專利名稱：一種還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及熱還原法金屬鎂生產(chǎn)過程中的專用機(jī)械領(lǐng)域，特別是一種還原金 屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭。
背景技術(shù)：
熱還原法生產(chǎn)金屬鎂是目前我國(guó)普遍采用的一種金屬鎂生產(chǎn)方法。還原金屬鎂的 容器主要包括金屬鎂還原罐和設(shè)置于所述還原罐內(nèi)的結(jié)晶器。通常在一臺(tái)爐體上裝有數(shù)十 個(gè)水平放置的長(zhǎng)圓管狀還原罐，還原罐的罐深通常約3. 5-4米，直徑約0. 3米，罐口朝外，用 于裝入原料(投料)和排出渣料(扒渣、清垢)等；在還原罐內(nèi)設(shè)置的結(jié)晶器，用于收集還 原后的金屬鎂。高溫還原成金屬鎂的生產(chǎn)過程中，在還原罐連續(xù)使用一個(gè)周期后，會(huì)在其罐 壁上附著很厚的渣垢，如不定時(shí)清理，渣垢將影響還原罐的導(dǎo)熱系數(shù)，使還原罐內(nèi)的物料受 熱不均勻，影響生產(chǎn)效率，也浪費(fèi)能源，并且由于渣垢的厚度逐漸增大，將逐步減少還原罐 內(nèi)可容納的物料量，影響生產(chǎn)的正常進(jìn)行。同樣地，在結(jié)晶器連續(xù)多次使用后也會(huì)在其容器 壁上附著渣垢，如不定時(shí)清理，將影響還原后金屬鎂的純度，并且會(huì)減少其內(nèi)可收集的金屬 鎂的量，因此同樣需要定時(shí)清理。還原金屬鎂用容器的內(nèi)壁渣垢的主要化學(xué)成分是2Ca0. Si02，在熱態(tài)情況下這種 物質(zhì)的硬度較大，因此現(xiàn)有技術(shù)中清理還原罐壁上附著的渣垢大都采用冷卻清垢法，在清 垢時(shí)需要停止生產(chǎn)，將還原罐從高溫狀態(tài)自然冷卻至常溫，在還原罐冷卻的過程中，附著在 罐壁上的渣垢也會(huì)逐步冷卻脫落。但是這種除垢方式需要等還原罐的溫度降下來才能進(jìn) 行，使得每次清垢都需要花費(fèi)很長(zhǎng)時(shí)間，還原罐再次使用時(shí)需要重新加熱至高溫，熱能損失 很大，能源浪費(fèi)嚴(yán)重，而且還原罐經(jīng)常升溫、降溫，會(huì)嚴(yán)重影響其使用壽命。針對(duì)上述冷卻清 垢法的不足，現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)了能在高溫狀態(tài)下的還原罐清垢裝置，如期刊文獻(xiàn)《鎂還原爐 排渣專用設(shè)備-清渣機(jī)組的設(shè)計(jì)研究》(晏燕，輕金屬，1998)中公開了一種清渣機(jī)，主要由 扒渣裝置、清垢裝置、行走裝置、冷卻裝置及電控系統(tǒng)組成。其中清垢裝置具有位于管架頭 部、呈120度分布在轉(zhuǎn)動(dòng)架上的三根圓環(huán)鏈。再如中國(guó)專利文獻(xiàn)CN2890812Y中公開了一種 鎂還原爐的清排渣裝置，它包括進(jìn)退機(jī)構(gòu)和清垢機(jī)構(gòu)兩部分；其中清垢機(jī)構(gòu)包括圓環(huán)鏈，圓 環(huán)鏈安裝在主傳動(dòng)軸前端，主傳動(dòng)軸穿過支撐管架后端經(jīng)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與安裝在吊架小車上的 主驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接，支撐管架的一端經(jīng)連接板固定在吊架小車上。這種清排渣裝置的清垢機(jī) 構(gòu)與上述論文文獻(xiàn)中的清垢裝置類似，都是在清垢過程中呈120度分布的三根圓環(huán)鏈在主 傳動(dòng)軸的高速旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)下，被離心拋起，形成一個(gè)盤狀，鏈條的頭部(工作端)與罐壁發(fā)生 劇烈摩擦，在水平給進(jìn)的過程中將附著在罐壁上的殘?jiān)脱趸呦?。但是上述清垢裝置 具有以下缺點(diǎn)呈120度分布的三根圓環(huán)鏈旋轉(zhuǎn)起來后形成的盤面處于同一垂直平面內(nèi)， 也就是說這種裝置采用的是單層鏈條清垢，單層鏈條對(duì)還原罐內(nèi)壁作用的摩擦力是比較小 的，而且渣垢在熱態(tài)情況下質(zhì)地十分堅(jiān)硬，所以在實(shí)際生產(chǎn)中僅僅利用單層鏈條無法達(dá)到 清理效果，更不能將殘?jiān)脱趸ねㄟ^高速旋轉(zhuǎn)掃出罐外。另外，還原罐還經(jīng)常會(huì)發(fā)生蠕 變，使其罐壁形狀變得不規(guī)則，單層鏈條的工作端無法與罐壁充分接觸發(fā)生摩擦，很難將發(fā)
