顯示設(shè)備及其制造方法
【專利摘要】顯示設(shè)備可以包括襯底。所述顯示設(shè)備可以還包括顯示單元，其包括發(fā)射層并布置在所述襯底上。所述顯示設(shè)備可以還包括重疊所述顯示單元的保護(hù)層。所述顯示設(shè)備可以還包括布置在所述顯示單元與所述保護(hù)層之間的有機(jī)層。有機(jī)層的頂表面積可以等于或小于所述保護(hù)層的頂表面積。
【專利說明】顯示設(shè)備及其制造方法
[0001]相關(guān)申請
[0002]本申請要求于2013年8月I日向韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2013-0091582號韓國專利申請的權(quán)益，所述申請的公開內(nèi)容以援引方式整體并入本文。
[0003]背景
[0004]1.領(lǐng)域
[0005]本發(fā)明涉及顯示設(shè)備及其制造方法。
[0006]2.相關(guān)技術(shù)描述
[0007]顯示設(shè)備可以包括顯示單元，其包括發(fā)射層并由此可以是自發(fā)射的。顯示單元可能需要與顯示設(shè)備周圍的環(huán)境充分分開。例如，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備可以包括有機(jī)發(fā)光裝置，其包括空穴注入電極、電子注入電極和布置在所述電極之間并配置為發(fā)光的有機(jī)發(fā)射層。有機(jī)發(fā)光裝置可能需要被密封以免于有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備周圍的環(huán)境中的水分、氧等。
[0008]概述
[0009]本發(fā)明的實施方案可以涉及顯示裝置(例如，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備)，其包括顯示單元并具有用于有效保護(hù)所述顯示單元免于水分的封裝結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的實施方案可以涉及用于制造所述顯示裝置的方法。
[0010]本發(fā)明的實施方案可以涉及可包括襯底的顯示設(shè)備。所述顯示設(shè)備可以還包括顯示單元，其包括發(fā)射層(例如，有機(jī)發(fā)光層)并布置在所述襯底上。顯示設(shè)備可以還包括重疊所述顯示單元的第一保護(hù)層。所述顯示設(shè)備可以還包括布置在所述顯示單元與所述第一保護(hù)層之間的第一有機(jī)層。所述第一有機(jī)層的表面積可以等于或小于所述第一保護(hù)層的表面積。
[0011]所述第一有機(jī)層的頂表面積可以基本等于所述第一保護(hù)層的頂表面積。
[0012]第一有機(jī)層的側(cè)表面可以與第一保護(hù)層的側(cè)表面齊平和/或與第一保護(hù)層的側(cè)表面對齊。
[0013]第一保護(hù)層可以由可包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(S1x)和鋁氧化物(Al2O3)中至少之一的材料形成。
[0014]顯示設(shè)備可以包括覆蓋第一保護(hù)層的第一無機(jī)層。
[0015]所述第一無機(jī)層可以直接接觸所述襯底、所述第一保護(hù)層和所述第一有機(jī)層。
[0016]所述第一保護(hù)層可以不直接接觸襯底。
[0017]所述第一保護(hù)層的頂表面積可以小于所述第一無機(jī)層的頂表面積。
[0018]所述顯示設(shè)備可以包括第二無機(jī)層，其可以重疊所述第一無機(jī)層。所述顯示設(shè)備可以還包括布置在所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間的第二有機(jī)層。
[0019]所述顯示設(shè)備可以包括布置在所述第二無機(jī)層與所述第二有機(jī)層之間的第二保護(hù)層。第二無機(jī)層可以直接接觸所述第一無機(jī)層、所述第二有機(jī)層和所述第二保護(hù)層。
[0020]所述顯示設(shè)備可以包括布置在所述顯示單元與所述第一有機(jī)層之間的金屬層。
[0021]所述金屬層接觸所述第一有機(jī)層的至少兩個表面。所述兩個表面可以彼此呈小于180度的角。
[0022]所述金屬層可以包含鋰氟化物(LiF)和鋁氧化物(AlOx)中至少之一。
[0023]本發(fā)明的實施方案可以涉及可包括以下部件的顯示設(shè)備:襯底；包括發(fā)射層并布置在所述襯底上的顯示單元；覆蓋所述顯示單元的無機(jī)層；布置在所述顯示單元與所述無機(jī)層之間的保護(hù)層；以及布置在所述顯示單元與所述保護(hù)層之間的有機(jī)層。所述無機(jī)層可以接觸所述保護(hù)層和所述有機(jī)層。
[0024]本發(fā)明的實施方案可以涉及制造顯示設(shè)備的方法。所述方法可以包括以下步驟:在襯底上形成顯示單元,所述顯示單元包括發(fā)射層；形成重疊所述顯示單元和所述襯底的第一有機(jī)材料層；形成覆蓋所述第一有機(jī)材料層的第一部分而不覆蓋所述第一有機(jī)材料層的第二部分的第一保護(hù)層；以及將所述第一保護(hù)層用作掩膜來除去所述第一有機(jī)材料層的第二部分，從而形成第一有機(jī)層，所述第一有機(jī)層對應(yīng)于所述第一有機(jī)材料層的第一部分，其中所述顯示設(shè)備包括所述第一保護(hù)層。
