一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室

本發(fā)明涉及光子測(cè)量觀測(cè)，尤其是一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室。

背景技術(shù)：

1、直流氣體絕緣輸電適用于高電壓、大容量的場(chǎng)合，而在世界范圍內(nèi)，由于占地限制、環(huán)境約束以及未來(lái)直流發(fā)展規(guī)劃等問(wèn)題，迫切需要直流gis/gil這一電能傳輸新模式，直流gis/gil技術(shù)具有較好的應(yīng)用前景。然而，直流輸電核心技術(shù)長(zhǎng)期被國(guó)外公司壟斷，我國(guó)對(duì)直流gis/gil的研發(fā)目前仍處于探索階段。因此，我國(guó)亟待開(kāi)展關(guān)于直流gis/gil的技術(shù)研究。

2、目前基于直流gis/gil應(yīng)用場(chǎng)景來(lái)分析碰撞過(guò)程的電荷交互過(guò)程以探究運(yùn)動(dòng)微粒的荷電機(jī)制，從而獲取微粒在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不同時(shí)刻、不同位置的荷電規(guī)律；開(kāi)展微粒的動(dòng)力學(xué)隨機(jī)行為研究，建立微粒不同運(yùn)動(dòng)模式的動(dòng)力學(xué)模型；采用全光譜光子計(jì)數(shù)技術(shù)，測(cè)量金屬微粒運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致的電離-微放電現(xiàn)象；探索微粒運(yùn)動(dòng)與絕緣子電荷積聚的內(nèi)在關(guān)系，分析微粒行為對(duì)絕緣失效產(chǎn)生的影響機(jī)理，研究微粒抑制技術(shù)需要使用光子測(cè)量系統(tǒng)，而需要通過(guò)壓力氣室來(lái)對(duì)gil模型單元進(jìn)行安置和觀測(cè)。而目前的壓力氣室在每次觀測(cè)完之后對(duì)gil模型單元進(jìn)行拆卸更換時(shí)都會(huì)導(dǎo)致內(nèi)部氣壓快速降低，每次實(shí)驗(yàn)都需要重新增壓調(diào)節(jié)，極大增加實(shí)驗(yàn)成本，操作也很不方便。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是：目前應(yīng)用于光子測(cè)量的壓力氣室在對(duì)gil模型單元進(jìn)行拆卸更換后都需要重新增壓調(diào)節(jié)，極大增加實(shí)驗(yàn)成本，操作也很不方便。

2、本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，包括壓力氣室本體，所述壓力氣室本體上表面固定裝配內(nèi)部安裝有高壓輸入電源的高壓套管，壓力氣室本體側(cè)壁上固定裝配有用于外接增壓泵的側(cè)向增壓套管和用于外接光子設(shè)備固定夾具盒的側(cè)向觀測(cè)連接管，壓力氣室本體內(nèi)底面上具有向上凸起的內(nèi)部隔離倉(cāng)，所述內(nèi)部隔離倉(cāng)上端開(kāi)口位置活動(dòng)裝配有用于安裝gil單元的電控式翻轉(zhuǎn)控制模組，所述壓力氣室本體下表面位于內(nèi)部隔離倉(cāng)下端開(kāi)口位置活動(dòng)裝配有電控式底部分離罩殼。

3、所述內(nèi)部隔離倉(cāng)內(nèi)側(cè)面上具有向外凹陷的內(nèi)部安裝座。

4、所述電控式翻轉(zhuǎn)控制模組包括外部閉合蓋板、內(nèi)部閉合蓋板、弧形固定支架、角度調(diào)節(jié)撐桿、表面升降導(dǎo)軌和gil單元固定夾具。

5、所述內(nèi)部隔離倉(cāng)內(nèi)側(cè)面位于上、下端開(kāi)口位置均具有向內(nèi)彎折的內(nèi)部密封縮口框，所述內(nèi)部閉合蓋板通過(guò)側(cè)向支架與上端開(kāi)口的內(nèi)部密封縮口框下表面活動(dòng)裝配。

6、所述外部閉合蓋板與內(nèi)部閉合蓋板之間通過(guò)弧形固定支架固定連接，所述角度調(diào)節(jié)撐桿的缸體端通過(guò)軸活動(dòng)安裝在內(nèi)部安裝座內(nèi)，角度調(diào)節(jié)撐桿的伸出端與內(nèi)部閉合蓋板下表面活動(dòng)裝配，所述表面升降導(dǎo)軌固定安裝在內(nèi)部閉合蓋板上表面。

