輪胎建造設備及將細長元件供應到輪胎建造設備的成型鼓中的方法與流程

本發(fā)明涉及輪胎建造設備，在該設備中借助于包括傳送帶的供給裝置將細長元件供應到成型鼓。

本發(fā)明還涉及用于將細長元件供應到輪胎建造設備中的成型鼓的方法。

背景技術：

輪胎通常包括圍繞旋轉軸線成圓形地形成的胎體結構，該胎體結構包括至少一個胎體簾布層，該胎體簾布層具有軸向相對的端部折翼，其接合在通常稱為“胎圈芯”的相應環(huán)形錨定結構中，這些胎圈芯被結合在通常被識別為“胎圈”的區(qū)帶中。

在相對于胎體結構的徑向外部位置中，提供包括一個或多個帶層的帶結構，該一個或多個帶層相對于彼此并且相對于胎體結構徑向重疊地布置。

該帶結構還可以在徑向外部位置中至少在下面的帶條的端部處包括周向(0度)布置的織物或金屬簾線層。在無內胎類型的輪胎中，還提供有被稱為襯里并且具有無滲透性的徑向內層，以確保輪胎本身的氣密性。

在相對于帶結構的徑向外部位置中，施加由彈性體材料制成的胎面條帶，并且在其上限定旨在用于與路面接觸的胎面花紋。

在軸向外部位置中，將彈性體材料的相應側壁進一步施加到胎體結構的側表面，每個胎側結構的側表面從胎面條帶的側面邊緣之一延伸直到在胎圈的相應環(huán)形錨定結構處的位置。

制造輪胎的過程提供：第一輪胎建造步驟，在該步驟中將包括上述羅列那些的各種輪胎組分組裝在建造設備中，以獲得所謂的“生”輪胎；以及后續(xù)造型和硫化步驟，其中生輪胎經受預定時間段的溫度和壓力值，以硫化其部件的彈性體材料，獲得輪胎的最終結構穩(wěn)定性。

更詳細地，存在已知過程，在這些過程中建造步驟借助于在圍繞其自身的軸線旋轉的圓柱形表面(其可以是成型鼓的外表面或已經沉積在該成型鼓上的輪胎半成品的外表面)上沉積一個或多個細長元件來提供輪胎的一個或多個結構部件的生產)。

這些細長元件借助于供給裝置沉積在成型鼓上，該供給裝置被設置成以連續(xù)形式將細長元件例如從貯存卷軸中取出，將其切割成期望的尺寸，并且借助于傳送帶在與其外表面相切的方向上以預定速度將其分配給成型鼓。

us2013/0160930公開了將簾布層施加到用于建造輪胎的成型鼓的方法。該方法包括以下步驟：在一傳送臺的傳送帶上接納柔性材料片，在該傳送臺中傳送帶可以沿方向x平移移動，并且提供多個輥，其以可旋轉方式安裝在傳送帶，以便它們可以相對于與方向x對準的軸線旋轉。

us2003/0019725公開了具有傳送帶類型系統的材料引導系統，在該系統上將用簾線加強了的帶條輸送直到特定切割線，帶的傳送系統包括可以單獨控制的多條傳送帶或多組傳送帶。

術語“細長元件”旨在被理解為具有相對于其余尺寸有優(yōu)勢的縱向尺寸的元件。優(yōu)選地，所述細長元件僅由彈性體材料構成或包括在其中嵌有附加結構元件的彈性體材料。

優(yōu)選地，細長元件以扁平狀橫截面形成為條狀。優(yōu)選地，附加結構元件包括一個或多個織物或金屬增強簾線。這些加強簾線優(yōu)選彼此平行地布置，并且優(yōu)選地在相同的細長元件的縱向方向上延伸。

術語“光輻射”旨在被理解為具有在與可見光、紅外線和紫外線區(qū)域對應的范圍內的頻率的電磁輻射。

申請人先前已經觀察到，細長元件在成型鼓上的不正確沉積可能對所建造的輪胎的質量具有相關的負面影響。

特別地，申請人已經觀察到，不正確沉積的第一個原因由在其上支撐細長元件的傳送帶的表面與成型鼓之間的不正確的相對定位來構成。

為此目的，申請人已經證實，傳送帶的厚度在其縱向范圍和橫向尺寸上通常都是可變的，以便傳送帶與細長元件必須沉積在其上的成型鼓的圓柱形外表面之間的相對距離不是恒定的。因此，當傳送帶的一部分可能太靠近成型鼓的表面時，同一傳送帶的不同部分可能離得很遠。

