段、氣洗一段、水洗二段、水洗三段、 水洗四段、氣洗二段、水洗五段、皂化清洗、真空切水、碳氫清洗、蒸汽浴洗與干燥、氣相清洗，本實施例根據(jù)PVD鍍膜件、電鍍件的清洗特點，將其中的工序:碳氫清洗、真空切水、皂化清洗、水洗三段、水洗一段均設置為兩次重復，從而增強PVD鍍膜件、電鍍件的良品率，而在工序不設置成重復的情況下，PVD鍍膜件、電鍍件清洗的良品率也能夠滿足要求。
[0038]本發(fā)明的原理為:通過水基清洗劑(包含表面活性劑)的乳化、滲透、清洗等作用， 以及采用真空超聲波的輔助功能和氣法清洗功效，對產(chǎn)品表面和孔縫內(nèi)的蠟、膠等臟污進行預清洗，再經(jīng)過碳氫切水劑的置換清洗作用，將產(chǎn)品表面的水、水基清洗劑和臟污剝落， 靜置分層上層為干凈的切水劑，然后再經(jīng)過真空碳氫清洗加強清洗，達到徹底清除表帶等產(chǎn)品上臟污的目的。最后再經(jīng)過氣相清洗改變金屬表面活性增加附著力，更有利于保障PVD 鍍膜的品質(zhì)效果。[〇〇39]水洗一段工序分為連續(xù)的兩次水洗:第一次，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為75?85°C的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60? 100 %超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動240?360s;第二次為第一次過程的重復。該工序主要針對產(chǎn)品表面的拋光蠟、加工油等臟污，選用堿性水基清洗劑，有利于除油除蠟，其中，第一次為粗洗，第二次為精洗。
[0040]氣洗一段工序為:首先進行抽氣，對工件進行負壓處理，至壓力值為-80Kpa后，保持3s(l?5s均可，此處只選3s進行說明)，再通入氣體，對工件進行正壓處理，至壓力值為零后再進行抽氣，進行負壓處理，正負壓作用反復交替，正負壓作用的總時間為240?360s，通過正負壓的反復作用，能夠達到將縫隙中的拋光蠟、加工油等臟污吸至產(chǎn)品外表面，變得利于清洗。[〇〇411水洗二段工序為:在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為55? 85 °C的水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100 %超聲波接入水基清洗劑中，工件于水基清洗劑中拋動480?720 s。該工序主要針對氣洗工序中噴洗出來附著產(chǎn)品表面的拋光蠟、加工油等臟污，選用能夠除油除蠟的水基清洗劑，此工序?qū)λ逑磩┑乃釅A程度并無嚴格要求，能夠除油除蠟即可，水基清洗劑也為同行業(yè)中的常用產(chǎn)品。[〇〇42]水洗三段工序分為連續(xù)的兩次水洗:第一次，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C、質(zhì)量濃度為40?50%的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為 28KHz、大小為60?100%超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動240 ?360s;第二次為第一次過程的重復。該工序主要針對產(chǎn)品表面的膠類污染物，選用堿性水基清洗劑，有利于去除膠類污染物，第一次為粗洗，第二次為精洗。[〇〇43]水洗四段工序為:在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65? 75°C的酸性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件于酸性水基清洗劑中拋動240?360s。該工序主要針對產(chǎn)品表面的臟污及水洗三段工序中殘留的堿性清洗劑，而選用酸性水基清洗劑有利于清洗該類污染物。[〇〇44]氣洗二段工序為:首先進行抽氣，對工件進行負壓處理，至壓力值為_80Kpa后，保持3s(l?5s均可，此處只選3s進行說明)，再通入氣體，對工件進行正壓處理，至壓力值為零后再進行抽氣，進行負壓處理，正負壓作用反復交替，正負壓作用的總時間為240?360s。該工序主要針對產(chǎn)品孔隙內(nèi)的臟污及堿性清洗劑，通過正負壓的反復作用，使處理對象脫離孔縫至產(chǎn)品外表面，變得利于清洗及后工序的皂化清洗。[〇〇45]水洗五段工序為:在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65? 75°C的酸性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件于酸性水基清洗劑中拋動240?360s。