一種自動快速甩干晶片的裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種自動快速甩干晶片的裝置，包括桶體、陶瓷盤支架、托架旋轉(zhuǎn)軸、支撐柱、導流平面、集水槽、排水口、桶蓋和噴水-抽氣系統(tǒng)。設計的導流平面利于清洗廢水的收集。桶蓋頂部設有噴水系統(tǒng)，利于水流全面覆蓋晶片，桶蓋頂部設有抽風系統(tǒng)，利于晶片表面迅速干燥。采用噴水-抽氣系統(tǒng)為同一裝置，設計和操作簡單，節(jié)約空間，簡化裝置。側(cè)壁設有集水槽，根據(jù)動力力學原理，便于離心水分的收集。集水槽下設有排水口，利于污水收集排出，保護晶片和環(huán)境。
【專利說明】一種自動快速甩干晶片的裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體晶片清洗、干燥【技術領域】，具體地是涉及一種自動快速甩干晶片的裝置。
【背景技術】
[0002]隨著半導體行業(yè)在中國的發(fā)展以及對半導體晶片的要求，晶片向著尺寸大、厚度薄的方向發(fā)展，為使晶片表面平整、無損傷，多采用有蠟拋光的技術進行拋光。拋光過程中會投加大量藥劑，拋光完成之后晶片表面附著的大量具有較強的腐蝕性的藥水，因此需將晶體表面的藥水快速沖洗干凈，而且從拋光藥液中揮發(fā)出來的少量氧化性氣體逸到空氣中，使晶片在表面附著的純水的界面上與空氣中氧化性氣體發(fā)生反應，使晶片表面被腐蝕，嚴重影響晶片質(zhì)量。因此需將拋光后的晶片快速沖洗干凈，且快速脫水。但是現(xiàn)有技術并未對此問題有足夠的重視，因而也沒有采取有效的措施來實現(xiàn)對半導體晶片的快速沖洗和脫水。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型旨在提供一種可以實現(xiàn)對半導體晶片的快速沖洗和脫水的自動快速甩干晶片的裝置。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是:
[0005]一種自動快速甩干晶片的裝置，包括桶體，所述桶體內(nèi)設有陶瓷盤支架，所述陶瓷盤支架上設有陶瓷盤固定機構，所述陶瓷盤支架通過托架旋轉(zhuǎn)軸固定并在所述托架旋轉(zhuǎn)軸的帶動下旋轉(zhuǎn)，所述托架旋轉(zhuǎn)軸通過支撐柱固定在所述桶體上，所述桶體的下表面設有一導流平面，所述桶體側(cè)面設有一集水槽，所述集水槽下方設有排水口，所述桶體上方設有一桶蓋，所述桶蓋頂部中心位置設有噴水-抽氣系統(tǒng)，所述噴水-抽氣系統(tǒng)包括多個導向管道和設置于每一所述導向管道上的閥門。
[0006]進一步地所述導流平面為中心向上突起，邊緣向下凹陷的結(jié)構，且所述導流平面沿著遠離所述集水槽的方向其平面高度逐漸增高。
[0007]進一步地所述桶蓋四周設有密封圈。
[0008]進一步地所述集水槽為一帶弧形凹槽結(jié)構，且所述凹槽結(jié)構向所述桶體外側(cè)凸出，所述弧形由所述凹槽結(jié)構一側(cè)向桶內(nèi)延伸。
[0009]進一步地所述導向管道傾斜設置在所述桶蓋頂部的中心位置。
[0010]進一步地還包括供電動力系統(tǒng)，所述供電動力系統(tǒng)驅(qū)動所述托架旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。
[0011]進一步地所述導向管道的數(shù)量為四個。
[0012]采用上述技術方案，本實用新型至少包括如下有益效果:
[0013]本實用新型所述的自動快速甩干晶片的裝置，設計的導流平面利于清洗廢水的收集。桶蓋頂部設有噴水系統(tǒng)，利于水流全面覆蓋晶片，桶蓋頂部設有抽風系統(tǒng)，利于晶片表面迅速干燥。采用噴水-抽氣系統(tǒng)為同一裝置，設計和操作簡單，節(jié)約空間，簡化裝置。側(cè)壁設有集水槽，根據(jù)動力力學原理，便于離心水分的收集。集水槽下設有排水口，利于污水收集排出，保護晶片和環(huán)境。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型所述的自動快速甩干晶片的裝置的結(jié)構示意圖；
[0015]圖2為本實用新型所述的桶蓋仰視圖；
[0016]圖3為本實用新型所述的噴水-抽氣系統(tǒng)的安裝示意圖；
[0017]圖4為本實用新型所述的集水槽的正視圖。
[0018]其中:1.桶體2.陶瓷盤支架，3.托架旋轉(zhuǎn)軸，4.支撐柱，5.導流平面，6.集水槽，7.排水口，8.桶蓋，9.噴水-抽氣系統(tǒng)。
【具體實施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。
[0020]如圖1至圖4所示，為符合本實用新型的一種自動快速甩干晶片的裝置，包括桶體1，所述桶體1內(nèi)設有陶瓷盤支架2，所述陶瓷盤支架2上設有陶瓷盤固定機構，所述陶瓷盤支架2通過托架旋轉(zhuǎn)軸3固定并在所述托架旋轉(zhuǎn)軸3的帶動下旋轉(zhuǎn)，所述托架旋轉(zhuǎn)軸3通過支撐柱4固定在所述桶體1上，所述桶體1的下表面設有一導流平面5，所述桶體1側(cè)面設有一集水槽6，所述集水槽6下方設有排水口 7，所述桶體1上方設有一桶蓋8，所述桶蓋8頂部中心位置設有噴水-抽氣系統(tǒng)9，所述噴水-抽氣系統(tǒng)9包括多個導向管道和設置于每一所述導向管道上的閥門。采用噴水系統(tǒng)和抽氣系統(tǒng)為同一結(jié)構，通過閥門控制其開合，通過注入液體或者抽出氣體來實現(xiàn)噴水和抽氣的功能。由于所述導向管道和所述閥門的設置為本領域技術人員的公知常識，故此處不再贅述。
[0021]優(yōu)選地所述導流平面5為中心向上突起，邊緣向下凹陷的結(jié)構，且所述導流平面5沿著遠離所述集水槽6的方向其平面高度逐漸增高。如此設置有利于污水沿著所述導流平面5流向所述排水口 7。
[0022]優(yōu)選地所述桶蓋8四周設有密封圈，通過所述密封圈的設置可以保證整個裝置在工作時處于密封狀態(tài)。
[0023]優(yōu)選地所述集水槽6為一帶弧形凹槽結(jié)構，且所述凹槽結(jié)構向所述桶體1外側(cè)凸出，所述弧形由所述凹槽結(jié)構一側(cè)向桶內(nèi)延伸。
[0024]優(yōu)選地所述導向管道傾斜設置在所述桶蓋8頂部的中心位置。如此設置可以保證噴出的水流正好覆蓋陶瓷盤上的晶片。
[0025]本實施例還包括供電動力系統(tǒng)，所述供電動力系統(tǒng)驅(qū)動所述托架旋轉(zhuǎn)軸3轉(zhuǎn)動。由于其為本領域技術人員的公知常識，故此處不再贅述。附圖中略去了所述供電動力系統(tǒng)的結(jié)構，本領域技術人員應當知曉其如何設置。
[0026]所述導向管道的數(shù)量優(yōu)選為四個，并可根據(jù)實際的使用需求進行適當增加或者減少，本實施例對此不作限定。
[0027]本實施例的具體操作步驟如下:
[0028]1、將多個晶片和陶瓷盤一起放在所述陶瓷盤支架2上，在所述供電動力系統(tǒng)的作用下使所述托架旋轉(zhuǎn)軸3帶動陶瓷盤和晶片高速旋轉(zhuǎn)。
[0029]2、打開桶蓋8頂部的噴水系統(tǒng)，噴出的水流正好覆蓋陶瓷盤上的晶片，同時，根據(jù)動力力學的特性，高速旋轉(zhuǎn)的托架旋轉(zhuǎn)軸3會將晶片上的大部分水甩入桶壁一側(cè)的帶弧形集水槽6，所述集水槽6下方即是排水口 7，晶片上剩余的小部分水分在離心力的作用下甩到導流平面5或桶壁上，最終匯集到排水口 7排出。此目的是清洗干凈晶片表面附著的藥液，避免藥力腐蝕晶片。