[0025]所述方法可以包括以下步驟:形成第一無機(jī)層，以使所述第一無機(jī)層與所述襯底和所述第一保護(hù)層接觸，其中所述第一保護(hù)層和所述第一有機(jī)層可以布置在所述襯底與所述第一無機(jī)層之間。
[0026]所述方法可以包括以下步驟:在所述第一無機(jī)層上形成第二有機(jī)材料層；形成第二保護(hù)層，所述第二保護(hù)層覆蓋所述第二有機(jī)材料層的第一部分而不覆蓋所述第二有機(jī)材料層的第二部分；以及將所述第二保護(hù)層用作掩膜來除去所述第二有機(jī)材料層的第二部分，從而形成第二有機(jī)層，所述第二有機(jī)層對應(yīng)于所述第二有機(jī)材料層的第一部分，其中所述顯示設(shè)備包括所述第二保護(hù)層。
[0027]所述方法可以包括以下步驟:形成第二無機(jī)層，所述第二無機(jī)層接觸所述第一無機(jī)層和所述第二保護(hù)層，其中所述第二保護(hù)層和所述第二有機(jī)層可以布置在所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間。
[0028]所述方法可以包括以下步驟:在形成所述第一有機(jī)材料層的步驟之前，形成覆蓋所述顯示單元的金屬層。
[0029]所述金屬層可以接觸所述顯示單元的至少兩個側(cè)面。
[0030]本發(fā)明的實施方案可以涉及可包括以下部件的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備:襯底；在所述襯底上形成的顯示單元；以及配置成封裝所述顯示單元的薄膜封裝(TFE)層，其中所述TFE層包括第一有機(jī)層、在所述第一有機(jī)層上形成的保護(hù)層以及覆蓋所述保護(hù)層的第一無機(jī)層，其中所述保護(hù)層限定所述第一有機(jī)層的形狀和/或面積，并且其中所述保護(hù)層的面積(例如頂部面積)可以基本等于所述第一有機(jī)層的類似面積(例如頂部面積)。
[0031]可以連續(xù)形成所述保護(hù)層的側(cè)表面和所述有機(jī)層的側(cè)表面，即，齊平和/或?qū)R。
[0032]所述保護(hù)層可以包含硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(S1x)和鋁氧化物(Al2O3)中至少之一。
[0033]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備可以包括以下部件:布置在第一無機(jī)層上的第二有機(jī)層；以及覆蓋所述第二有機(jī)層的第二無機(jī)層。
[0034]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備可以包括布置在所述第二有機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間的第二保護(hù)層，所述第二保護(hù)層限定所述第二有機(jī)層的形狀和/或面積。
[0035]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備可以包括布置在所述顯示單元與所述第一有機(jī)層之間的金屬層，所述金屬層覆蓋所述顯示單元。
[0036]所述金屬層可以包含鋰氟化物(LiF)和鋁氧化物(AlOx)中至少之一。
[0037]所述保護(hù)層的面積(例如，頂部面積)可以小于所述第一無機(jī)層的面積(例如頂部面積)。
[0038]本發(fā)明的實施方案可以涉及包括以下部件的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備:襯底；在所述襯底上形成的顯示單元；以及配置為封裝所述顯示單元的薄膜封裝(TFE)層，其中所述TFE層包括多個有機(jī)層、與所述多個有機(jī)層交替堆疊(或布置)的多個無機(jī)層，以及在所述有機(jī)層中至少最低的有機(jī)層的上表面上形成的保護(hù)層。保護(hù)層可以由包括硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(S1x)和鋁氧化物(Al2O3)中至少之一的材料形成。
[0039]保護(hù)層可以限定最低有機(jī)層的形狀和/或面積(例如頂部面積)，并且所述保護(hù)層的面積可以基本等于所述最低有機(jī)層的類似面積。
[0040]可以連續(xù)形成所述保護(hù)層的側(cè)表面和所述最低有機(jī)層的側(cè)表面。
[0041 ] 可以在多個有機(jī)層的每一層的上表面上形成保護(hù)層。
[0042]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備可以包括在所述顯示單元上直接形成的金屬層，所述金屬層覆蓋所述顯示單元。
[0043]所述金屬層可以包含鋰氟化物(LiF)和鋁氧化物(AlOx)中至少之一。