申請人進一步發(fā)現，如果成型鼓由每個都沉積了細長元件的一對平行傳送帶控制，則這種缺點進一步惡化。事實上，在這種情況下，在通常用于在成型鼓上形成相互對稱的輪胎部件(例如側壁或側壁插入件)對以及每個單一帶的縱向范圍上的厚度變化時，需要考慮在同一縱向部分的區(qū)域中的兩條帶之間的厚度的不同。

申請人已經進一步觀察到，細長元件不正確地沉積在成型鼓上的第二個原因由供應到成型鼓的細長元件的不準確長度尺寸構成。細長元件由合適的切割構件切割成期望的長度，該切割構件由一控制單元控制，該控制單元連接到一傳感器，而該傳感器檢測細長元件位于傳送帶上時的位置。

結果，對細長元件的位置的不準確檢測涉及將細長元件切割成與期望不同的長度。

申請人已經證實，在用于檢測細長元件在傳送帶上的位置的不同系統之中，已經提供更好結果的系統是光學檢測系統。該系統包括光源和用于由該源發(fā)射的光輻射的檢測器，它們被定位在細長元件的路徑上，以便由源發(fā)射的光輻射被細長元件的通過阻斷。在系統記錄細長元件的通過的時刻，由此確定其前端的位置，促使傳送帶行進以使該前端從切割構件移動等于期望程度的一段距離，并且由此而致動切割構件以切割細長元件。

在us2003/0019725中描述的技術方案中，光源和相應檢測器位于傳送帶的上游。

然而，申請人已經證實，該解決方案在細長元件的尺寸精度方面存在一些缺點，因為傳送帶的移動通常受到由于傳送帶的牽引構件中的不準確的尺寸或者細長元件相對于傳送帶的滑動現象，有時由于內部張緊而相對于細長元件本身所引起的誤差影響。

技術實現要素：

為了克服這個缺點，申請人已經將光學檢測系統位于傳送帶內部，以便將其與切割部件分開并且在最大可能程度上減少由于在檢測到細長元件在帶上的位置之后帶的移動而導致的尺寸誤差。

這種結果已經通過使傳送帶成雙以便每個細長元件由一對彼此平行并間隔開(以便在帶之間留下的空閑空間中允許光檢測系統的光輻射的通過)的傳送帶供應到成型鼓來獲得。

然而，申請人已經證實，用一對傳送帶控制細長元件涉及額外的相關缺點，除了普遍增加用于構建和維護設備的復雜程度之外，還包括其涉及關于切割操作準確地切割以及將細長元件沉積在成型鼓上這兩者的誤差，這些誤差由兩條傳送帶的控制速度差異引起，這些差異導致細長元件在傳送帶上的橫向偏離現象或增大的滑動現象，而這些現象由其通常為細長元件提供的其支撐表面的減小而產生。

申請人進一步確定，即使使用盡可能減小的尺寸公差的傳送帶也足以借助于成型鼓上的傳送帶來確保細長元件沉積隨著時間的正確性和重復性。

基于這些觀察，申請人想到了可以采取不同的觀點、注意到傳送帶尺寸變化及其行進機制的存在的必然性并使得這些可選尺寸的不均勻性對供應到成型鼓的每個細長元件可重復那樣起作用，來解決該問題。

因此，申請人已經發(fā)現，將檢測元件與傳送帶的特定部分固定相關聯來在傳送帶本身上確定基準點，這允許確定帶的每個其他部分的相對位置，同時還允許確定支撐在傳送帶上的細長元件的可能前端相對于那部分的位置。

特別地，在其第一方面，本發(fā)明涉及輪胎建造設備，其包括成型鼓和用于將細長元件朝向所述成型鼓供給的供給裝置。

優(yōu)選地，所述供給裝置包括至少一條傳送帶，該傳送帶沿供給方向于在其中將所述細長元件裝載在所述傳送帶上的裝載區(qū)域與在其中將所述細長元件從所述傳送帶中卸載的卸載區(qū)域之間延伸。

