技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種碲鎘汞薄膜材料的化學(xué)拋光方法。該方法包括以下步驟：利用化學(xué)拋光液對所述碲鎘汞薄膜材料進(jìn)行N次化學(xué)拋光，其中，第i+1次化學(xué)拋光的去除厚度小于第i次化學(xué)拋光的去除厚度，其中，N≥3，1≤i≤N；將經(jīng)過N次化學(xué)拋光后的碲鎘汞薄膜材料在表面處理液中進(jìn)行表面處理。借助于本發(fā)明的技術(shù)方案，解決了現(xiàn)有技術(shù)中碲鎘汞表面的組分偏差較大的問題，不僅能夠降低碲鎘汞材料的組分方差，而且使碲鎘汞材料的表面極少氧化物甚至無氧化物，從而使碲鎘汞探測器器件光譜響應(yīng)均勻性能夠滿足性能要求。
技術(shù)研發(fā)人員：李春領(lǐng);王春紅;秦艷紅
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國電子科技集團(tuán)公司第十一研究所
文檔號碼：201611007386
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.16
技術(shù)公布日：2017.05.10