[0044]所述保護(hù)層的面積可以小于所述多個無機(jī)層的每一層的類似面積。
[0045]本發(fā)明的實施方案可以涉及制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法。所述方法可以包括以下步驟:在襯底上形成顯示單元；以及形成用于封裝顯示單元的薄膜封裝(TFE)層。TFE層的形成可以包括以下步驟:在顯示單元上形成第一有機(jī)層；在所述第一有機(jī)層上形成保護(hù)層；除去所述第一有機(jī)層的一部分；以及形成第一無機(jī)層以覆蓋所述保護(hù)層。所述第一有機(jī)層的面積可以基本等于所述保護(hù)層的類似面積。
[0046]所述保護(hù)層可以包含硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(S1x)和鋁氧化物(Al2O3)中至少之一。
[0047]可以將保護(hù)層用作掩膜，通過灰化過程來除去在所述保護(hù)層之外形成(S卩，不由所述保護(hù)層覆蓋)的第一有機(jī)層的部分。
[0048]所述方法可以包括以下步驟:在第一無機(jī)層上形成第二有機(jī)層；以及形成第二無機(jī)層以復(fù)蓋弟~■有機(jī)層。
[0049]所述方法可以在形成第二無機(jī)層的步驟之前包括以下步驟:在第二有機(jī)層上形成第二保護(hù)層；以及除去所述第二有機(jī)層的一部分，其中所述第二有機(jī)層的面積可以基本等于所述第二保護(hù)層的類似面積。
[0050]所述方法可以在形成第一有機(jī)層的步驟之前包括以下步驟:形成覆蓋顯示單元的金屬層。
[0051]附圖簡述
[0052]圖1是示出本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備(例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備)的剖視圖。
[0053]圖2是示出本發(fā)明實施方案的圖1所示的顯示設(shè)備的顯示單元的剖視圖。
[0054]圖3是示出本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備(例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備)的剖視圖。
[0055]圖4是示出本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備(例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備)的剖視圖。
[0056]圖5至8是示出制造本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備(例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備)的方法的剖視圖。
[0057]詳細(xì)描述
[0058]參考附圖來描述本發(fā)明的實施方案的實例，其中相同的符號可以指代相同和/或類似的部件。本發(fā)明的實施方案可以具有不同的形式，并且不應(yīng)解釋為受限于本文給出的描述。
[0059]如本文所用，術(shù)語“和/或”可以包括相關(guān)項中的一個或多個項的任何及所有組合。諸如“至少之一”的表述當(dāng)在要素列之前時，修飾整個要素列，而不修飾該列的個別要素。
[0060]盡管術(shù)語“第一”、“第二”等在本文可以用于描述各種信號、部件、組件、區(qū)域、層和/或部分，但這些信號、部件、組件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語可以用于將一信號、部件、組件、區(qū)域、層或部分與另一部件、區(qū)域、層或部件進(jìn)行區(qū)分。因此，以下討論的第一信號、部件、組件、區(qū)域、層或部件在不背離本發(fā)明的教導(dǎo)的情況下可以稱為第二信號、部件、組件、區(qū)域、層或部分。將部件描述為“第一”部件可以不需要或不暗示第二部件或其他部件的存在。術(shù)語“第一”、“第二”等在本文還可以用于區(qū)分不同種類的部件。為了簡明，術(shù)語“第一”、“第二”等可以分別表示“第一類(或第一種類)”、“第二類(或第~-種類)”等。
[0061]在說明書中，術(shù)語“連接”可以表示“電連接”;術(shù)語“絕緣”可以表示“電絕緣”;術(shù)語“傳導(dǎo)的”可以表示“導(dǎo)電的”。
[0062]圖1是示出本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備10例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的剖視圖。圖2是示出有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的顯示單元200例如有機(jī)發(fā)光顯示單元200的剖視圖。
[0063]參考圖1和圖2，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10可以包括襯底100、在所述襯底100上形成的顯示單元200，以及可以基本封裝顯示單元200的封裝層300。