4生蠕變的還原罐壁清理干凈，清理效果不好。而現(xiàn)有技術(shù)中在清理結(jié)晶器時(shí)，往往是在常 溫下取出金屬鎂后進(jìn)行的，清理的方法大都是由人工用鏟子將結(jié)晶器的罐壁上的渣垢鏟下 來，效率低下，而且費(fèi)時(shí)費(fèi)力。另外，中國(guó)專利文獻(xiàn)CN2890812Y中還提到為了很好的冷卻，在清排渣裝置的支撐 管體前端設(shè)有噴嘴，在工作過程中，冷卻水從噴嘴噴出對(duì)圓環(huán)鏈冷卻。但是上述冷卻方法具 有以下缺點(diǎn)由于熱狀態(tài)下還原罐內(nèi)的溫度會(huì)達(dá)到1200度左右，在這種狀態(tài)下，一旦冷卻 系統(tǒng)發(fā)生泄漏，管路中的水會(huì)很快蒸發(fā)成水蒸氣，甚至?xí)l(fā)生化學(xué)反應(yīng)分解成氫氣和氧氣， 形成危險(xiǎn)的易燃易爆物，嚴(yán)重情況下就會(huì)發(fā)生爆炸，存在重大安全隱患。綜上，目前現(xiàn)有技術(shù)中的清理機(jī)不能徹底清理還原罐和結(jié)晶器等還原金屬鎂用容 器壁的渣垢，而且現(xiàn)有技術(shù)中清理機(jī)的冷卻機(jī)構(gòu)存在安全隱患。
實(shí)用新型內(nèi)容為此，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于現(xiàn)有技術(shù)對(duì)還原金屬鎂用容器壁的清 垢效果差、效率低下而且存在安全隱患的技術(shù)問題，而提供一種清垢效果好，能將還原金屬 鎂用容器壁清理干凈、效率高而且能保證生產(chǎn)安全的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及 其工作頭。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下一種還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)，包括機(jī)架，其上設(shè)有水平延伸的滑軌；水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述機(jī)架上，包括能在所述滑軌上水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的移動(dòng)平 臺(tái)，所述移動(dòng)平臺(tái)固定連接有延伸方向與所述滑軌平行的支撐管體，所述支撐管體的前端 安裝有工作頭；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)平臺(tái)做水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的水平驅(qū)動(dòng)組件和使所述工作 頭旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件；所述工作頭為鏈條甩頭，所述鏈條甩頭包括至少兩層沿垂直于所述支撐管體的軸 向方向排布的甩頭組件，所述甩頭組件可圍繞所述支撐管體的軸向方向旋轉(zhuǎn)。上述清理機(jī)中，所述清理機(jī)還包括設(shè)置在所述機(jī)架上的升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述驅(qū)動(dòng) 機(jī)構(gòu)還包括使所述機(jī)架做升降運(yùn)動(dòng)的升降驅(qū)動(dòng)組件。上述清理機(jī)中，所述機(jī)架的前端、后端均設(shè)置有所述升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述升降驅(qū) 動(dòng)組件；所述升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為剪式提升機(jī)構(gòu)，所述升降驅(qū)動(dòng)組件為驅(qū)動(dòng)所述剪式提升機(jī)構(gòu) 的液壓油缸。上述清理機(jī)中，所述甩頭組件包括具有安裝孔的盤體和可拆卸地安裝在所述盤體 上的鏈條，所述鏈條的長(zhǎng)度適于與所述容器壁接觸。上述清理機(jī)中，所述鏈條的工作端設(shè)有摩擦塊。上述清理機(jī)中，所述支撐管體為空心結(jié)構(gòu)；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件包括設(shè)置在所述支 撐管體內(nèi)并伸出所述支撐管體的轉(zhuǎn)動(dòng)軸和驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)；所述轉(zhuǎn)動(dòng) 軸的前端安裝有所述工作頭；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)的傳動(dòng)軸通過聯(lián)軸器與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相連。