專利名稱:一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種氧化鋁的分選工藝,尤其是一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù):
我國半導(dǎo)體工業(yè)中用于硅片研磨的材料,基本上是靠國外進(jìn)口的。國產(chǎn)的研磨材料因?yàn)楣に嚨脑蛸|(zhì)量一直與國外進(jìn)口的有一段差距。國產(chǎn)的磨料粒度分布都比較集中,顆粒分布不能隨意改變,在使用過程中很容易在硅片研磨和芯片減薄工藝中劃傷硅片的表面,造成娃單晶的晶格損傷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,提供了一種一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝,使氧化鋁微粉粒度分布可以自行設(shè)計(jì),各種粒徑大小顆粒比例可以隨意調(diào)配,在研磨過程中明顯減少硅片的表面劃傷。其技術(shù)方案是這樣的,一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝,其包括以下步驟
(O使用沉降法提取一定的氧化鋁微粉中心顆粒;
(2)然后用溢流法提取某一段的氧化鋁微粉顆粒;
其特征在于把兩次提取的半成品顆粒混合,再將混合均勻的混合顆粒重新進(jìn)行溢流得出最后的成品。本發(fā)明的上述一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝,最后得到的成品比單獨(dú)用沉降或溢流加工方法得到的粒度分布更合理,產(chǎn)量更高,各種粒徑大小顆粒比例隨意適當(dāng),在研磨過程中明顯減少硅片的表面劃傷。
具體實(shí)施例方式氧化鋁生產(chǎn)中無論是溢流還是沉降都不能很精確的進(jìn)行粒度控制。沉降只能控制一定范圍內(nèi)的顆粒,比如做8. O μ m時(shí)同時(shí)進(jìn)入產(chǎn)品的顆粒就是6 11的顆粒,甚至這個(gè)范圍會更大,它是以8 μ m為中心左右對稱的正態(tài)分布;而溢流時(shí)做8. O μ m時(shí)同時(shí)進(jìn)入產(chǎn)品的顆粒就是8. O μ m以下的顆粒。但是我們需要的顆粒設(shè)計(jì)并不是這么簡單。所以,我們發(fā)明了以下方法,舉例說明
我們需要一種產(chǎn)品它的中心值是8 μ m,但是又不需要它是左右對稱時(shí)采用以下方法
1.首先使用沉降法提取一定的中心顆粒;
2.然后用溢流法提取某一段顆粒;
3.將兩次得到的半成品混合在一起;
4.重新進(jìn)行溢流;
5.最后得到產(chǎn)品。實(shí)例如下1.沉降工藝在分選桶內(nèi)投已粉碎好的原料I份進(jìn)行實(shí)驗(yàn),添加分散介質(zhì)O. 4份,分選15#時(shí)再加O.1份分散介質(zhì),第一次攪拌時(shí)間(每班上班時(shí))為5 45 min,其余的為2 10min ;
工藝參數(shù)
權(quán)利要求
1.一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝,其包括以下步驟 (1)使用沉降法提取一定的氧化鋁微粉中心顆粒; (2)然后用溢流法提取某一段的氧化鋁微粉顆粒; 其特征在于把兩次提取的半成品氧化鋁微粉顆?;旌希賹⒒旌暇鶆虻幕旌项w粒重新進(jìn)行溢流得出最后的成品。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種氧化鋁微粉的生產(chǎn)工藝,使氧化鋁微粉粒度分布可以自行設(shè)計(jì),各種粒徑大小顆粒比例可以隨意調(diào)配,在研磨過程中明顯減少硅片的表面劃傷,其包括以下步驟(1)使用沉降法提取一定的氧化鋁微粉中心顆粒;(2)然后用溢流法提取某一段的氧化鋁微粉顆粒;其特征在于把兩次提取的半成品顆?;旌?,再將混合均勻的混合顆粒重新進(jìn)行溢流得出最后的成品。
文檔編號B03B5/00GK103028482SQ201210560138
公開日2013年4月10日 申請日期2012年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月21日
發(fā)明者虞向榮 申請人:無錫晨旸科技股份有限公司