專利名稱：涂膜形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)玻璃基板、半導(dǎo)體晶片等基板涂敷顯影液、清洗液、SOG溶液及抗蝕劑時(shí)的涂膜形成方法。
背景技術(shù)：
在液晶(LCD)、PDP(等離子體顯示器)、半導(dǎo)體元件等的制造過(guò)程中，為在基板上形成各種覆層、或者涂敷清洗液或顯影液，通常使用涂敷裝置。
專利文獻(xiàn)1提供了一種非旋轉(zhuǎn)式的涂敷裝置，近年來(lái)伴隨基板尺寸的大型化傾向，該涂敷裝置取代了邊使基板旋轉(zhuǎn)邊進(jìn)行涂敷的以往的旋轉(zhuǎn)涂敷，而使寬幅的狹縫噴嘴相對(duì)于基板向一個(gè)方向相對(duì)地移動(dòng)的同時(shí)，進(jìn)行涂敷。
具有這樣的狹縫噴嘴的涂敷裝置，其優(yōu)點(diǎn)在于，即使是大型基板也可在其表面形成均勻的厚膜。但是，也具有其它一些問(wèn)題。例如，其一就是在涂敷開(kāi)始時(shí)會(huì)產(chǎn)生涂膜不合格區(qū)域。即，雖然通過(guò)定量泵向狹縫噴嘴提供涂敷液，但是在涂敷開(kāi)始時(shí)，為了防止因液量不足而引起的涂膜不均，而需要在狹縫噴嘴下端和基板表面之間形成充分的涂敷液滯留(以下稱作“液珠”)。
但是，如果涂敷開(kāi)始時(shí)的液珠過(guò)大，則即使狹縫噴嘴因涂敷作業(yè)而開(kāi)始移動(dòng)，涂敷開(kāi)始點(diǎn)周邊也會(huì)呈現(xiàn)比其它部分凸出的狀態(tài)，由此形成涂膜不合格區(qū)域。為解決該問(wèn)題，例如在專利文獻(xiàn)2中，對(duì)應(yīng)涂敷器和被涂敷部件的相對(duì)移動(dòng)量來(lái)分段增減涂敷供給量。
專利文獻(xiàn)1美國(guó)專利第4938994號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2JP特開(kāi)2002-86044號(hào)公報(bào)然而，在專利文獻(xiàn)1所公開(kāi)的早期的非旋轉(zhuǎn)式的涂敷裝置中，液珠的控制較為困難，容易發(fā)生涂敷液的不足或過(guò)量。另外，在專利文獻(xiàn)2所公開(kāi)的涂敷裝置中，由于需要對(duì)來(lái)自于泵的供給量進(jìn)行控制，且還必須對(duì)涂敷器的移動(dòng)速度進(jìn)行控制，因此操作繁雜，控制本身也較為困難。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種涂膜形成方法，該方法在對(duì)基板涂敷例如顯影液、清洗液、SOG溶液及抗蝕劑等涂敷液時(shí)，可以降低涂敷開(kāi)始點(diǎn)周邊的涂膜凸起，并能降低涂膜整體的起伏。
本發(fā)明涉及的涂膜形成方法，利用在被涂物表面之上相對(duì)移動(dòng)的狹縫噴嘴所提供的涂敷液，在被涂物表面形成均勻的涂膜，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵，使涂敷液排出口與被涂物表面之間以涂敷液連接，接著，在將涂敷液的連接狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始進(jìn)行涂敷。
根據(jù)本發(fā)明涉及的涂膜形成方法，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵使涂敷液排出口與被涂物表面之間以涂敷液來(lái)連接，接著，將涂敷液的連接狀態(tài)保持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始進(jìn)行涂敷，因此通過(guò)使涂敷液的連接狀態(tài)，即、使涂敷液排出口與被涂物表面之間形成的充分的涂敷液滯留(液珠)維持規(guī)定時(shí)間，而使該液珠穩(wěn)定下來(lái)。也就是，被涂物表面及狹縫噴嘴噴出口周邊因涂敷液而被充分地潤(rùn)濕，由此液珠的大小得到穩(wěn)定。從而，涂敷開(kāi)始后，在維持大小穩(wěn)定的液珠的狀態(tài)下，對(duì)被涂物進(jìn)行涂敷，因此可以降低涂敷開(kāi)始點(diǎn)周邊的涂敷液的凸起。
