化學(xué)鍍鎳修復(fù)工藝的制作方法

本發(fā)明涉及一種失效化學(xué)鍍鎳溶液的修復(fù)工藝。

背景技術(shù)：

化學(xué)鍍鎳是近年來發(fā)展較快的表面處理技術(shù)?；瘜W(xué)鍍鎳是一種用于不需要外加電源而在基材上沉積一層或多層鎳的方法?；瘜W(xué)鍍鎳溶液的金屬借助電力電流將其自新粘附于基材。隨著化學(xué)鍍鎳溶液的電鍍進(jìn)行，當(dāng)鎳液度少于2~7g/l后，難于保證質(zhì)量電鍍，成為失效的化學(xué)鍍鎳濃液?；瘜W(xué)鍍鎳溶液的成分沒有變化，只是鎳濃度減少，若直接向失效的化學(xué)鍍鎳溶液加入硫酸鎳，將鎳的濃度補(bǔ)充至20g/l以上，但造成過多的SO₄²⁺離子，影響電鍍效果。

目前針對鎳濃液高達(dá)2~7g/l的化學(xué)鍍鎳廢液，采用化學(xué)沉淀法、催化還原法、電解法、離子交換法和膜分離方法。各種處理工藝都存在二次污染、成本高、工藝處理復(fù)雜等問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種工藝簡單、易操作、成本低而且環(huán)保的化學(xué)鍍鎳修復(fù)工藝，用本方法修復(fù)后的化學(xué)鍍鎳溶液的成分與原化學(xué)鍍鎳溶液成分相同，效率相同，經(jīng)濟(jì)實用。

本發(fā)明是這樣來實現(xiàn)上述目的的：

化學(xué)鍍鎳修復(fù)工藝，其特征在于：先用陰離子萃取劑對失效的化學(xué)鍍鎳液進(jìn)行陰離子萃取，通過萃取反應(yīng)將多余的SO₄²⁺離子去除，然后往去除SO₄²⁺離子的一部分溶液中加入酸鎳溶液，經(jīng)攪拌后得到有效的化學(xué)鍍鎳液。

另外，往萃取余液投入氫氧化鈉溶液，進(jìn)行反萃取反應(yīng)，形成硫酸鈉，經(jīng)堿反萃后的陰離子萃取劑重新用于修復(fù)失效的化學(xué)鍍鎳液。

本發(fā)明的有益效果是：失效的鍍液先由陰離子萃取劑去除多余的SO₄²⁺離子，再加入適量的硫酸鎳溶液，達(dá)到化學(xué)鍍鎳溶液各種成分的要求，得到修復(fù)。本發(fā)明的化學(xué)鍍鎳溶液修復(fù)工藝簡單，易操作；修復(fù)后的化學(xué)鍍鎳溶液的成分與原化學(xué)鍍鎳溶液成分相同，效率相同，經(jīng)濟(jì)實用。而且，可有效減少化學(xué)鍍鎳廢液的處理成本，降低污染。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明：

圖1是本發(fā)明的立體圖。

具體實施方式

參照圖1，化學(xué)鍍鎳修復(fù)工藝，其步驟如下：先用陰離子萃取劑對失效的化學(xué)鍍鎳液進(jìn)行陰離子萃取，通過萃取反應(yīng)將多余的SO₄²⁺離子去除，然后往去除SO₄²⁺離子的一部分溶液中加入酸鎳溶液，經(jīng)攪拌后得到有效的化學(xué)鍍鎳液。另外，往去除SO₄²⁺離子的另一部分溶液投入濃度為15%氫氧化鈉溶液，進(jìn)行反萃取反應(yīng)，形成硫酸鈉，經(jīng)堿反萃后的陰離子萃取劑重新用于修復(fù)失效的化學(xué)鍍鎳液。失效的鍍液先由陰離子萃取劑萃取去除多余的SO₄²⁺離子，再加入適量的硫酸鎳溶液，達(dá)到化學(xué)鍍鎳溶液各種成分的要求，得到修復(fù)。其中，陰離子萃取劑為N235萃取劑(即三辛烷基叔胺)。所述本發(fā)明的化學(xué)鍍鎳溶液修復(fù)工藝簡單，易操作；修復(fù)后的化學(xué)鍍鎳溶液的成分與原化學(xué)鍍鎳溶液成分相同，效率相同，經(jīng)濟(jì)實用。而且，萃取劑經(jīng)堿反萃后可以循環(huán)再用，可有效減少化學(xué)鍍鎳廢液的處理成本，降低污染。