7、所述內(nèi)部隔離倉(cāng)下端開(kāi)口位置的內(nèi)部密封縮口框上具有三個(gè)用于裝卸電控式底部分離罩殼的底置豁口。

8、所述內(nèi)部隔離倉(cāng)側(cè)壁位于壓力氣室本體連接端具有側(cè)向?qū)Я髡?，所述?cè)向?qū)Я髡滞鈧?cè)開(kāi)口位置彈性裝配有側(cè)向泄壓閥。

9、所述內(nèi)部隔離倉(cāng)側(cè)壁上位于開(kāi)設(shè)有與側(cè)向?qū)Я髡謨?nèi)部相連通的側(cè)向泄壓口。

10、所述電控式底部分離罩殼包括底部密封蓋板、固定安裝在內(nèi)部隔離倉(cāng)一側(cè)的內(nèi)側(cè)調(diào)節(jié)電機(jī)、固定在底部密封蓋板上表面的頂部安裝塊、固定在頂部安裝塊外側(cè)弧形面上的側(cè)向鎖緊塊和弧形閉合蓋板。

11、所述表面升降導(dǎo)軌包括固定在內(nèi)部閉合蓋板上表面的橫置導(dǎo)軌和安裝在橫置導(dǎo)軌內(nèi)部的電控調(diào)節(jié)絲桿，所述gil單元固定夾具通過(guò)內(nèi)螺紋裝配塊套在電控調(diào)節(jié)絲桿外側(cè)與橫置導(dǎo)軌滑動(dòng)裝配。

12、本發(fā)明的有益效果是：

13、(1)本發(fā)明的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室通過(guò)在壓力氣室本體內(nèi)底面上的內(nèi)部隔離倉(cāng)配套電控式翻轉(zhuǎn)控制模組，可以從內(nèi)、外側(cè)分別對(duì)內(nèi)部隔離倉(cāng)的上端開(kāi)口進(jìn)行閉合，可以在對(duì)gil單元進(jìn)行更換時(shí)與高壓腔室內(nèi)部進(jìn)行隔離，避免內(nèi)部泄壓，從而降低因?yàn)槭簭亩貜?fù)增壓導(dǎo)致的能量浪費(fèi)；

14、(2)采用在內(nèi)部隔離倉(cāng)下端開(kāi)口位置活動(dòng)裝配有電控式底部分離罩殼，在打開(kāi)底部卸料口的情況下可以對(duì)內(nèi)部隔離倉(cāng)內(nèi)的壓力進(jìn)行預(yù)先排除，從而提升電控式底部分離罩殼在拆卸時(shí)的安全性；

15、(3)采用電控方式來(lái)對(duì)電控式翻轉(zhuǎn)控制模組和電控式底部分離罩殼進(jìn)行控制，省時(shí)省力，結(jié)構(gòu)調(diào)節(jié)也更加穩(wěn)定；

16、(4)采用電控式翻轉(zhuǎn)控制模組不僅可以對(duì)內(nèi)部隔離倉(cāng)上端開(kāi)口進(jìn)行閉合，同時(shí)還可以調(diào)節(jié)控制gil單元的高度，從而方便對(duì)gil單元的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，方便調(diào)節(jié)與觀測(cè)機(jī)構(gòu)的距離，使其可以適用于不同規(guī)格的檢測(cè)單元，適用范圍更加廣泛；

17、(5)在內(nèi)部隔離倉(cāng)內(nèi)側(cè)面位于上、下端開(kāi)口位置均具有向內(nèi)彎折的內(nèi)部密封縮口框，可以提升裝配面積，提升裝配穩(wěn)定性和密封性；

18、(6)整個(gè)調(diào)節(jié)過(guò)程完全在內(nèi)部完成，不會(huì)因?yàn)檎{(diào)節(jié)影響內(nèi)部壓力，從而降低實(shí)驗(yàn)過(guò)程能耗，降低測(cè)試成本；

19、(7)內(nèi)部隔離倉(cāng)不僅可以進(jìn)行隔離裝卸，還可以起到內(nèi)部支撐的作用，使得觀測(cè)過(guò)程更加穩(wěn)定，數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn)。