該工序主要針對氣洗二段工序清洗出來附著產(chǎn)品表面的臟污及堿性清洗劑，選用與水洗四段工序相同的酸性清洗劑。[〇〇46]皂化清洗工序分為連續(xù)的兩次皂化清洗:第一次皂化清洗，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為25?35°C的碳氫皂化劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60 ?100%超聲波接入碳氫皂化劑中，工件于碳氫皂化劑中拋動240?360s;第二次皂化清洗為第一次皂化清洗過程的重復。該工序主要針對產(chǎn)品表面的酸性清洗劑及其它少量臟污，選用碳氫皂化劑并在真空條件下清洗，有利于產(chǎn)品表面的酸性清洗劑及其它少量臟污從表面和孔縫中脫離。第一次皂化清洗為粗洗，第二次皂化清洗為精洗。
[0047]真空切水工序分為連續(xù)的兩次真空切水:第一次真空切水，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為40?45°C的碳氫切水劑溶液中拋動240?360s;第二次真空切水為第一次真空切水過程的重復。該工序主要針對產(chǎn)品表面的碳氫皂化劑及其它少量臟污，選用碳氫切水劑并在真空條件下清洗，使產(chǎn)品表面的水分及其它少量臟污從表面和孔縫中脫離分層沉于底部，第一次真空切水為粗洗，第二次真空切水為精洗。
[0048]碳氫清洗工序分為連續(xù)的第一次碳氫清洗和第二次碳氫清洗，兩次碳氫清洗的過程完全相同，其過程均為:在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100 %超聲波接入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑中拋動240?360s。該工序主要針對產(chǎn)品表面的切水清洗劑及其它少量臟污，選用碳氫清洗劑真空清洗，使產(chǎn)品表面的切水劑及其它少量臟污從表面和孔縫中脫離，使產(chǎn)品表面完全由單一物質(zhì)的碳氫覆蓋，利于后工序干燥和品質(zhì)。第一次碳氫清洗為粗洗，第二次碳氫清洗為精洗。
[0049]為了使碳氫清洗劑得到最充分的利用，在第二次碳氫清洗與第一次碳氫清洗之間設置有管道，該管道可允許第二次碳氫清洗后的碳氫清洗劑流向第一次碳氫清洗，由于第二次碳氫清洗為第一次碳氫清洗的后續(xù)步驟，溶液的污染程度較小，可于第一次碳氫清洗再次利用。為了保證第一次碳氫清洗的回收，在第一次碳氫清洗與第二次碳氫清洗之間設置有蒸餾回收工序，蒸餾回收工序、第一次碳氫清洗、第二次碳氫清洗形成回路，第一次碳氫清洗中的碳氫清洗劑流向蒸餾回收工序，蒸餾回收工序回收完成后即。蒸餾回收工序主體為蒸餾回收機。蒸餾回收工序的回收頻率為8?10H/次，蒸餾時間:360?600s，蒸餾后的回收液回流至第二次碳氫清洗中。
[0050]真空浴洗與干燥工序分為主用和備用的真空浴洗與干燥:均包括真空浴洗和干燥兩個階段，在真空度為_90Kpa的條件下，先將工件置于溫度為90?110°C的碳氫蒸汽中進行真空浴洗，清洗時間為15?30s，完成真空浴洗階段，接著調(diào)整真空度為-lOOKpa，并在溫度為90?110°C條件下干燥240?360s，完成干燥階段。上述的高溫碳氫蒸汽由碳氫清洗劑經(jīng)蒸汽發(fā)生器產(chǎn)生，蒸汽發(fā)生器的碳氫清洗劑來源于蒸餾回收工序。如附圖中，主用的真空浴洗與干燥用實線表示，而備用的真空浴洗與干燥用虛線表示。主用和備用的真空浴洗與干燥錯開使用，采用主用的真空浴洗與干燥時，則備用的真空浴洗與干燥不運行，該方式保證了該工序的安全使用，主用和備用的真空浴洗與干燥可以進行輪換，避免故障的發(fā)生，而即使發(fā)生故障，由于設備備用的真空浴洗與干燥，可以保證整個清洗工藝的正常運行。本工序主要用于預熱和高潔凈液清洗，兩個階段的結合可達到徹底干燥的目的。
[0051]氣相清洗工序，其過程為:在真空度小于4Pa的條件下，本實施例以真空度為3Pa進行說明，按100?400ml/分鐘的速率通入無機氣體，并在射頻電源的作用下無機氣體分解成高速運轉(zhuǎn)的離子狀撞擊工件表面，形成真空條件下的氣相清洗，清洗時間為180?360s，該無機氣體選自〇2、出、犯^^中的一種或多種，但不局限于這幾種氣體。氣相清洗工序用于對真空浴洗與干燥工序的加強清洗工序，同時也具有對工件的保護，清洗的同時，于工件表面生成一層氧化膜，從而使工件不易受氧化。
[0052]在本實施例中，整個技術方案較傳統(tǒng)的工藝，具有很大的優(yōu)勢，主要體現(xiàn)在以下幾個方面:
[0053] 1、與傳統(tǒng)的清洗工藝相比，整個工藝流程可減少1/3至1/2的工序，大大減少了安裝空間；[〇〇54] 2、減少純水漂洗，清洗工藝的后段使用切水劑為中介將水洗與碳氫清洗結合，可以減排廢水97%以上。