優(yōu)選地，所述供給裝置包括馬達構件，該馬達構件被設置成在所述裝載區(qū)域和所述卸載區(qū)域之間移動所述至少一條傳送帶。

優(yōu)選地，所述供給裝置包括控制單元，其被設置成控制所述細長元件在所述傳送帶上的裝載和所述至少一條傳送帶的移動。

優(yōu)選地，所述供給裝置至少包括與所述至少一條傳送帶的第一部分固定地相關聯的第一檢測元件。

優(yōu)選地，所述供給裝置包括相對于所述至少一條傳送帶固定和獨立的傳感器，其被設置用于檢測所述第一部分相對于所述供給裝置的位置。

優(yōu)選地，所述控制單元被設置成當所述第一部分處于距離所述裝載區(qū)域一預定的基準距離處時，控制所述細長元件在所述傳送帶上的裝載。

申請人已經確定，以這種方式構造的建造設備允許將細長元件沉積在成型鼓上的步驟，其相對于常規(guī)設備更準確，而不需要增加設備生產和控制成本。

特別地，本發(fā)明的建造設備的特征允許以可重復方式供應每個細長元件，因為相同長度的每個細長元件基本上一直被支撐在傳送帶的相同部分上。

在其第二方面，本發(fā)明涉及用于借助于包括至少一條傳送帶的供給裝置將細長元件供應到輪胎建造設備中的成型鼓的方法。

優(yōu)選地，提供用于將至少一個第一檢測元件與所述至少一條傳送帶的第一部分固定地關聯的步驟。

優(yōu)選地，提供在所述供給裝置的裝載區(qū)域中，將所述細長元件的前端定位在距離所述第一部分的一預定的基準距離處的步驟。

優(yōu)選地，提供用于借助于所述至少一個第一檢測元件和一傳感器之間的相互作用來檢測所述第一部分相對于所述供給裝置的位置的步驟，所述傳感器相對于所述傳送帶固定并且獨立地位于所述供給裝置上。

優(yōu)選地，提供用于根據所檢測到的所述第一部分的位置，計算將所述第一部分帶到距離所述裝載區(qū)域的所述基準距離所必需的所述至少一條傳送帶的移動的步驟。

優(yōu)選地，提供用于使所述至少一條傳送帶朝向所述供給裝置的卸載區(qū)域前進，直到所述細長元件沉積在所述成型鼓上的步驟。

優(yōu)選地，提供用于根據所計算出的移動，將所述至少一條傳送帶的所述第一部分帶到距離所述裝載區(qū)域的所述基準距離的步驟。

優(yōu)選地，提供用于將連續(xù)細長元件的前端定位在所述傳送帶上的步驟。

申請人已經證實，作為該方法的結果，每個細長元件基本上位于傳送帶的相同部分的區(qū)域中。

以這種方式，控制傳送帶相對于成型鼓的位置更簡單，因為定位操作不必考慮傳送帶在不涉及后續(xù)將被支撐在其上以供應到成型鼓的細長元件的部分中的任何潛在的尺寸變化。

此外，該方法還可以有利地應用于在傳送帶中在其上限定第一部分的區(qū)域中不必被切割或者基于不同的控制系統切割的細長元件的供給。

本發(fā)明在其至少一個上述方面中可以具有以下羅列的優(yōu)選特征中的至少一個。

優(yōu)選地，所述控制單元被設置成當所述第一部分處于所述裝載區(qū)域中時，驅動所述細長元件在所述傳送帶上的裝載，從而將所述細長元件的前端定位在所述第一部分上。

以這種方式，可以準確地檢測細長元件在傳送帶的行進行程上的任何期望位置處的位置，而不需要使用平行的傳送帶。作為這種可能性的結果，細長元件可以被切割成期望的尺寸。

在優(yōu)選實施例中，所述供給裝置包括切割構件，該切割構件被布置成將所述細長元件切割成預定的尺寸。

以這種方式，供給裝置能夠將細長元件切割成預定的尺寸，以便以期望的長度將其沉積在成型鼓上。

優(yōu)選地，所述切割構件位于裝載區(qū)域中。

優(yōu)選地，所述傳感器被布置成在距離所述切割構件的一預定距離處檢測所述細長元件的所述前端在所述第一部分上的位置。

優(yōu)選地，所述切割構件由所述控制單元驅動，以便根據由所述傳感器檢測到的所述細長元件的所述前端在所述第一部分上的位置來切割所述細長元件。

以這種方式，傳感器可以位于距離切割構件一定距離處，該距離略小于其必須被切割的最小長度，以便在檢測到前端的位置之后傳送帶的行進盡可能小，以便最小化傳送帶的任何移動誤差。