[0064]襯底100可以是柔性襯底，并且可以由具有足夠的耐熱性和耐久性的塑料形成。塑料可以包括例如聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚芳酯(PAR)、聚醚酰亞胺等中至少之一。在實施方案中，襯底100可以由諸如金屬、玻璃等的多種材料中的一種或多種形成。
[0065]如圖2所示，顯示單元200可以包括薄膜晶體管(TFT)層200a和像素部分200b。像素部分200b可以是或者可以包括發(fā)射裝置，例如有機(jī)發(fā)光裝置。
[0066]TFT層200a可以包括或者可以布置在緩沖層212上。TFT層200a可以包括布置在緩沖層212上的薄膜晶體管(TFT) 200?？梢栽谝r底100上形成緩沖層212。緩沖層212可以防止雜質(zhì)成分的滲透以免于污染TFT 220和/或可以在襯底100上提供平坦的表面。
[0067]緩沖層212可以由能夠進(jìn)行這些保護(hù)和平整化功能中的一種或多種功能的多種材料中的一種或多種材料形成。在實施方案中，緩沖層212可以包括無機(jī)材料，例如硅氧化物、硅氮化物、硅氮氧化物、鋁氧化物、鋁氮化物、鈦氧化物、鈦氮化物等中的一種或多種，或者有機(jī)材料，例如聚酰亞胺、聚酯、丙烯酸酯(acryl)等。在實施方案中，緩沖層212可以包括由不同材料中的一些材料形成的堆疊層。
[0068]在實施方案中，TFT 220可以具有頂柵極TFT結(jié)構(gòu)，如圖2所示。在實施方案中，TFT 220可以具有除頂柵極TFT結(jié)構(gòu)之外的結(jié)構(gòu)。
[0069]TFT 220可以包括有源層221、柵極222、源極223a和漏極223b。
[0070]有源層221可以由半導(dǎo)體材料形成，并且可以在緩沖層212上形成。柵極絕緣層213可以覆蓋有源層221。有源層221可以是無機(jī)半導(dǎo)體，例如非晶硅或多晶硅，或者有機(jī)半導(dǎo)體。有源層221可以包括源區(qū)、漏區(qū)和布置在所述源區(qū)與所述漏區(qū)之間的通道區(qū)。柵極絕緣層213可以使有源層221與柵極222電絕緣，并且可以由有機(jī)材料或諸如硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(S12)的無機(jī)材料形成。
[0071]柵極222可以在柵極絕緣層213上形成。層間絕緣層214可以覆蓋柵極222。
[0072]柵極222 可以包含金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鉬(Pt)、鈀(Pd)、鋁(Al)或鑰(Mo)，或諸如Al-釹(Nd)合金、Mo-鎢(W)合金等的合金。在實施方案中，柵極222可以由多種傳導(dǎo)材料中的一種或多種形成。
[0073]層間絕緣層214可以布置在柵極222與源極223a和漏極223b至少之一之間，以提供電絕緣。層間絕緣層214可以由諸如SiNx、S12等的無機(jī)材料形成。
[0074]可以在層間絕緣層214上形成源極223a和漏極223b?？梢孕纬纱┻^層間絕緣層214和柵極絕緣層213的孔224，以暴露有源層221的源區(qū)和漏區(qū)，以使源極223a和漏極223b可以分別接觸暴露的源區(qū)和漏區(qū)。
[0075]圖2示出頂柵極TFT結(jié)構(gòu)，其中有源層221布置在柵極222與襯底100之間。在實施方案中，柵極222可以布置在有源層221與襯底100之間。
[0076]TFT 220可以與像素部分200b電連接以驅(qū)動(即控制)像素部分200b。平整層215可以保護(hù)和/或覆蓋TFT 220。
[0077]平整層215可以是或者可以包括無機(jī)絕緣層和/或有機(jī)絕緣層。在實施方案中，平整層215是無機(jī)絕緣層，并且平整層215可以包含Si02、SiNx、氮氧化硅(S1N)、鋁氧化物(Al2O3)、鈦氧化物(T12)、鉭氧化物(Ta2O5)、鉿氧化物(HfO2)、鋯氧化物(ZrO2)、鈦酸鍶鋇(BST)、鋯鈦酸鉛(PZT)等中至少之一。在實施方案中，平整層215是有機(jī)絕緣層，并且平整層215可以包含通用聚合物(例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚苯乙烯(PS))、具有酚基的聚合物衍生物、丙烯酰基(acryl group)聚合物、酰亞胺基聚合物、芳基醚基聚合物、酰胺基聚合物、氟基聚合物、對二甲苯基聚合物、乙烯醇基聚合物及其混合物等中至少之一。平整層215可以具有聚合堆疊結(jié)構(gòu)，其包括一層或多層無機(jī)絕緣層和/或一層或多層有機(jī)絕緣層。
[0078]像素部分220b可以在平整層215上形成，并且可以包括像素電極231、中間層232和對電極233。
[0079]在實施方案中，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10可以是頂發(fā)射型設(shè)備。像素電極231在平整層215上形成，并且通過在平整層215中形成的接觸孔230與源極223a和漏極223b之一電連接。
