一種熱能加熱均勻的提煉用熔爐的制作方法

本發(fā)明涉及金屬提煉技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種熱能加熱均勻的提煉用熔爐。

背景技術(shù)：

在金屬提煉的過程中，需要用熔爐來進(jìn)行對(duì)金屬的提煉。但是現(xiàn)在在提煉金屬的過程中，熔爐內(nèi)熱能加熱不均勻，因?yàn)殚L期金屬固定在用一個(gè)位置，使金屬在進(jìn)行提煉的時(shí)候，加熱受熱不穩(wěn)定，使熔爐內(nèi)的金屬提煉不均勻，使提煉后的金屬還有一些殘?jiān)慕饘倩煸谝黄穑荒芎芎玫膶?duì)金屬進(jìn)行更好的加工處理，同時(shí)也很好的保護(hù)了熔爐，使熔爐不會(huì)損壞，延長了熔爐的使用壽命。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種熱能加熱均勻的提煉用熔爐，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種熱能加熱均勻的提煉用熔爐，包括熔爐室，所述熔爐室內(nèi)壁的左右兩側(cè)均開設(shè)有兩個(gè)滑槽，所述滑槽的表面上均設(shè)置有滑塊，并且兩側(cè)的每兩個(gè)滑塊之間均固定連接有固定桿，并且兩個(gè)固定桿之間固定連接有提煉網(wǎng)，所述熔爐室的頂部的中央處開設(shè)有進(jìn)料口，所述進(jìn)料口的內(nèi)表面上固定連接有進(jìn)料斗，所述熔爐室頂部的四側(cè)均固定連接有減震塊，所述減震塊的內(nèi)部鑲嵌有減震球，所述減震塊的頂部固定連接有氣缸，所述氣缸底部的輸出軸固定連接有伸縮桿，所述伸縮桿遠(yuǎn)離氣缸的一端穿過熔爐室的頂部和固定桿并固定連接有保護(hù)罩，所述熔爐室內(nèi)壁的底部設(shè)置有除雜室，所述熔爐室右側(cè)的底部設(shè)置有側(cè)門，所述熔爐室頂部的四角處固定連接有進(jìn)氧管，所述滑槽的內(nèi)表面上設(shè)置有防滑墊。

優(yōu)選的，所述滑槽的數(shù)量為四個(gè)，并且其中的兩個(gè)滑槽設(shè)置在熔爐室內(nèi)壁的左側(cè)上，剩余的兩個(gè)滑槽設(shè)置在熔爐室內(nèi)壁的右側(cè)上，并且兩側(cè)的滑槽以熔爐室的中垂線為對(duì)稱軸對(duì)稱設(shè)置。