優(yōu)選地，所述至少一個第一檢測元件具有在所述供給方向上小于在所述至少一條傳送帶的在所述供給方向上的范圍的10％的范圍并且以非常優(yōu)選的方式下小于5％的范圍。

優(yōu)選地，所述至少一個第一檢測元件具有在所述供給方向上介于50和300mm之間的、在非常優(yōu)選的方式下是100mm的范圍。

以這種方式，第一部分具有有限的縱向范圍，以便其上支撐細長元件的傳送帶的那部分基本上總是相同的。

此外，有限的縱向范圍在檢測元件的一些實施例中允許傳送帶的機械阻力的特性不被削弱。

在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，在所述至少一條傳送帶的與所述第一部分不同并且分開的第二部分上設置至少一個第二檢測元件，其被設置成與所述傳感器或輔助傳感器配合，以便檢測所述細長元件的末端的存在。

以這種方式，也可以準確地檢測細長元件的末端，并且因此計算由切割操作產生并被供應到成型鼓的細長元件的長度。

優(yōu)選地，所述至少一個第二檢測元件被設置成與位于所述裝載區(qū)域中的輔助傳感器配合。

以這種方式，為了檢測末端，不需要等待第二部分在通常可以位于距離裝載區(qū)域一給定距離處的傳感器的區(qū)域中的通過，并且這有利地允許傳送帶的長度和供給周期的時間都包含。

優(yōu)選地，所述至少一個第二檢測元件在所述供給方向上具有介于300和700mm之間的范圍。

優(yōu)選地，所述至少一個第一檢測元件或所述至少一個第二檢測元件位于所述至少一條傳送帶的縱向軸線處。

以這種方式，如果沒有設置第二檢測元件，每條傳送帶可以沿一個方向或另一方向安裝，并且在包括多個平行帶的供給裝置的情況下，每條帶可以安裝在任何位置，而不需要提供對應于每種類型的定位的一束帶。

在優(yōu)選的替代版本中，所述至少一個第一檢測元件或所述至少一個第二檢測元件位于相對于所述至少一條傳送帶的縱向軸線的交錯位置。

以這種方式，本發(fā)明還可以應用于通過突出突起接合在引導件中的傳送帶，該突出突起在與細長元件的支撐表面相對的一側上沿帶的縱向軸線延伸。

在一個實施例中，在所述第一部分上設置多個第一檢測元件。

以非常優(yōu)選的方式，所述多個第一檢測元件相對于所述至少一條傳送帶的縱向軸線對稱地設置。

類似地，優(yōu)選地，在所述第二部分上設置多個第二檢測元件。

進一步優(yōu)選地，所述多個第二檢測元件相對于所述至少一條傳送帶的縱向軸線對稱地設置。

作為該特征的結果，本發(fā)明還可以應用于通過突出突起接合在引導件中的傳送帶，在存在多個(第一和/或第二)檢測元件時，該突出突起也在與細長元件的支撐表面相對的一側沿帶的縱向軸線延伸。

在優(yōu)選實施例中，所述傳感器是光學類型的，并且包括光輻射檢測器。

在第一實施例中，所述至少一個第一檢測元件或所述至少一個第二檢測元件包括光輻射發(fā)射器。

在這種情況下，提供用于將結合到傳送帶中并在其第一部分的區(qū)域中發(fā)射的光輻射的裝置。

在替代實施例中，所述傳感器包括相對于所述傳送帶分開并且獨立的光輻射發(fā)射器。

優(yōu)選地，所述光輻射發(fā)射器和所述光輻射檢測器被布置在所述至少一條傳送帶的同一側上，并且所述至少一個第一檢測元件或所述至少一個第二檢測元件包括用于所述光輻射的反射元件。