技術(shù)特征：

1.一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，包括壓力氣室本體(1)，其特征是：所述壓力氣室本體(1)上表面固定裝配內(nèi)部安裝有高壓輸入電源的高壓套管(2)，壓力氣室本體(1)側(cè)壁上固定裝配有用于外接增壓泵的側(cè)向增壓套管(3)和用于外接光子設(shè)備固定夾具盒的側(cè)向觀測(cè)連接管(4)，壓力氣室本體(1)內(nèi)底面上具有向上凸起的內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)，所述內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)上端開(kāi)口位置活動(dòng)裝配有用于安裝gil單元(6)的電控式翻轉(zhuǎn)控制模組(7)，所述壓力氣室本體(1)下表面位于內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)下端開(kāi)口位置活動(dòng)裝配有電控式底部分離罩殼(8)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)內(nèi)側(cè)面上具有向外凹陷的內(nèi)部安裝座(9)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述電控式翻轉(zhuǎn)控制模組(7)包括外部閉合蓋板(71)、內(nèi)部閉合蓋板(72)、弧形固定支架(73)、角度調(diào)節(jié)撐桿(74)、表面升降導(dǎo)軌(75)和gil單元固定夾具(76)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)內(nèi)側(cè)面位于上、下端開(kāi)口位置均具有向內(nèi)彎折的內(nèi)部密封縮口框(51)，所述內(nèi)部閉合蓋板(72)通過(guò)側(cè)向支架與上端開(kāi)口的內(nèi)部密封縮口框(51)下表面活動(dòng)裝配。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述外部閉合蓋板(71)與內(nèi)部閉合蓋板(72)之間通過(guò)弧形固定支架(73)固定連接，所述角度調(diào)節(jié)撐桿(74)的缸體端通過(guò)軸活動(dòng)安裝在內(nèi)部安裝座(9)內(nèi)，角度調(diào)節(jié)撐桿(74)的伸出端與內(nèi)部閉合蓋板(72)下表面活動(dòng)裝配，所述表面升降導(dǎo)軌(75)固定安裝在內(nèi)部閉合蓋板(72)上表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)下端開(kāi)口位置的內(nèi)部密封縮口框(51)上具有三個(gè)用于裝卸電控式底部分離罩殼(8)的底置豁口(52)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)側(cè)壁位于壓力氣室本體(1)連接端具有側(cè)向?qū)Я髡?53)，所述側(cè)向?qū)Я髡?53)外側(cè)開(kāi)口位置彈性裝配有側(cè)向泄壓閥(54)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)側(cè)壁上位于開(kāi)設(shè)有與側(cè)向?qū)Я髡?53)內(nèi)部相連通的側(cè)向泄壓口(55)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述電控式底部分離罩殼(8)包括底部密封蓋板(81)、固定安裝在內(nèi)部隔離倉(cāng)(5)一側(cè)的內(nèi)側(cè)調(diào)節(jié)電機(jī)(82)、固定在底部密封蓋板(81)上表面的頂部安裝塊(83)、固定在頂部安裝塊(83)外側(cè)弧形面上的側(cè)向鎖緊塊(84)和弧形閉合蓋板(85)。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，其特征是：所述表面升降導(dǎo)軌(75)包括固定在內(nèi)部閉合蓋板(72)上表面的橫置導(dǎo)軌(751)和安裝在橫置導(dǎo)軌(751)內(nèi)部的電控調(diào)節(jié)絲桿(752)，所述gil單元固定夾具(76)通過(guò)內(nèi)螺紋裝配塊套在電控調(diào)節(jié)絲桿(752)外側(cè)與橫置導(dǎo)軌(751)滑動(dòng)裝配。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及光子測(cè)量觀測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室，包括壓力氣室本體。本發(fā)明的一種超高壓直流微粒實(shí)驗(yàn)用壓力氣室通過(guò)在壓力氣室本體內(nèi)底面上的內(nèi)部隔離倉(cāng)配套電控式翻轉(zhuǎn)控制模組，可以從內(nèi)、外側(cè)分別對(duì)內(nèi)部隔離倉(cāng)的上端開(kāi)口進(jìn)行閉合，可以在對(duì)GIL單元進(jìn)行更換時(shí)與高壓腔室內(nèi)部進(jìn)行隔離，避免內(nèi)部泄壓，從而降低因?yàn)槭簭亩貜?fù)增壓導(dǎo)致的能量浪費(fèi)；采用在內(nèi)部隔離倉(cāng)下端開(kāi)口位置活動(dòng)裝配有電控式底部分離罩殼，在打開(kāi)底部卸料口的情況下可以對(duì)內(nèi)部隔離倉(cāng)內(nèi)的壓力進(jìn)行預(yù)先排除，從而提升電控式底部分離罩殼在拆卸時(shí)的安全性。

技術(shù)研發(fā)人員：孟鵬飛,李傳揚(yáng),周凱,李澤瑞,龔微,朱光亞,李騰飛,郭敬科,殷越,張響,程鑫
受保護(hù)的技術(shù)使用者：四川大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6