并且，由于可以在整個(gè)涂敷面形成穩(wěn)定的涂膜，因此可以降低涂膜的起伏。
并且，優(yōu)選在維持連接狀態(tài)的期間，使涂敷液送液泵停止。
并且，本發(fā)明涉及的涂膜形成方法，利用在被涂物表面之上相對(duì)移動(dòng)的狹縫噴嘴所提供的涂敷液，在被涂物表面形成均勻的涂膜，涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵，使涂敷液排出口與被涂物表面之間以涂敷液連接，接著，在維持涂敷液連接狀態(tài)的狀態(tài)下，使狹縫噴嘴向上方稍微拉大與被涂物表面的距離，在使該狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始涂敷。
根據(jù)上述本發(fā)明涉及的涂膜形成方法，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵，使涂敷液排出口與被涂物表面之間以涂敷液連接，接著，在維持涂敷液的連接狀態(tài)的狀態(tài)下，使狹縫噴嘴向上方稍微拉大與被涂物表面的距離，在使該狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始涂敷，由此，除了上述涂膜形成方法的作用之外，涂敷液排出到被涂物表面時(shí)對(duì)狹縫噴嘴的反作用，因使狹縫噴嘴拉大距離而減弱，從而可以進(jìn)一步降低涂膜的起伏。
并且，此時(shí)，也優(yōu)選在維持連接狀態(tài)的期間，使涂敷液送液泵停止。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種涂膜形成方法，該方法在對(duì)基板進(jìn)行涂敷液的涂敷時(shí)，可以降低涂敷開(kāi)始點(diǎn)周邊的涂膜的凸起，并且降低涂膜整體的起伏。
因此，在可提高制造過(guò)程中涂膜的可靠性的同時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)適于形成具有良好特性的涂膜的涂膜形成方法。
圖1是表示本發(fā)明的涂膜形成方法的一例的剖視圖。
圖2是表示本發(fā)明的涂膜形成方法的又一例的剖視圖。
圖3是例示實(shí)施本發(fā)明的涂膜形成方法時(shí)的玻璃基板1的膜厚(Y軸單位μm)與涂膜測(cè)量點(diǎn)(X軸單位mm)的相關(guān)關(guān)系的曲線圖。
附圖符號(hào)說(shuō)明1玻璃基板，2狹縫噴嘴，2a涂敷液供給通道，2b排出口，3送液泵，4涂膜，A涂敷開(kāi)始位置，B涂膜結(jié)束位置具體實(shí)施方式
以下參照
本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1是表示本發(fā)明涉及的涂膜形成方式的一個(gè)實(shí)施方式的剖視圖。
本發(fā)明涉及的涂膜形成方法是用于涂敷基板等被涂物的一般的涂敷裝置，只要是具有隔膜泵等普通定量泵的裝置，均可使用而沒(méi)有限制。
在圖1中，玻璃基板1等板狀被處理物被放置在基板放置平臺(tái)上。并且，狹縫噴嘴2被可自由升降地安裝在沿基板1的長(zhǎng)邊方向移動(dòng)且未圖示的移動(dòng)體上。另一方面，狹縫噴嘴2的涂敷液供給通道2a構(gòu)成為從作為隔膜泵等定量泵的送液泵3來(lái)提供涂敷液。
接下來(lái)，對(duì)在該狀態(tài)下，實(shí)際在基板1上形成涂膜的情況進(jìn)行說(shuō)明。
首先，如圖1(a)所示，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴2在其排出口2b與玻璃基板1表面拉開(kāi)幾十μm～幾百μm、優(yōu)選30μm～150μm的間隔的狀態(tài)下，停在玻璃基板1的涂敷開(kāi)始位置A之上。
其次，如圖1(b)所示，由送液泵3向狹縫噴嘴2的涂敷液供給通道2a提供涂敷液，并從排出口2b排出。通過(guò)該操作，使液珠充滿排出口2b與玻璃基板1的間隙，從而排出口2b與玻璃基板1表面之間成為由涂敷液連接的狀態(tài)。
接著，在這樣充滿液珠后，使該狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間。該時(shí)間為幾秒，優(yōu)選2秒～10秒。