上述清理機(jī)中，所述清理機(jī)還包括對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸進(jìn)行冷卻的冷卻機(jī)構(gòu)；所述冷卻 機(jī)構(gòu)包括包覆在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸外壁的內(nèi)管，所述內(nèi)管與所述支撐管體的內(nèi)壁形成可封閉的空
5腔，所述空腔內(nèi)具有冷卻液。上述清理機(jī)中，在所述支撐管體的外壁包覆有隔熱層。上述清理機(jī)中，所述清理機(jī)還包括用于固定所述容器位置的夾緊機(jī)構(gòu)、用于監(jiān)控 所述工作頭工作情況的監(jiān)控機(jī)構(gòu)以及除塵機(jī)構(gòu)；所述監(jiān)控機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在所述支撐管體前 端、與控制系統(tǒng)連接的攝像頭；所述除塵機(jī)構(gòu)包括引風(fēng)機(jī)。一種用于上述清理機(jī)中的工作頭，所述工作頭安裝在所述清理機(jī)的移動(dòng)平臺(tái)的支 撐管體前端，所述工作頭為鏈條甩頭，所述鏈條甩頭包括至少兩層沿垂直于所述支撐管體 的軸向方向排布的甩頭組件，所述甩頭組件可圍繞所述支撐管體的軸向方向旋轉(zhuǎn)。上述工作頭中，所述甩頭組件包括具有安裝孔的盤體和可拆卸地安裝在所述盤體 上的鏈條。上述工作頭中，所述鏈條的工作端設(shè)有摩擦塊。本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)①本實(shí)用新型的還原 金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭，其中工作頭為鏈條甩頭，鏈條甩頭包括至少兩 層沿垂直于支撐管體的軸向方向排布的甩頭組件，甩頭組件可圍繞支撐管體的軸向方向旋 轉(zhuǎn)，與單層鏈條結(jié)構(gòu)相比，多層鏈條的工作端在轉(zhuǎn)動(dòng)軸離心力的帶動(dòng)下能夠增加與容器壁 接觸摩擦力，即使容器發(fā)生了蠕變變形，也能與容器壁充分接觸發(fā)生摩擦，最大程度地清除 容器壁上的渣垢，清理效果好；②本實(shí)用新型的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)，在清理 機(jī)的前端和后端均設(shè)置有升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，前后兩個(gè)升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)可進(jìn)行獨(dú)立調(diào)節(jié)，由于支 撐管體很長(zhǎng)，在水平伸出過程中，支撐管體的前端受重力作用會(huì)向下傾斜，在機(jī)架的前后兩 端均設(shè)置升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，可以調(diào)整支撐管體使之保持水平，而且這樣即使是在車間地面不 平整的情況下也能夠保持清理機(jī)支撐管體(轉(zhuǎn)動(dòng)軸)的水平，保證清理效果；③本實(shí)用新 型的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭，其中甩頭組件包括具有安裝孔的盤體 和固定連接在盤體上的鏈條，盤體的兩端成型有凸緣，鏈條可拆卸地安裝在安裝在該凸緣 上，鏈條的長(zhǎng)度適于與容器壁接觸，上述結(jié)構(gòu)的甩頭組件結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，拆裝方便且牢固；④本 實(shí)用新型的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭，由于鏈條經(jīng)常在高溫環(huán)境下作 業(yè)，鏈條與容器壁進(jìn)行摩擦碰撞，容易發(fā)生斷裂，屬于清理機(jī)中的耗材部件，而本實(shí)用新型 的鏈條可拆卸地安裝在安裝在該凸緣上，具體是通過螺栓可拆卸地安裝，能夠方便地進(jìn)行 更換，不耽誤生產(chǎn)進(jìn)程，提高了效率；⑤本實(shí)用新型的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及 其工作頭，鏈條的工作端設(shè)有耐熱鋼制成的摩擦塊，在轉(zhuǎn)動(dòng)軸離心力的帶動(dòng)下，鏈條上的摩 擦塊會(huì)不斷跳動(dòng)，對(duì)還原罐內(nèi)壁不斷地進(jìn)行錘擊，能更加快速、徹底地清理掉容器內(nèi)壁的渣 垢，在實(shí)際使用中單管還原罐通?？