[0080]像素電極231可以是反射電極，并且可以包括由以下的一種或多種形成的反射層:Ag、鎂(Mg)、Al、Pt、Pd、Au、N1、Nd、銥(Ir)、鉻(Cr)以及這些材料中一些材料的化合物。像素電極231可以還包括在反射層上形成的透明或半透明電極層。透明或半透明電極層可以至少包含銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鋅氧化物(ZnO)、銦氧化物(In2O3)、銦鎵氧化物(IGO)和鋁鋅氧化物(AZO)。
[0081]重疊像素電極231的對電極233可以是透明或半透明電極，并且可以包括低功函的金屬薄膜。在實施方案中，對電極233可以包含以下至少之一:鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰(LiF)/Ca、LiF/Al、Al、Mg，以及這些材料中一些材料的化合物?？梢栽诮饘俦∧ど闲纬奢o助電極層和/或透明匯流電極。
[0082]對電極233可以傳輸由在中間層232中包括的有機(jī)發(fā)射層發(fā)射的光。由有機(jī)發(fā)射層發(fā)射的光可以直接朝向?qū)﹄姌O233發(fā)射；替代地或另外地，由有機(jī)發(fā)射層發(fā)射的光可以被像素電極231反射而朝向?qū)﹄姌O233。
[0083]在實施方案中,有機(jī)發(fā)射顯示設(shè)備10可以是底發(fā)射型設(shè)備，其中由有機(jī)發(fā)射層發(fā)射的光可以朝向襯底100傳輸，像素電極231可以是透明或半透明的電極，并且對電極233可以是反射電極。在實施方案中，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10可以是頂-底-發(fā)射型設(shè)備，其中由有機(jī)發(fā)射層發(fā)射的光可以朝向?qū)﹄姌O233和襯底100傳輸。
[0084]可以在像素電極231上形成由絕緣材料形成的像素限定層216。像素限定層216暴露像素電極231的預(yù)定區(qū)域。包括有機(jī)發(fā)射層的中間層232可以重疊像素電極231的暴露區(qū)域。
[0085]有機(jī)發(fā)射層可以包括低分子有機(jī)材料或高分子有機(jī)材料。除了有機(jī)發(fā)射層之外，中間層232還可以包括一種或多種功能層，例如空穴傳輸層(HTL)、空穴注入層(HIL)、電子傳輸層(ETL)、電子注入層(EIL)等中的一層或多層。
[0086]再次參考圖1，封裝層300可以覆蓋和/或封裝顯示單元200，以延遲和/或防止顯示單元200的退化。
[0087]封裝層300可以包括第一有機(jī)層310、在第一有機(jī)層310上形成的保護(hù)層330，以及覆蓋保護(hù)層330的第一無機(jī)層320。
[0088]第一有機(jī)層310可以基本覆蓋顯示單元200。第一有機(jī)層310可以由柔性有機(jī)材料形成以緩解第一無機(jī)層320的內(nèi)應(yīng)力和/或(為了防止外部水分或氧的滲透)可以覆蓋(和/或填充)第一無機(jī)層320的細(xì)裂紋和針孔。
[0089]第一無機(jī)層320可以由至少一種具有期望的防潮或抗?jié)裉匦缘臒o機(jī)材料形成。第一無機(jī)層320可以由SiNx、Al203、Si02和T12中至少之一形成，并且可以基本防止或抵抗水分和/或氧的滲透。第一無機(jī)層320可以基本覆蓋第一有機(jī)層310和/或保護(hù)層330。
[0090]在實施方案中，封裝層300可以包括交替堆疊的有機(jī)層和/或無機(jī)層。在實施方案中，封裝層300可以包括可直接接觸顯示單元200的無機(jī)層。保護(hù)層300可以保護(hù)第一有機(jī)層310免于等離子等。保護(hù)層330可以是或者可以包括無機(jī)層、有機(jī)層和混合的無機(jī)-有機(jī)層中至少之一。在實施方案中，保護(hù)層330可以包括由諸如SiNx、S1x或Al2O3的無機(jī)材料形成的無機(jī)層。
[0091]保護(hù)層330可以限定第一有機(jī)層310的形狀和/或面積。在制造方法中，保護(hù)層330可以用作用于形成第一有機(jī)層310的掩膜。在實施方案中，為形成第一有機(jī)層310而提供并暴露在保護(hù)層330之外的材料可以通過諸如灰化等的除去過程而移除。
[0092]因此，第一有機(jī)層310的頂表面積可以基本等于或小于所述保護(hù)層330的頂表面積，并且保護(hù)層330的側(cè)表面可以與第一有機(jī)層310的側(cè)表面基本齊平和/或?qū)R。根據(jù)本發(fā)明的實施方案，保護(hù)層330可以明確限定第一有機(jī)層310的邊界，并且可以除去在形成第一有機(jī)層310的過程中提供的不期望的材料。有利地，可以在第一有機(jī)層310的邊緣處提供第一有機(jī)層310的期望的抗?jié)裉匦裕⑶铱梢詢?yōu)化有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的側(cè)面防潮性/抗?jié)裥浴?br>
[0093]因為第一無機(jī)層320可以基本完全覆蓋保護(hù)層330，所以保護(hù)層330的頂表面積可以小于第一無機(jī)層320的頂表面積。
