本發(fā)明涉及一種氣體凈化裝置,具體的說是一種適用于廢氣或是其它污染氣體中的顆粒物、有害氣體分子進(jìn)行處理和吸附的圓刀等離子錐體吸附器。
背景技術(shù):
隨著社會(huì)的發(fā)展,人們對(duì)氣體環(huán)境污染越發(fā)光注,這就對(duì)氣體排放提出了更高的要求。氣缸凈化裝置的需要也越來越多,目前的氣體凈化主要是利用物理遮擋的方式進(jìn)行物理阻擋,雖然可以實(shí)現(xiàn)較好的過濾,但使用成本高、使用周期短,具體的說,存在物理損耗,其耗材更換頻繁,費(fèi)時(shí)費(fèi)力,并不能滿足工業(yè)生產(chǎn)當(dāng)中,對(duì)持續(xù)、低成本的氣體凈化的使用需要。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)所存在的不足,提供一種利用電子吸附式結(jié)構(gòu)的圓刀等離子錐體吸附器。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:
一種圓刀等離子錐體吸附器,包括離子吸附器固定筒、錐筒吸附器、等離子吸附組件;
離子吸附器固定筒與錐筒吸附器可裝配組合在一起,離子吸附器固定筒與錐形吸附器在配合后在形成一個(gè)異形工作腔體,異形工作腔體的空間分為四段,分別是第一工作區(qū)、第二工作區(qū)、第三工作區(qū)、第四工作區(qū),四個(gè)工作區(qū)同軸同心;
等離子吸附組件安裝在異形腔體內(nèi),位于第三工作區(qū)內(nèi);
第一工作區(qū)的腔體形狀為柱形;
第二工作區(qū)與第一區(qū)作區(qū)連接,第二工作區(qū)的腔體形狀也呈柱形,第二工作區(qū)的腔體直徑大于第一工作區(qū)的腔體直徑,兩工作區(qū)直接處線性過渡;
第三工作區(qū)的腔體形狀呈錐形,第三工作區(qū)的大徑端與第二工作區(qū)相接;
第四工作區(qū)與第三工作區(qū)的小徑端相接;
第四工作區(qū)與一出口相連;
等離子吸附組件包括絕緣支架、圓刀固定軸、圓刀離子發(fā)射片組;
絕緣支架固定安裝在離子吸附器固定筒內(nèi);
圓刀固定軸安裝在絕緣支架上,使圓刀固定軸插入第三工作區(qū)內(nèi)并與第三工作區(qū)的腔體空間同軸,圓刀離子發(fā)射片組套裝在圓刀固定軸上,并與圓刀固定軸電性相接;
圓刀離子發(fā)射片組由若干片圓刀離子發(fā)射片組成,圓刀離子發(fā)射片的各片直徑與錐筒吸附器內(nèi)部腔體尺寸相適配,使得圓刀離子發(fā)射片的邊緣與錐筒吸附器的內(nèi)壁面預(yù)留一定的配合間隙,形成類錐形圓刀離子射片組結(jié)構(gòu);
各圓刀離子發(fā)射片間相互平行。
進(jìn)一步的說,錐筒吸附器的內(nèi)壁面可導(dǎo)電。
進(jìn)一步的說,絕緣支架內(nèi)嵌裝有一個(gè)電極接頭,該電極接頭與圓刀固定軸電性相接。
進(jìn)一步的說,絕緣支架為絕緣三角支架。
進(jìn)一步的說,錐筒吸附器內(nèi)壁面上開設(shè)有收集槽。
進(jìn)一步的說,圓刀離子發(fā)射片的邊沿倒出尖角,形成放點(diǎn)尖端。本發(fā)明實(shí)施時(shí),被處理氣體進(jìn)入第一工作區(qū),經(jīng)由第一工作區(qū)的腔體形狀進(jìn)行一定的整流、加壓,第二工作區(qū)為減壓區(qū),利用大徑腔體結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)一定的減壓,進(jìn)而在第一工作區(qū)與第二工作區(qū)的配合位置上形成一氣流加速區(qū),保證氣體更順暢的排出,在氣體經(jīng)過第二工作區(qū)后,進(jìn)入第三工作區(qū),此時(shí),圓刀離子發(fā)射片組利與電極接頭相接,使圓刀離子發(fā)射片與錐筒吸附器內(nèi)壁面間形成多道離子發(fā)射場(chǎng),使經(jīng)過該區(qū)域的氣體帶上高能負(fù)電荷,進(jìn)而被吸附在錐筒吸附器內(nèi)壁面上,而后隨重力作用下進(jìn)入收集槽中。