[0055] 3、采用碳氫清洗劑，對環(huán)境影響極小，同時由于碳氫清洗劑沸點高(200°C左右)， 揮發(fā)慢，后期可回收空間大，有利于降低成本。
[0056] 4、本清洗工藝品質(zhì)穩(wěn)定易控，良率可提尚到98%以上。[〇〇57]以上結合附圖對本發(fā)明的實施方式作了詳細說明，但本發(fā)明不限于所描述的實施方式。對于本領域的技術人員而言，在不脫離本發(fā)明原理和精神的情況下，對這些實施方式進行多種變化、修改、替換和變型，仍落入本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，包括依次設置的如下工序:水洗一段，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為75?85°C的堿性 水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件 于堿性水基清洗劑中拋動480?720s;氣洗一段，首先進行抽氣，對工件進行負壓處理，至壓力值為_80Kpa后，保持1?5s，再 通入氣體，對工件進行正壓處理，至壓力值為零，正負壓作用反復交替，正負壓作用的總時 間為240?360s;水洗二段，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為55?85 °C的水基 清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入水基清洗劑中，工件于水基清 洗劑中拋動480?720s;水洗三段，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C、質(zhì)量 濃度為40?50%的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入 堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動480?720s;水洗四段，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65?75°C的酸性 水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件 于酸性水基清洗劑中拋動240?360s;氣洗二段，首先進行抽氣，對工件進行負壓處理，至壓力值為_80Kpa后，保持1?5s，再 通入氣體，對工件進行正壓處理，至壓力值為零，正負壓作用反復交替，正負壓作用的總時 間為240?360s;水洗五段，在真空度為-30?-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65?75°C的酸性 水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件 于酸性水基清洗劑中拋動240?360s;皂化清洗，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為25?35°C的碳氫皂化 劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100 %超聲波接入碳氫皂化劑中，工件于碳氫皂化劑 中拋動480?720s;真空切水，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為40?45°C的碳氫切水 劑溶液中拋動480?720s;碳氫清洗，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗 劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑 中拋動480?720s;蒸汽浴洗與干燥，在真空度為_90Kpa的條件下，先將工件置于溫度為90?110 °C的碳氫 蒸汽中進行真空浴洗，清洗時間為30?60s，完成真空浴洗后，調(diào)整真空度為-lOOKpa，并在 溫度為90?110°C條件下干燥480?720s;氣相清洗，在真空度小于4Pa的條件下，按100?400ml/分鐘的速率通入無機氣體，并在 射頻電源的作用下無機氣體分解成高速運轉(zhuǎn)的離子狀撞擊工件表面，形成真空條件下的氣 相清洗，清洗時間為180?360 s，所述無機氣體選自但不局限于〇2、H2、N2、Ar2。2.