汕謇硐?0公斤左右的渣垢；⑥本實(shí)用新型的還原金屬 鎂用容器壁的橋式清理機(jī)，還包括對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)軸進(jìn)行冷卻的冷卻機(jī)構(gòu)，冷卻機(jī)構(gòu)包括包覆在轉(zhuǎn) 動(dòng)軸外壁的內(nèi)管，內(nèi)管與支撐管體的內(nèi)壁形成可封閉的空腔，空腔內(nèi)具有冷卻液，冷卻液在 密閉的空腔內(nèi)通過內(nèi)管直接對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)軸冷卻，不會(huì)發(fā)生泄漏事故，而且由于本實(shí)用新型采用 的冷卻液為非水介質(zhì)冷卻液，即使產(chǎn)生熱膨脹也不會(huì)發(fā)生爆炸，能保證生產(chǎn)安全；⑦本實(shí)用 新型的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)，在支撐管體的外壁包覆有隔熱層，以隔絕溫度 保證生產(chǎn)安全；⑧本實(shí)用新型的還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)，還包括監(jiān)控機(jī)構(gòu)，從而 更好的觀察還原罐里工作頭的工作情況，便于及時(shí)調(diào)整；⑨本實(shí)用新型的還原金屬鎂用容 器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭，在清垢過程中工作頭邊旋轉(zhuǎn)邊進(jìn)入容器內(nèi)清除容器壁的渣垢，當(dāng)工作頭接近容器底部時(shí)，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件能夠控制工作頭進(jìn)行反轉(zhuǎn)，然后在工作頭退出 容器的過程中清除沒有清理到的渣垢，使清垢更加徹底。
為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施 例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中圖1是本實(shí)用新型清理機(jī)的立體示意圖；圖2是本實(shí)用新型清理機(jī)中鏈條甩頭的示意圖；圖3是本實(shí)用新型清理機(jī)中甩頭組件的示意圖；圖4是本實(shí)用新型清理機(jī)中冷卻機(jī)構(gòu)的示意圖；圖5是圖4中A部分的放大示意圖；圖6是圖4中B部分的放大示意圖；圖7是本實(shí)用新型實(shí)施例二中清理機(jī)的立體示意圖。圖中附圖標(biāo)記表示為1-機(jī)架，2-轉(zhuǎn)動(dòng)軸，3-滑軌，4-移動(dòng)平臺(tái)，5-鏈條甩頭， 6-甩頭組件，7-安裝孔，8-盤體，9-鏈條，10-凸緣，11-內(nèi)管，12-滑塊，13-剪式提升機(jī)構(gòu)， 14-液壓油缸，15-空腔，16-支撐管體，17-摩擦塊，18-旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)，19-搖把，20-封閉 堵，21-傳動(dòng)軸，22-聯(lián)軸器，23-控制盤，24-絲杠，25-結(jié)晶器。
具體實(shí)施方式
在本實(shí)用新型中，前端是指靠近還原金屬鎂用容器的一端，后端是指遠(yuǎn)離還原金 屬鎂用容器的一端。實(shí)施例一如圖1所示，是本實(shí)用新型還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)的優(yōu)選實(shí)施例，本 實(shí)施例中所涉及的還原金屬鎂用容器具體為還原罐。所述清理機(jī)包括機(jī)架1、設(shè)置在所述機(jī)架1上的水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、驅(qū) 動(dòng)機(jī)構(gòu)、冷卻機(jī)構(gòu)、控制系統(tǒng)、監(jiān)控機(jī)構(gòu)和除塵機(jī)構(gòu)。所述機(jī)架1上設(shè)有水平延伸的滑軌3，所述滑軌3的長(zhǎng)度大于所述還原罐的長(zhǎng)度。所述水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述機(jī)架1上，包括能在所述滑軌3上水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的 移動(dòng)平臺(tái)4，所述移動(dòng)平臺(tái)4上設(shè)有可在所述滑軌3上滑動(dòng)的滑塊12。