以這種方式，不需要將光輻射發(fā)射器和相應的檢測器位于傳送帶的相對側，從而獲得對傳感器的更簡單的控制。

優(yōu)選地，所述至少一個第一檢測元件或所述至少一個第二檢測元件包括凹槽，該具有凹槽閉合輪廓并且沿所述供給方向形成在所述至少一條傳送帶中。

以這種方式，任何反射元件或光輻射發(fā)射器可以被接納在傳送帶中的受保護位置中，而不會與細長元件直接接觸(這可能導致不期望的磨損現象)。

在本發(fā)明的優(yōu)選替代版本中，所述至少一個第一檢測元件或所述至少一個第二檢測元件包括貫通開口，其具有閉合輪廓并且沿所述供給方向形成在所述至少一條傳送帶中。

作為該特征的結果，獲得了非常簡單和便宜的設備解決方案。此外，該解決方案也可以容易地在簡單地改變了傳送帶的現有建造設備中實現。

優(yōu)選地，所述光輻射發(fā)射器和所述光輻射檢測器被布置在所述至少一條傳送帶的同一側，并且在所述至少一條傳送帶的相對側上設置反射元件，其被設置成當與所述開口對準時，朝向所述光輻射檢測器反射由所述光輻射發(fā)射器發(fā)射的光輻射。

優(yōu)選地，所述開口或所述凹槽具有介于5mm至30mm之間的寬度，在非常優(yōu)選的方式下是10mm的寬度。

以這種方式，確保了用于光輻射的適當通過，而不損害傳送帶的機械阻力的特性。

在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，所述第一部分相對于所述供給裝置的位置的檢測包括：

-借助于所述傳感器記錄與所述至少一個第一檢測元件在由所述傳感器控制的檢測區(qū)帶中的到達對應的信號，

-將所述第一部分在所述檢測區(qū)帶中的位置歸因于所述信號的記錄。

優(yōu)選地，將所述信號的檢測持續(xù)時間與持續(xù)時間最小值進行比較，并且如果所述持續(xù)時間大于所述最小值，則將所述第一部分的位置歸因于所述信號的記錄。

以這種方式，避免了假信號檢測，這些假信號檢測可能歸因于在不同于第一或(在可用的情況下)第二檢測元件的傳送帶的區(qū)域的檢測區(qū)帶中的存在。特別地，在一些傳送帶借助于拉鏈式閉合件以環(huán)狀方式閉合的情況下，光輻射可能能夠通過該閉合件(或反射它)，但是產生非常有限的假持續(xù)時間信號。

在本發(fā)明的優(yōu)選實施例中，所述第一部分被帶到所述裝載區(qū)域中，并且所述細長元件被裝載在所述至少一條傳送帶上，從而將所述前端定位在所述第一部分上。

以這種方式，在已經裝載細長元件之后由第一部分被帶到的裝載區(qū)域所預定的基準距離基本上為零，并且細長元件的前端準確地被定位在其上。

優(yōu)選地，還檢測所述細長元件的所述前端相對于所述供給裝置而在所述第一部分上的位置。

此外，所述細長元件的所述前端的位置優(yōu)選借助于所述至少一個第一檢測元件和所述傳感器之間的相互作用來檢測。

優(yōu)選地，所述細長元件的所述前端相對于所述供給裝置而在所述第一部分上的位置的檢測包括：

-記錄借助于所述傳感器對與所述至少一個第一檢測元件在由所述傳感器控制的檢測區(qū)帶中的到達對應的信號的檢測的開始，

-記錄借助于所述傳感器對所述信號的檢測的結束，

-將所述信號的檢測持續(xù)時間與持續(xù)時間最大值進行比較，并且如果所述持續(xù)時間小于所述最大值，則將所述細長元件的所述前端在所述檢測區(qū)帶中的位置歸因于所述信號的所述檢測的結束。

作為該特征的結果，以準確的時間確定細長元件的前端的位置。

此外，通過固定持續(xù)時間最大值，可以促使該最大值對應于第一檢測元件在檢測區(qū)帶中通過的持續(xù)時間，從而阻止檢測的結束歸因于前端的位置，哪怕在第一部分上沒有細長元件。