[0030]3、清洗完成后，關閉噴水系統(tǒng)，打開抽風系統(tǒng)，同時在高速旋轉(zhuǎn)的離心力的作用下，使晶片迅速被甩干；此目的是迅速甩干晶片表面的水分，避免晶片被氧化。
[0031]本實用新型所述的自動快速甩干晶片的裝置，設計的導流平面5利于清洗廢水的收集。桶蓋8頂部設有噴水系統(tǒng)，利于水流全面覆蓋晶片，桶蓋8頂部設有抽風系統(tǒng)，利于晶片表面迅速干燥。采用噴水-抽氣系統(tǒng)為同一裝置，設計和操作簡單，節(jié)約空間，簡化裝置。側(cè)壁設有集水槽6，根據(jù)動力力學原理，便于離心水分的收集。集水槽6下設有排水口7，利于污水收集排出，保護晶片和環(huán)境。
[0032]以上對本實用新型的一個實施例進行了詳細說明，但所述內(nèi)容僅為本實用新型創(chuàng)造的較佳實施例，不能被認為用于限定本實用新型的實施范圍。凡依本實用新型申請范圍所作的任何等同變化，均應仍處于本實用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
【權利要求】
1.一種自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于，包括桶體，所述桶體內(nèi)設有陶瓷盤支架，所述陶瓷盤支架上設有陶瓷盤固定機構，所述陶瓷盤支架通過托架旋轉(zhuǎn)軸固定并在所述托架旋轉(zhuǎn)軸的帶動下旋轉(zhuǎn)，所述托架旋轉(zhuǎn)軸通過支撐柱固定在所述桶體上，所述桶體的下表面設有一導流平面，所述桶體側(cè)面設有一集水槽，所述集水槽下方設有排水口，所述桶體上方設有一桶蓋，所述桶蓋頂部中心位置設有噴水-抽氣系統(tǒng)，所述噴水-抽氣系統(tǒng)包括多個導向管道和設置于每一所述導向管道上的閥門。
2.如權利要求1所述的自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于:所述導流平面為中心向上突起，邊緣向下凹陷的結(jié)構，且所述導流平面沿著遠離所述集水槽的方向其平面高度逐漸增高。
3.如權利要求2所述的自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于:所述桶蓋四周設有密封圈。
4.如權利要求1-3任一所述的自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于:所述集水槽為一帶弧形凹槽結(jié)構，且所述凹槽結(jié)構向所述桶體外側(cè)凸出，所述弧形由所述凹槽結(jié)構一側(cè)向桶內(nèi)延伸。
5.如權利要求4所述的自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于:所述導向管道傾斜設置在所述桶蓋頂部的中心位置。
6.如權利要求5所述的自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于:還包括供電動力系統(tǒng)，所述供電動力系統(tǒng)驅(qū)動所述托架旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動。
7.如權利要求6所述的自動快速甩干晶片的裝置，其特征在于:所述導向管道的數(shù)量為四個。
【文檔編號】H01L21/67GK204167275SQ201420596523
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年10月15日 優(yōu)先權日:2014年10月15日
【發(fā)明者】易德福, 吳城 申請人:易德福