所述移動(dòng)平臺(tái)4固定連接有延伸方向與所述滑軌3平行的支撐管體16，在所述支 撐管體16的外壁包覆有隔熱層。所述支撐管體16為空心結(jié)構(gòu)，其前端安裝有工作頭，在本 實(shí)施例中，所述工作頭為鏈條甩頭5，如圖2所示，所述鏈條甩頭5包括至少兩層沿垂直于所 述支撐管體16的軸向方向排布的甩頭組件6，所述甩頭組件6可圍繞所述支撐管體16的軸 向方向旋轉(zhuǎn)，在本實(shí)施例中所述鏈條甩頭5包括兩層所述甩頭組件6。如圖3所示，所述甩 頭組件6包括具有安裝孔7的盤體8和可拆卸地安裝在所述盤體8上的鏈條9，所述鏈條9 的工作端設(shè)有摩擦塊17，所述摩擦塊17為形狀不規(guī)則的耐熱鋼，所述鏈條9(包括所述摩擦 塊17)的長(zhǎng)度適于與所述還原罐的罐壁相接觸，在本實(shí)施例中所述鏈條9的數(shù)目為4條，所 述盤體8的兩端成型有凸緣10，所述鏈條9通過螺栓可拆卸地安裝并沿周向均勻分布在所 述凸緣10上。
7[0041]所述升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為剪式提升機(jī)構(gòu)13，所述機(jī)架1的前端和后端均設(shè)置有所述剪 式提升機(jī)構(gòu)13，所述剪式提升機(jī)構(gòu)13的底部設(shè)置有萬向滾輪，所述剪式提升機(jī)構(gòu)13為現(xiàn)有 技術(shù)中常用的提升裝置，其具體結(jié)構(gòu)不再贅述。所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括水平驅(qū)動(dòng)組件、升降驅(qū)動(dòng)組件和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件。所述水平驅(qū)動(dòng) 組件用于驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)平臺(tái)4做水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)，所述水平驅(qū)動(dòng)組件包括搖把19，所述搖把 19通過鋼絲和滑輪的配合驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)平臺(tái)4沿所述滑軌3做水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)，所述搖把19 由手動(dòng)控制，所述搖把19拉動(dòng)所述鋼絲，進(jìn)而所述鋼絲與所述滑輪配合驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)平臺(tái) 4做水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)。所述升降驅(qū)動(dòng)組件用于使所述機(jī)架1做升降運(yùn)動(dòng)，所述機(jī)架1的前端、 后端均設(shè)置有所述升降驅(qū)動(dòng)組件，所述升降驅(qū)動(dòng)組件為驅(qū)動(dòng)所述剪式提升機(jī)構(gòu)13的液壓 油缸14。所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件用于驅(qū)動(dòng)所述工作頭旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件包括設(shè)置在所述 支撐管體16內(nèi)并伸出所述支撐管體16的轉(zhuǎn)動(dòng)軸2和驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電 機(jī)18 ；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)18的傳動(dòng)軸21通過聯(lián)軸器22與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2相連；所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸 2的前端安裝有所述鏈條甩頭5，在本實(shí)施例中，所述鏈條甩頭5通過銷鍵和鍵槽的配合固 定安裝在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2的端部；所述鏈條甩頭5可在所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)18的驅(qū)動(dòng)下圍繞所 述支撐管體16的軸向方向旋轉(zhuǎn)(包括正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn))。