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理,在無耗材的情況下,實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體中的廢氣、有害顆粒物、以及其它雜物的快速過濾和處理,效果好、使用成本低,更適用于工業(yè)化廢氣的處理。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的外形結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本發(fā)明的離子吸附器固定筒與錐筒吸附器分離時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3是本發(fā)明的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4是本發(fā)明的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5是本發(fā)明工作時(shí),氣體流向示意圖。
圖6是本發(fā)明錐筒吸附器與等離子吸附組件配合后的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為方便對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的理解,現(xiàn)結(jié)合附圖舉出實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
實(shí)施例:
如圖1-6所示,本發(fā)明包括離子吸附器固定筒1、錐筒吸附器2、等離子吸附組件3,離子吸附器固定筒1與錐筒吸附器2可裝配組合在一起,離子吸附器固定筒1與錐形吸附器2在配合后在形成一個(gè)異形工作腔體,異形工作腔體的空間分為四段,分別是第一工作區(qū)4、第二工作區(qū)5、第三工作區(qū)6、第四工作區(qū)7,四個(gè)工作區(qū)同軸同心;等離子吸附組件3固定安裝在異形腔體內(nèi),位于第三工作區(qū)6內(nèi);第一工作區(qū)4的腔體形狀為柱形;第二工作區(qū)5與第一區(qū)作區(qū)4連接,第二工作區(qū)5的腔體形狀也呈柱形,第二工作區(qū)5的腔體直徑大于第一工作區(qū)4的腔體直徑,兩工作區(qū)4、5直接處線性過渡;第三工作區(qū)6的腔體形狀呈錐形,第三工作區(qū)6的大徑端與第二工作區(qū)5相接;第四工作區(qū)7與第三工作區(qū)6的小徑端相接;第四工作區(qū)7與一出口相連;等離子吸附組件3包括絕緣支架8、圓刀固定軸9、圓刀離子發(fā)射片組10;絕緣支架8固定安裝在離子吸附器固定筒1內(nèi);圓刀固定軸9安裝在絕緣支架8上,使圓刀固定軸9插入第三工作區(qū)6內(nèi)并與第三工作區(qū)6的腔體空間同軸,圓刀離子發(fā)射片組10套裝在圓刀固定軸9上,并與圓刀固定軸9電性相接;圓刀離子發(fā)射片組10由6片圓刀離子發(fā)射片組成,圓刀離子發(fā)射片的各片直徑與錐筒吸附器2內(nèi)部腔體尺寸相適配,使得圓刀離子發(fā)射片的邊緣與錐筒吸附器2的內(nèi)壁面預(yù)留一定的配合間隙,形成類錐形圓刀離子射片組結(jié)構(gòu);各圓刀離子發(fā)射片間相互平行。錐筒吸附器2的內(nèi)壁面可導(dǎo)電。絕緣支架8內(nèi)嵌裝有一個(gè)電極接頭11,該電極接頭11與圓刀固定軸9電性相接。絕緣支架8為絕緣三角支架。錐筒吸附器2內(nèi)壁面上開設(shè)有收集槽。
以上實(shí)施例為本發(fā)明的優(yōu)化實(shí)施例,并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或修改為等同變化的等效實(shí)施例,但是凡未脫離本發(fā)明技術(shù)方法原則和內(nèi)容、依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何修改、等同變化與修正,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方法的范圍內(nèi)。