[0094]圖3是示出本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備1B例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1B的剖視圖。
[0095]參考圖3，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1B可以包括襯底100、在襯底100上形成的顯示單元200，以及可以基本封裝顯示單元200的封裝層300B。有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1B中的襯底100和顯示單元200可以與參考圖1和圖2所述的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10的襯底100和顯示單元200基本相同。
[0096]封裝層300B可以包括第一有機(jī)層310、第一無機(jī)層320 (其可以基本覆蓋第一有機(jī)層310)、在第一無機(jī)層320上形成的第二有機(jī)層310B，以及第二無機(jī)層320B(其可以基本覆蓋第二有機(jī)層310B)。
[0097]在實施方案中，封裝層300B可以包括交替堆疊的有機(jī)層(例如有機(jī)層310和310B)和無機(jī)層(例如無機(jī)層320和320B)。封裝層300可以還包括一層或多層額外的有機(jī)層(除了有機(jī)層310和310B之外)和/或一層或多層額外的無機(jī)層(除了無機(jī)層320和320B之外)?？梢栽诘谝挥袡C(jī)層310上形成保護(hù)層330，以使保護(hù)層330可以布置在第一有機(jī)層310與第一無機(jī)層320之間。保護(hù)層330可以用作掩膜以除去在形成第一有機(jī)層310的過程中在襯底上提供的過量材料。有利地，可以優(yōu)化顯示單元200的封裝。
[0098]第二保護(hù)層330B可以還布置在第二無機(jī)層320B與第二有機(jī)層310B之間。第二保護(hù)層330B可以限定第二有機(jī)層310B的形狀和/或頂表面積。第二保護(hù)層330B可以由與保護(hù)層330的材料相同或類似的材料形成。第二保護(hù)層330B可以執(zhí)行與保護(hù)層330的一種或多種功能相同或類似的一種或多種功能。第二保護(hù)層330B可以明確限定第二有機(jī)層310B的邊界，以使可以除去在形成第二有機(jī)層310B的過程中形成的不期望的材料部分，并且可以優(yōu)化顯示單元200的封裝。
[0099]圖4是示出本發(fā)明實施方案的顯示設(shè)備1C例如有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1C的剖視圖。有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1C可以包括襯底100、在所述襯底100上形成的顯示單元200，以及可以基本封裝顯示單元200的封裝層300C。
[0100]封裝層300C的一個或多個特征可以與參考圖1所討論的封裝層300的一個或多個特征相同或類似。除第一有機(jī)層310、覆蓋第一有機(jī)層310的第一無機(jī)層320以及在第一有機(jī)層310上形成的保護(hù)層300之外，封裝層300C還可以包括在顯示單元200上形成的金屬層340。金屬層340可以布置在顯不單兀200與第一有機(jī)層310之間。在形成封裝層300C時，在顯示單元200上提供金屬層340之后，依次提供第一有機(jī)層310、保護(hù)層330和第一無機(jī)層320。
[0101]金屬層340可以覆蓋顯示單元200。金屬層340可以包含鹵化金屬。金屬層340可以由LiF或AlOx形成。當(dāng)通過濺射或等離子沉積形成金屬層340上的第一有機(jī)層310時，金屬層340可以防止顯示單元200的損壞。
[0102]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1C還可以包括圖3所示的封裝層300B的部件。在實施方案中，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備1C可以包括第二有機(jī)層310B、第二保護(hù)層330B，以及布置在封裝層300C上的第二無機(jī)層320B。
[0103]圖5至圖8是示出制造本發(fā)明實施方案的一個或多個有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備(例如圖1至圖4所示的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備10、10B和1C中的一個或多個)的方法的剖視圖。
[0104]參考圖5，在襯底100上形成顯示單元200和可以包括第一有機(jī)層310和過量部分313的第一有機(jī)材料層。顯示單元200可以具有參考圖2所討論的配置。顯示單元200可以包括多種已知發(fā)光單元中的一個或多個發(fā)光單元(例如一個或多個有機(jī)發(fā)光顯示單元)的一個或多個部件。