如圖4-6所示，所述冷卻機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2進(jìn)行冷卻，所述冷卻機(jī)構(gòu)包括包 覆在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2外壁的內(nèi)管11，所述支撐管體16的前端和后端具有封閉堵20，所述內(nèi)管 11與所述支撐管體16的內(nèi)壁形成可封閉的空腔15，所述空腔15內(nèi)具有冷卻液。所述控制系統(tǒng)包括設(shè)置在所述機(jī)架1 一側(cè)的觸摸屏、與所述觸摸屏聯(lián)接的微電腦 和與所述微電腦電聯(lián)接的可編程控制器(PLC控制器)，所述觸摸屏輸入信號(hào)給所述微電 腦，所述微電腦對(duì)接收到的信號(hào)進(jìn)行處理并將控制信號(hào)傳送給所述可編程控制器，所述可 編程控制器識(shí)別控制信號(hào)并控制所述水平驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。所述監(jiān)控機(jī)構(gòu)用于監(jiān)視所述工作頭的工作情況，所述監(jiān)控機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在所述支 撐管體16前端的、與所述控制系統(tǒng)連接的攝像頭和顯示器，所述攝像頭加裝過濾鏡片。所述除塵機(jī)構(gòu)用于將清理下來的污垢和揚(yáng)塵收集起來，主要包括引風(fēng)機(jī)(圖中未 示出)。本實(shí)施例中的所述清理機(jī)的具體工作過程詳述如下第一步，在所述控制系統(tǒng)的控制下，使所述機(jī)架1沿所述導(dǎo)軌2運(yùn)動(dòng)到所述還原罐
、r -
IlJ ；第二步，啟動(dòng)所述液壓油缸14，驅(qū)動(dòng)所述機(jī)架1做升降運(yùn)動(dòng)并調(diào)整所述支撐管體 16前端、后端的高度，使所述鏈條甩頭5對(duì)準(zhǔn)需要進(jìn)行清垢的所述還原罐的容器口 ；第三步，搖動(dòng)所述搖把19，使所述移動(dòng)平臺(tái)4連同所述支撐管體16 —起沿所述滑 軌3朝向所述容器口做水平運(yùn)動(dòng)；第四步，啟動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)18，使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動(dòng)所述鏈條甩頭 5旋轉(zhuǎn)，所述鏈條甩頭5的所述鏈條9在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸2的高速旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)下，被離心拋起，形成 沿垂直于所述支撐管體16的軸向方向排布的兩個(gè)盤狀，在水平給進(jìn)過程中，所述鏈條9的 工作端與所述還原罐的容器壁發(fā)生劇烈摩擦，清理附著在容器壁上的渣垢和氧化皮等；第五步，利用所述監(jiān)控機(jī)構(gòu)監(jiān)視所述工作頭的工作情況，當(dāng)所述鏈條甩頭5接近 所述還原罐的底部時(shí)，使所述鏈條甩頭5反轉(zhuǎn)，并驅(qū)動(dòng)所述鏈條甩頭5退出所述還原罐，在
8退出所述還原罐的過程中，所述鏈條甩頭5將清除給進(jìn)過程中沒有清理到的渣垢，使清垢 更加徹底。實(shí)施例二本實(shí)施例中所涉及的還原金屬鎂用容器具體為所述還原罐中的結(jié)晶器25，與上述 實(shí)施例一相比，本實(shí)施例中清理機(jī)的尺寸規(guī)格適合清理所述結(jié)晶器25壁上的渣垢。如圖7 所示，本實(shí)施例中所述清理機(jī)包括機(jī)架1、設(shè)置在所述機(jī)架1上的水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、 控制系統(tǒng)、監(jiān)控機(jī)構(gòu)、除塵機(jī)構(gòu)和夾緊機(jī)構(gòu)。所述水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、控制系統(tǒng)、監(jiān)控機(jī)構(gòu)和除塵 機(jī)構(gòu)與實(shí)施例一相同，此不贅述。所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括水平驅(qū)動(dòng)組件和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件，所述水 平驅(qū)動(dòng)組件和所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件均與實(shí)施例一相同，此不贅述。