根據(jù)權利要求1所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述碳氫清 洗工序分為連續(xù)的第一次碳氫清洗和第二次碳氫清洗，過程均為:在真空度為_65Kpa的真 空條件下，將工件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗劑中，同時將頻率為40KHz、大小為50?100%超聲波接入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑中拋動240?360s，所述第二次碳氫清 洗后的碳氫清洗劑流向第一次碳氫清洗。3.根據(jù)權利要求2所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，第一次碳氫 清洗與第二次碳氫清洗之間設置有蒸餾回收工序，蒸餾回收工序、第一次碳氫清洗、第二次 碳氫清洗形成回路。4.根據(jù)權利要求3所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述蒸餾回 收工序的回收頻率為8?10H/次，蒸餾時間:360?600s，蒸餾后的回收液回流至所述第二次 碳氫清洗中。5.根據(jù)權利要求1?4中任一項所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在 于，真空浴洗與干燥工序分為主用和備用的真空浴洗與干燥:均包括真空浴洗和干燥兩個 階段，在真空度為_90Kpa的條件下，先將工件置于溫度為90?110°C的碳氫蒸汽中進行真空 浴洗，清洗時間為15?30s，完成真空浴洗階段，接著調(diào)整真空度為-lOOKpa，并在溫度為90 ?110°C條件下干燥240?360s，完成干燥階段。6.根據(jù)權利要求5所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述皂化清 洗工序分為連續(xù)的兩次皂化清洗:第一次皂化清洗，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工 件置于溫度為25?35°C的碳氫皂化劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接 入碳氫皂化劑中，工件于碳氫皂化劑中拋動240?360s;第二次皂化清洗為第一次皂化清洗 過程的重復。7.根據(jù)權利要求6所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述真空切 水工序分為連續(xù)的兩次真空切水:第一次真空切水，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工 件置于溫度為40?45°C的碳氫切水劑溶液中拋動240?360s;第二次真空切水為第一次真 空切水過程的重復。8.根據(jù)權利要求7所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述碳氫清 洗工序分為連續(xù)的兩次碳氫清洗:第一次碳氫清洗，在真空度為_80Kpa的真空條件下，將工 件置于溫度為45?50°C的碳氫清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接 入碳氫清洗劑中，工件于碳氫清洗劑中拋動240?360s;第二次碳氫清洗為第一次碳氫清洗 過程的重復。9.根據(jù)權利要求8所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述水洗三 段工序分為連續(xù)的兩次水洗:第一次，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置于 溫度為45?50°C、質(zhì)量濃度為40?50%的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為 60?100%超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動240?360s;第二 次為第一次過程的重復。10.根據(jù)權利要求9所述的PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，所述水洗 一段工序分為連續(xù)的兩次水洗:第一次，在真空度為-30?_75Kpa的真空條件下，將工件置 于溫度為75?85°C的堿性水基清洗劑中，同時將頻率為28KHz、大小為60?100%超聲波接 入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動240?360s;第二次為第一次過程的重復。
【文檔編號】C25D21/08GK105970153SQ201610341331
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月20日
【發(fā)明人】李輝
【申請人】深圳市鑫承諾環(huán)保產(chǎn)業(yè)股份有限公司