優(yōu)選地，如果所述持續(xù)時間小于所述最大值并且大于最小值，則將所述細長元件的所述前端的位置歸因于所述信號的所述檢測的結束。

同樣在這種情況下，避免了涉及上述牽涉細長元件的前端的位置的假檢測的可能性，這是在允許光輻射的通過或反射的受限區(qū)域的傳送帶中的存在的結果。

優(yōu)選地，所述細長元件在被沉積在所述成型鼓之前被切割成預定的尺寸。

以非常優(yōu)選的方式，由設置在所述裝載區(qū)域中的切割構件將所述細長元件切割成所述預定的尺寸。

優(yōu)選地，將所述至少一條傳送帶沿所述供給方向移動，以便使所述細長元件的所述前端遠離所述切割構件移動。

優(yōu)選地，所述細長元件的所述前端在所述第一部分上的位置由所述傳感器在距離所述切割構件的小于所述預定的尺寸的一距離處被檢測到，其中所述細長元件必須被切割到該預定的尺寸。

優(yōu)選地，一旦檢測到所述前端的所述位置，就將所述至少一條傳送帶沿所述供給方向移動等于所述預定的尺寸與所述距離之間的差異的長度，并且由所述切割構件切割所述細長元件，以便獲得被準確切割的細長元件。

以這種方式，在檢測到前端的位置之后傳送帶的行進盡可能小，從而最小化任何移動誤差。

在本發(fā)明的優(yōu)選版本中，所述至少一個第一檢測元件包括貫通開口，該貫通開口具有閉合輪廓并且在所述供給方向上形成在所述至少一條傳送帶中，并且當所述開口處于所述檢測區(qū)帶中時，所述傳感器檢測從所述傳送帶的一側傳遞到另一側的光輻射。

優(yōu)選地，所述細長元件的末端被定位在所述至少一條傳送帶的第二部分上，該第二部分與所述第一部分不同并且與所述第一部分分開，其中該第一部分與至少一個第二檢測元件被固定地相關聯。

優(yōu)選地，借助于所述至少一個第二檢測元件與所述傳感器之間的相互作用，來檢測所述細長元件的所述末端相對于所述供給裝置而在所述第二部分上的位置。

優(yōu)選地，借助于所述至少一個第二檢測元件與以固定并獨立的方式定位于所述裝載區(qū)域中的輔助傳感器之間的相互作用，可選地檢測所述細長元件的所述末端相對于所述供給裝置而在所述第二部分上的位置。

在第一種情況下，可以使用相同的傳感器來檢測細長元件的前端和末端，而在第二種情況下，通過以適當方式布置輔助傳感器，可以使用具有較短長度的傳送帶并且保持縮短的循環(huán)時間。

附圖說明

從本發(fā)明的優(yōu)選實施例的詳細描述將更好地理解本發(fā)明的特征和優(yōu)點，優(yōu)選實施例將參考附圖以非限制性示例方式進行說明，在附圖中：

-圖1是根據本發(fā)明生產的輪胎建造設備的示意性側視圖；

-圖2是圖1的建造設備的供給裝置的示意性前視圖；

-圖3是圖2的供給裝置的一部分的放大比例的視圖；以及

-圖4是圖2的供給裝置的構造變型的視圖。

具體實施方式

參考附圖，總體上指示為1的是根據本發(fā)明生產的輪胎建造設備。設備1包括至少一個建造工位，在其中將細長元件3分布在成型鼓4或者設置在其上的輪胎部件的徑向外表面上。

優(yōu)選地，設備1包括多個建造工位，其布置在彼此相鄰的位置，以便成型鼓可以根據預定的順序容易地在它們之間移動，該預定的順序由必須沉積在其上以形成待建造的輪胎的細長元件的連續(xù)性限定。

成型鼓4具有大致圓柱形的形狀，并且有利地安裝在機動化支撐單元(未示出在附圖中)，其提供來使其圍繞其自身軸線z旋轉并且在一個建造工位與另一個建造工位之間移動。

每個建造工位還包括供給裝置10，提供供給裝置10來將細長元件3朝向成型鼓4供給并將其沉積在由此呈現的徑向外表面上。

細長元件3在前端5和末端6之間沿占優(yōu)勢的縱向方向上延伸，并且可以由根據要在設備1中建造的輪胎類型的任何輪胎部件構成。例如它可以由胎體的簾布層、帶條、襯里或復合物(包括襯里、副襯里、抗磨料的多層結構)層或側壁插入件或側壁(側壁通常成對提供)形成。