所述夾緊機(jī)構(gòu)用于固定所 述結(jié)晶器25的位置，包括能相互配合的夾緊部件和使所述夾緊部件夾緊/松開的控制部 件，在本實(shí)施例中所述控制部件為轉(zhuǎn)盤形式，控制盤23通過絲杠24控制所述夾緊部件夾緊 /松開。在利用本實(shí)施例中的所述清理機(jī)對(duì)所述結(jié)晶器25清垢的過程是在常溫下進(jìn)行 的，首先利用所述夾緊機(jī)構(gòu)將待清理的所述結(jié)晶器25的位置固定，啟動(dòng)所述清理機(jī)，之后 按照與實(shí)施例一相同的步驟進(jìn)行渣垢清理，此不贅述。在其他實(shí)施例中，所述實(shí)施例二中所述夾緊機(jī)構(gòu)的所述控制部件還可采用液壓控 制的形式。在其他實(shí)施例中，所述鏈條甩頭5可包括三層、四層等沿垂直于所述支撐管體16 的軸向方向排布的所述甩頭組件6，以滿足不同清垢需求。顯然，上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例，而并非對(duì)實(shí)施方式的限定。對(duì) 于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或 變動(dòng)。這里無需也無法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或 變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型創(chuàng)造的保護(hù)范圍之中。
權(quán)利要求一種還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)，包括機(jī)架(1)，其上設(shè)有水平延伸的滑軌(3)；水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述機(jī)架(1)上，包括能在所述滑軌(3)上水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的移動(dòng)平臺(tái)(4)，所述移動(dòng)平臺(tái)(4)固定連接有延伸方向與所述滑軌(3)平行的支撐管體(16)，所述支撐管體(16)的前端安裝有工作頭；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括驅(qū)動(dòng)所述移動(dòng)平臺(tái)(4)做水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的水平驅(qū)動(dòng)組件和使所述工作頭旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件；其特征在于所述工作頭為鏈條甩頭(5)，所述鏈條甩頭(5)包括至少兩層沿垂直于所述支撐管體(16)的軸向方向排布的甩頭組件(6)，所述甩頭組件(6)可圍繞所述支撐管體(16)的軸向方向旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清理機(jī)，其特征在于所述清理機(jī)還包括設(shè)置在所述機(jī)架(1) 上的升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括使所述機(jī)架(1)做升降運(yùn)動(dòng)的升降驅(qū)動(dòng)組件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清理機(jī)，其特征在于所述機(jī)架(1)的前端、后端均設(shè)置有所 述升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述升降驅(qū)動(dòng)組件；所述升降運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為剪式提升機(jī)構(gòu)(13)，所述升降 驅(qū)動(dòng)組件為驅(qū)動(dòng)所述剪式提升機(jī)構(gòu)(13)的液壓油缸(14)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清理機(jī)，其特征在于所述甩頭組件(6)包括具有安裝孔(7) 的盤體(8)和可拆卸地安裝在所述盤體(8)上的鏈條(9)，所述鏈條(9)的長(zhǎng)度適于與所述 容器壁接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清理機(jī)，其特征在于所述鏈條(9)的工作端設(shè)有摩擦塊(17)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的清理機(jī)，其特征在于所述支撐管體(16)為空心結(jié) 