[0105]第一有機(jī)層310可以由聚脲、聚丙烯酸酯等中至少之一形成?？梢酝ㄟ^蒸發(fā)液相的單體以產(chǎn)生蒸發(fā)單體，將所述蒸發(fā)單體沉積在襯底100上以形成沉積單體，并對沉積單體輻射紫外線以將沉積單體聚合成聚合物，從而形成第一有機(jī)層310。
[0106]在實施方案中，在形成第一有機(jī)層310之前，可以形成金屬層340以覆蓋顯示單元200。金屬層340可以保護(hù)顯示單元200免于在金屬層340上形成有機(jī)層或無機(jī)層中使用的等尚子。
[0107]在形成第一有機(jī)材料層之后，在第一有機(jī)層310上形成保護(hù)層330，如圖6所示。
[0108]保護(hù)層330可以是或者可以包括無機(jī)層、有機(jī)層和/或無機(jī)-有機(jī)混合層，并且可以保護(hù)第一有機(jī)層310。在實施方案中，保護(hù)層330可以是由無機(jī)材料形成的無機(jī)層，所述無機(jī)材料例如SiNx、S1x, Al2O3等中之一?？梢酝ㄟ^濺射、原子層沉積、化學(xué)氣相沉積等中的一種或多種來沉積保護(hù)層330。
[0109]在實施方案中，保護(hù)層330可以配置成用作用于成形第一有機(jī)層310的掩膜。保護(hù)層330可以在第一有機(jī)層310上形成以對應(yīng)于第一有機(jī)層310的期望的頂表面積，而不覆蓋過量部分313。
[0110]在形成保護(hù)層330之后，除去第一有機(jī)材料層的過量部分313，并且保留第一有機(jī)層310，如圖7所示。
[0111]可以通過灰化過程除去第一有機(jī)層310的過量部分313?；一^程是通過加速等離子態(tài)的氣體、例如氧氣(O2)、氮氧化物(N2O)、氨(NH3)等中的一種或多種以進(jìn)行干法蝕刻來移除基于C的有機(jī)材料的過程。因為保護(hù)層330可以基本保護(hù)灰化過程中的第一有機(jī)層310，因此在灰化過程之后，保留第一有機(jī)層310，并除去暴露的過量部分313。因此，第一有機(jī)層310的頂表面積可以基本等于保護(hù)層330的頂表面積，并且保護(hù)層330的側(cè)表面可以與第一有機(jī)層310的側(cè)表面齊平和/或基本對齊。因為保護(hù)層330可以基本精確限定第一有機(jī)層310的邊界，所以可以形成包括第一有機(jī)層的封裝層的基本牢固和/或無縫結(jié)構(gòu)。有利地，顯示單元200可以有效免于水分。
[0112]隨后，如圖8所示，形成第一無機(jī)層320以覆蓋保護(hù)層330和第一有機(jī)層310。可以通過濺射、原子層沉積、化學(xué)氣相沉積等中至少之一形成第一無機(jī)層320。第一無機(jī)層320可以包含SiNx、S1x, AlOx、硅碳氮化物(SiCxNy)、硅氮氧化物(S1xNy)、無定型碳、銦氧化物(InOx)、鐿氧化物(YbOx)等中至少之一。第一無機(jī)層320可以包含一種或多種其他材料。
[0113]在實施方案中，形成第一無機(jī)層320，在無機(jī)層320上可以形成第二有機(jī)層(例如圖3所示的層310B)和第二無機(jī)層(例如圖3所示的層320B)。在實施方案中，可以在第二無機(jī)層320B上還形成一層或多層額外的有機(jī)層和一層或多層額外的無機(jī)層。在實施方案中，形成第二無機(jī)層320B，在第二有機(jī)層310B上可以形成用于成形和/或限定第二有機(jī)層310B的面積的第二保護(hù)層(例如圖3所示的層330B)。
[0114]如可從上述描述認(rèn)識到的，根據(jù)本發(fā)明的實施方案，可以在封裝層中形成具有基本精確形狀和/或面積的有機(jī)層。有利地，封裝層可以具有基本牢固和/或無縫的結(jié)構(gòu)，其可以有效保護(hù)顯示單元免于水分。
[0115]上述實施方案用于例示而非用于限定。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員會理解，在不背離由以下權(quán)利要求限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對實施方案進(jìn)行多種改變。
【權(quán)利要求】
1.顯示設(shè)備，其包括: 襯底； 包括發(fā)射層并布置在所述襯底上的顯示單元； 重疊所述顯示單元的第一保護(hù)層；以及 布置在所述顯示單元與所述第一保護(hù)層之間的第一有機(jī)層，其中所述第一有機(jī)層的頂表面積等于或小于所述第一保護(hù)層的頂表面積。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備，其中所述第一有機(jī)層的頂表面積等于所述第一保護(hù)層的頂表面積。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備，其中所述第一有機(jī)層的側(cè)表面與所述第一保護(hù)層的側(cè)表面齊平。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備，其中所述第一保護(hù)層包含硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(S1x)和鋁氧化物(Al2O3)中至少之一。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備，其還包括覆蓋所述第一保護(hù)層的第一無機(jī)層。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備，其中所述第一無機(jī)層接觸所述襯底和所述第一保護(hù)層。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示設(shè)備，其中所述第一保護(hù)層不直接接觸所述襯底。