如后述的圖3所示，在規(guī)定時(shí)間少于2秒時(shí)，可能發(fā)生不能發(fā)揮本發(fā)明的效果而使涂膜變得不均勻的情況。另外，即使規(guī)定時(shí)間超過(guò)10秒也可能形成均勻的涂膜，但是難以兼顧處理速度。因此，優(yōu)選上述的2秒～10秒。
并且，在將液珠維持規(guī)定時(shí)間的期間，在該規(guī)定時(shí)間較短時(shí)，也可使送液泵3保持運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)。但是，在規(guī)定時(shí)間較長(zhǎng)時(shí)，優(yōu)選使其停止。雖然也可使送液泵3減速運(yùn)轉(zhuǎn)，但由于泵的控制較為復(fù)雜，因此不是理想的操作。
經(jīng)過(guò)上述規(guī)定時(shí)間后，如圖1(c)所示，在已停止了送液泵3的情況下，重新開(kāi)始送液，邊使狹縫噴嘴2在水平方向移動(dòng)，邊在被涂物1上形成涂膜4。然后，在到達(dá)玻璃基板1上的涂膜結(jié)束位置B的時(shí)刻，使送液泵3停止，并使狹縫噴嘴2與玻璃基板1拉大距離。
根據(jù)本實(shí)施方式的涂膜形成方法所示，由于使狹縫噴嘴2的排出口2b接近基板1表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)送液泵3，使排出口2b與基板1表面之間以涂敷液連接，接著，在將涂敷液的連接狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始進(jìn)行涂敷，因此，通過(guò)使涂敷液的連接狀態(tài)，即、涂敷液排出口與被涂物表面之間形成的充分的涂敷液滯留(液珠)維持規(guī)定時(shí)間，可使該液珠穩(wěn)定。也就是，被涂物表面及狹縫噴嘴噴出口周邊因涂敷液而被充分潤(rùn)濕，從而液珠的大小得到穩(wěn)定。由此，涂敷開(kāi)始后，在維持大小穩(wěn)定的液珠的狀態(tài)下，對(duì)被涂物進(jìn)行涂敷，因此可以降低涂敷開(kāi)始點(diǎn)周邊的涂敷液的凸起。
并且，由于可以在整個(gè)涂敷面形成穩(wěn)定的涂膜，因此可以降低涂膜的起伏。
接下來(lái)，說(shuō)明本發(fā)明涉及的涂膜形成方法的其它實(shí)施方式。
圖2是表示本發(fā)明的涂膜形成方法的其它實(shí)施方式的剖視圖。
圖2(a)及圖2(b)表示分別與圖1(a)及圖1(b)所示情況相同的狀態(tài)。即，如圖2(a)所示，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴2在其排出口2b與玻璃基板1表面拉開(kāi)幾十μm～幾百μm、優(yōu)選30μm～150μm的間隔的狀態(tài)下，停在玻璃基板1的涂敷開(kāi)始位置A之上。
其次，如圖2(b)所示，由送液泵3向狹縫噴嘴2的涂敷液供給通道2a提供涂敷液，并從排出口2b排出，由此使液珠填滿排出口2b與玻璃基板1的間隙，形成連接狀態(tài)。
在本實(shí)施方式中，如圖2(c)所示，其特征在于，在使液珠不斷裂的范圍內(nèi)使狹縫噴嘴2向上方稍微拉大距離。拉大距離為100～300μm，優(yōu)選120～200μm。
接著，與圖1所述的情況同樣地，使該狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間。另外，關(guān)于使液珠維持規(guī)定時(shí)間的期間內(nèi)的送液泵3的運(yùn)轉(zhuǎn)，與圖1所述相同。
其次，在經(jīng)過(guò)規(guī)定時(shí)間后，如圖2(d)所示，在已使送液泵3停止的情況下，重新開(kāi)始送液，并使狹縫噴嘴2在水平方向邊移動(dòng)，邊在被涂物1上形成涂膜4。然后，在到達(dá)被涂物1上的涂膜結(jié)束位置B的時(shí)刻，使送液泵3停止，并使狹縫噴嘴2拉大與被涂物1的距離，結(jié)束涂敷作業(yè)。
根據(jù)本實(shí)施方式涉及的涂膜形成方法，由于使狹縫噴嘴2拉大與基板1表面的距離，因此除了上述實(shí)施方式的涂膜形成方法的作用之外，涂敷液排出到基板1表面時(shí)對(duì)狹縫噴嘴2的反作用，因拉大距離而減弱，從而可以進(jìn)一步降低涂膜的起伏。