構(gòu)；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)組件包括設(shè)置在所述支撐管體(16)內(nèi)并伸出所述支撐管體(16)的轉(zhuǎn)動(dòng) 軸⑵和驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸⑵轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)(18)；所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸⑵的前端安裝有所 述工作頭；所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)(18)的傳動(dòng)軸(21)通過聯(lián)軸器(22)與所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸(2)相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清理機(jī)，其特征在于所述清理機(jī)還包括對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸(2) 進(jìn)行冷卻的冷卻機(jī)構(gòu)；所述冷卻機(jī)構(gòu)包括包覆在所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸(2)外壁的內(nèi)管(11)，所述內(nèi) 管(11)與所述支撐管體(16)的內(nèi)壁形成可封閉的空腔(15)，所述空腔(15)內(nèi)具有冷卻液。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清理機(jī)，其特征在于在所述支撐管體(16)的外壁包覆有隔執(zhí)層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清理機(jī)，其特征在于所述清理機(jī)還包括用于固定所述容器 位置的夾緊機(jī)構(gòu)、用于監(jiān)控所述工作頭工作情況的監(jiān)控機(jī)構(gòu)以及除塵機(jī)構(gòu)；所述監(jiān)控機(jī)構(gòu) 包括設(shè)置在所述支撐管體(16)前端、與控制系統(tǒng)連接的攝像頭；所述除塵機(jī)構(gòu)包括引風(fēng) 機(jī)。
10.一種用于權(quán)利要求1-9任一所述清理機(jī)中的工作頭，所述工作頭安裝在所述清理 機(jī)的移動(dòng)平臺(tái)⑷的支撐管體(16)前端，其特征在于所述工作頭為鏈條甩頭(5)，所述鏈 條甩頭(5)包括至少兩層沿垂直于所述支撐管體(16)的軸向方向排布的甩頭組件(6)，所 述甩頭組件(6)可圍繞所述支撐管體(16)的軸向方向旋轉(zhuǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的工作頭，其特征在于所述甩頭組件(6)包括具有安裝孔 (7)的盤體(8)和可拆卸地安裝在所述盤體(8)上的鏈條(9)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的工作頭，其特征在于所述鏈條(9)的工作端設(shè)有摩擦塊 (17)。
專利摘要一種還原金屬鎂用容器壁的橋式清理機(jī)及其工作頭，包括機(jī)架、水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述機(jī)架上設(shè)有水平延伸的滑軌；所述水平運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，設(shè)置在所述機(jī)架上，包括能在所述滑軌上水平往復(fù)運(yùn)動(dòng)的移動(dòng)平臺(tái)，所述移動(dòng)平臺(tái)固定連接有延伸方向與所述滑軌平行的支撐管體，所述支撐管體的前端安裝有工作頭；所述工作頭為鏈條甩頭，所述鏈條甩頭包括至少兩層沿垂直于所述支撐管體的軸向方向排布的甩頭組件，所述甩頭組件可圍繞所述支撐管體的軸向方向旋轉(zhuǎn)。本實(shí)用新型提供的橋式清理機(jī)及其工作頭，清垢效果好，能將還原金屬鎂用容器的容器壁清理干凈而且效率高。
文檔編號(hào)F27D25/00GK201628487SQ201020163810
公開日2010年11月10日 申請(qǐng)日期2010年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月20日
發(fā)明者喬焰鋒 申請(qǐng)人:喬焰鋒