優(yōu)選的，所述固定桿的數(shù)量為六個(gè)，并且每兩個(gè)固定桿為一組，每組固定桿之間均為等距設(shè)置。

優(yōu)選的，所述氣缸的數(shù)量為四個(gè)，并且四個(gè)氣缸以熔爐室頂部表面的中心處為對(duì)稱中心對(duì)稱設(shè)置。

優(yōu)選的，所述側(cè)門的表面上設(shè)置有扶手，所述扶手的表面上設(shè)置有隔熱層。

優(yōu)選的，所述進(jìn)氧管數(shù)量為四個(gè)，并且四個(gè)進(jìn)氧管以熔爐室頂部表面的中心處為對(duì)稱中心對(duì)稱設(shè)置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：該熱能加熱均勻的提煉用熔爐，通過設(shè)置氣缸、伸縮桿、固定桿、滑槽和滑塊，使氣缸工作，使伸縮桿上下運(yùn)動(dòng)，使固定桿移動(dòng)，使滑塊在滑槽內(nèi)移動(dòng)，使熔爐內(nèi)金屬可以升降移動(dòng)，使熔爐內(nèi)在進(jìn)行加熱提煉的時(shí)候，受熱更均勻，使提煉用熔爐更具有實(shí)用性，通過設(shè)置提煉網(wǎng)，三層提煉網(wǎng)從上至下網(wǎng)徑依次變小，使提煉后小的金屬落下，可以更充分的進(jìn)行加熱提煉，使每一塊金屬在提煉過程中受更均勻，并且也可以保護(hù)熔爐不會(huì)內(nèi)部的熱能不均勻加熱二損壞熔爐，大大延長了熔爐的使用壽命。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明滑槽結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明熔爐室頂部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明提煉網(wǎng)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明減震塊內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1熔爐室、2滑槽、3滑塊、4固定桿、5提煉網(wǎng)、6進(jìn)料口、7進(jìn)料斗、8減震塊、9減震球、10氣缸、11伸縮桿、12保護(hù)罩、13除雜室、14側(cè)門、15進(jìn)氧管、16防滑墊。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1-5，本發(fā)明提供一種技術(shù)方案：一種熱能加熱均勻的提煉用熔爐，包括熔爐室1，熔爐室1內(nèi)壁的左右兩側(cè)均開設(shè)有兩個(gè)滑槽2，滑槽2的數(shù)量為四個(gè)，并且其中的兩個(gè)滑槽2設(shè)置在熔爐室1內(nèi)壁的左側(cè)上，剩余的兩個(gè)滑槽2設(shè)置在熔爐室1內(nèi)壁的右側(cè)上，并且兩側(cè)的滑槽2以熔爐室1的中垂線為對(duì)稱軸對(duì)稱設(shè)置，滑槽2的表面上均設(shè)置有滑塊3，并且兩側(cè)的每兩個(gè)滑塊3之間均固定連接有固定桿4，固定桿4的數(shù)量為六個(gè)，并且每兩個(gè)固定桿4為一組，每組固定桿4之間均為等距設(shè)置，并且兩個(gè)固定桿4之間固定連接有提煉網(wǎng)5，通過設(shè)置提煉網(wǎng)5，三層提煉網(wǎng)5從上至下網(wǎng)徑依次變小，使提煉后小的金屬落下，可以更充分的進(jìn)行加熱提煉，使每一塊金屬在提煉過程中受更均勻，并且也可以保護(hù)熔爐不會(huì)內(nèi)部的熱能不均勻加熱二損壞熔爐，大大延長了熔爐的使用壽命，熔爐室1的頂部的中央處開設(shè)有進(jìn)料口6，進(jìn)料口6的內(nèi)表面上固定連接有進(jìn)料斗7，熔爐室1頂部的四側(cè)均固定連接有減震塊8，減震塊8的內(nèi)部鑲嵌有減震球9，減震塊8的頂部固定連接有氣缸10，氣缸10的數(shù)量為四個(gè)，并且四個(gè)氣缸10以熔爐室1頂部表面的中心處為對(duì)稱中心對(duì)稱設(shè)置，氣缸10底部的輸出軸固定連接有伸縮桿11，通過設(shè)置氣缸10、伸縮桿11、固定桿4、滑槽2和滑塊3，使氣缸10工作，使伸縮桿11上下運(yùn)動(dòng)，使固定桿4移動(dòng)，使滑塊3在滑槽2內(nèi)移動(dòng)，使熔爐內(nèi)金屬可以升降移動(dòng)，使熔爐內(nèi)在進(jìn)行加熱提煉的時(shí)候，受熱更均勻，使提煉用熔爐更具有實(shí)用性，伸縮桿11遠(yuǎn)離氣缸10的一端穿過熔爐室1的頂部和固定桿4并固定連接有保護(hù)罩12，熔爐室1內(nèi)壁的底部設(shè)置有除雜室13，熔爐室1右側(cè)的底部設(shè)置有側(cè)門14，側(cè)門14的表面上設(shè)置有扶手，扶手的表面上設(shè)置有隔熱層，熔爐室1頂部的四角處固定連接有進(jìn)氧管15，設(shè)置進(jìn)氧管15，使熔爐在溫度不夠的時(shí)候，通過進(jìn)氧管15進(jìn)氧氣，使熔爐內(nèi)保持充分的熱能，使熔爐的加熱效果更好，進(jìn)氧管15數(shù)量為四個(gè)，并且四個(gè)進(jìn)氧管15以熔爐室1頂部表面的中心處為對(duì)稱中心對(duì)稱設(shè)置，滑槽2的內(nèi)表面上設(shè)置有防滑墊16。

該文中出現(xiàn)的電器元件均與外界的主控器及220V市電電連接，并且主控器可為計(jì)算機(jī)等起到控制的常規(guī)已知設(shè)備。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。