圖3是例示實(shí)施本發(fā)明的涂膜形成方法時(shí)的玻璃基板1的膜厚(Y軸單位μm)與涂膜測(cè)量點(diǎn)(X軸單位mm)的相關(guān)關(guān)系的曲線圖。在本圖中，進(jìn)行從涂敷開(kāi)始位置(測(cè)量點(diǎn)為0mm點(diǎn))進(jìn)行超過(guò)1800mm的長(zhǎng)度的涂敷，對(duì)填滿液珠后的規(guī)定時(shí)間(本圖中表示為等待時(shí)間)為1.5秒〔線段(1)〕、5.0秒〔線段(2)〕及9.0秒〔線段(3)〕的三種情況進(jìn)行了測(cè)量。
其結(jié)果是，線段(2)及線段(3)，其開(kāi)始(Start)的10mm的均勻性分別穩(wěn)定在了±2.98％、±2.34％。另一方面，線段(1)由于規(guī)定時(shí)間為1.5秒，較短，因此其均勻性為±11.81％而不穩(wěn)定。由此可知，等待時(shí)間對(duì)涂敷開(kāi)始端的凸起影響很大。
另外，本發(fā)明并不局限于上述的實(shí)施方式，在不脫離本發(fā)明的宗旨的范圍內(nèi)，可以是其它各種結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種涂膜形成方法，利用在被涂物表面之上相對(duì)移動(dòng)的狹縫噴嘴所提供的涂敷液，在前述被涂物表面形成均勻的涂膜，該涂膜形成方法的特征在于，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使前述狹縫噴嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵，使前述涂敷液排出口與前述被涂物表面之間以涂敷液連接，接著，在將前述涂敷液的連接狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始進(jìn)行涂敷。
2.一種涂膜形成方法，利用在被涂物表面之上相對(duì)移動(dòng)的狹縫噴嘴所提供的涂敷液，在前述被涂物表面形成均勻的涂膜，該涂膜形成方法的特征在于，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使前述狹縫噴嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵，使前述涂敷液排出口與前述被涂物表面之間以涂敷液連接，接著，在維持前述涂敷液連接狀態(tài)的狀態(tài)下，使前述狹縫噴嘴向上方稍微拉大與前述被涂物表面的距離，在使該狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始涂敷。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的涂膜形成方法，其特征在于，在維持前述連接狀態(tài)的期間，使前述涂敷液送液泵停止。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂膜形成方法，該方法在對(duì)基板涂敷例如顯影液、清洗液、SOG溶液及抗蝕劑等涂敷液時(shí)，可以降低涂敷開(kāi)始點(diǎn)周邊的涂膜凸起，并能降低涂膜整體的起伏。本發(fā)明利用在被涂物(1)表面之上相對(duì)移動(dòng)的狹縫噴嘴(2)所提供的涂敷液，在被涂物(1)表面形成均勻的涂膜，在涂敷開(kāi)始時(shí)，使狹縫噴嘴(2)的涂敷液排出口(2b)接近被涂物(1)表面，其次，通過(guò)驅(qū)動(dòng)涂敷液送液泵(3)，使涂敷液排出口(2b)與被涂物(1)表面之間以涂敷液連接，接著，在將涂敷液的連接狀態(tài)維持規(guī)定時(shí)間后，開(kāi)始進(jìn)行涂敷。
文檔編號(hào)C03C17/00GK1931446SQ20061012755
公開(kāi)日2007年3月21日 申請(qǐng)日期2006年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月15日
發(fā)明者山口和伸, 升芳明 申請(qǐng)人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社