8.如權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備，其中所述第一保護(hù)層的頂表面積小于所述第一無機(jī)層的頂表面積。
9.如權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備，其還包括: 重疊所述第一無機(jī)層的第二無機(jī)層；以及 布置在所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間的第二有機(jī)層。
10.如權(quán)利要求9所述的顯示設(shè)備，其還包括布置在所述第二無機(jī)層與所述第二有機(jī)層之間的第二保護(hù)層，其中所述第二無機(jī)層接觸所述第一無機(jī)層和所述第二保護(hù)層。
11.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備，其還包括布置在所述顯示單元與所述第一有機(jī)層之間的金屬層。
12.如權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備，其中所述金屬層接觸所述第一有機(jī)層的至少兩個表面。
13.如權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備，其中所述金屬層包含鋰氟化物(LiF)和鋁氧化物(AlOx)中至少之一。
14.顯示設(shè)備,其包括: 襯底； 包括發(fā)射層并布置在所述襯底上的顯示單元； 覆蓋所述顯示單元的無機(jī)層； 布置在所述顯示單元與所述無機(jī)層之間的保護(hù)層；以及 布置在所述顯示單元與所述保護(hù)層之間的有機(jī)層， 其中所述無機(jī)層接觸所述保護(hù)層和所述有機(jī)層。
15.制造顯示裝置的方法，所述方法包括: 在襯底上形成顯示單元,所述顯示單元包括發(fā)射層； 形成重疊所述顯示單元和所述襯底的第一有機(jī)材料層； 形成覆蓋所述第一有機(jī)材料層的第一部分而不覆蓋所述第一有機(jī)材料層的第二部分的第一保護(hù)層；以及 將所述第一保護(hù)層用作掩膜來除去所述第一有機(jī)材料層的所述第二部分以形成第一有機(jī)層，所述第一有機(jī)層對應(yīng)于所述第一有機(jī)材料層的所述第一部分，其中所述顯示設(shè)備包括第一保護(hù)層。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其還包括:形成第一無機(jī)層，使所述第一無機(jī)層接觸所述襯底和所述第一保護(hù)層，其中所述第一保護(hù)層和所述第一有機(jī)層布置在所述襯底與所述第一無機(jī)層之間。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其還包括: 在所述第一無機(jī)層上形成第二有機(jī)材料層； 形成第二保護(hù)層，所述第二保護(hù)層覆蓋所述第二有機(jī)材料層的第一部分而不覆蓋所述第二有機(jī)材料層的第二部分；以及 將所述第二保護(hù)層用作掩膜來除去所述第二有機(jī)材料層的所述第二部分以形成第二有機(jī)層，所述第二有機(jī)層對應(yīng)于所述第二有機(jī)材料層的所述第一部分，其中所述顯示設(shè)備包括所述第二保護(hù)層。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其還包括:形成第二無機(jī)層，所述第二無機(jī)層接觸所述第一無機(jī)層和所述第二保護(hù)層，其中所述第二保護(hù)層和所述第二有機(jī)層布置在所述第一無機(jī)層與所述第二無機(jī)層之間。
19.如權(quán)利要求15所述的方法，其還包括:在形成所述第一有機(jī)材料層之前，形成覆蓋所述顯示單元的金屬層。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其中所述金屬層接觸所述顯示單元的至少兩個側(cè)面。
【文檔編號】H01L27/32GK104347816SQ201410366681
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年7月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月1日
【發(fā)明者】張龍圭, 鄭倉龍 申請人:三星顯示有限公司