因此，如在相關技術領域中已知那樣，細長元件3可以由設置有增強簾線的彈性體材料的連續(xù)條或僅由有利于構建輪胎的彈性體材料和/或任何其它增強元件形成。

供給裝置10包括至少一條傳送帶11，該傳送帶11安裝在框架11a上并且沿供給方向x于在其中將細長元件3裝載在傳送帶11上的裝載區(qū)域12與在其中將細長元件3從傳送帶11卸載的卸載區(qū)域13之間延伸。

在這里參考圖1至圖3描述的優(yōu)選實施例中，供給裝置10配置成向成型鼓4供給旨在形成輪胎的側壁插入件的一對細長元件，因此包括一對傳送帶11，它們彼此基本相同并且以平行方式布置。

下面將詳細描述單條傳送帶，但是應當理解，相同的特征也旨在適用于該對傳送帶中的另一傳送帶，并且可以適用于為單條傳送帶提供的供給裝置。

優(yōu)選地，裝載區(qū)域12和卸載區(qū)域13對應于傳送帶11的縱向端部。此外，卸載區(qū)域13以預定距離定位在成型鼓4的表面附近，以便促進細長元件3在其上的沉積。

傳送帶11圍繞可旋轉地支撐在框架11a上的輥14以環(huán)狀方式閉合，以便在傳送帶11上仍然存在向上指向并且細長元件3被定位在其上的支撐表面15。

由驅動構件16促使傳送帶11圍繞輥14旋轉，以便其支撐表面15沿供給方向x從裝載區(qū)域12移動到卸載區(qū)域13。

還將附加張緊輥14a安裝在框架11a上以便抵靠傳送帶11并且以可調節(jié)方式將其張緊到最合適的張緊度。

在這里描述的優(yōu)選實施例中，供給裝置10還包括位于傳送帶11上游的附加傳送帶17，該傳送帶17被設置成例如從以連續(xù)方式存放細長元件的卷軸中取得細長元件3并且將其帶到傳送帶11的裝載區(qū)域12。

供給裝置10還包括切割構件18，該切割構件18定位在傳送帶11的裝載區(qū)域12處，優(yōu)選定位在附加傳送帶17的末端和傳送帶11之間，并且被設置成以預定的尺寸切割細長元件3。由切割構件18執(zhí)行的每個切割操作限定了已經基本上裝載在傳送帶11上的細長元件3的末端6和連續(xù)細長元件3的前端5。

供給裝置10還包括控制單元19，其特別地設置用于控制傳送帶11的移動、附加傳送帶17和切割構件18的移動。

特別地，控制單元19被設置成當傳送帶11的特定第一部分20位于距離裝載區(qū)域12一預定的基準距離時，移動傳送帶11和17以將細長元件3裝載在傳送帶11上。

在這里所述的優(yōu)選實施例中，當第一部分20位于裝載區(qū)域12中時，即當上述基準距離基本上為零時，將細長元件3裝載在傳送帶11上，以便將細長元件3的前端5準確地定位在第一部分20上。

傳送帶11的第一部分20由與其固定相關聯的第一檢測元件限定。

在框架11a相對于傳送帶11獨立的固定位置上進一步安裝傳感器22，其被設置成借助于與第一檢測元件的相互作用來檢測第一部分20的位置和/或可以定位第一部分20上的細長元件3的前端5相對于供給裝置10的位置。

在這里所述的優(yōu)選實施例中，第一檢測元件由貫通開口21形成，該貫通開口21具有閉合輪廓、形成在傳送帶11中并且沿供給方向x延伸。

開口21位于傳送帶11的縱向軸線y的區(qū)域中，并且在供給方向x上具有相對于傳送帶11的范圍受到限制的范圍，例如具有50mm至300mm的長度，優(yōu)選為100mm的長度，而在垂直于供給方向x的方向上測量到的寬度在5mm至30mm之間，優(yōu)選為10mm。

優(yōu)選地，開口21在供給方向x上具有小于傳送帶11的范圍的10％且優(yōu)選小于傳送帶11的范圍的5％的范圍，在這里所示的實施例中，傳送帶11在供給方向上具有約2.5m的范圍。

傳感器22是光學型的，并且包括光輻射檢測器23和光輻射發(fā)射器24，它們沿基本上垂直于支撐表面15的方向在其縱向軸線的區(qū)域中相對于傳送帶11設置在同一側。特別地，光輻射檢測器23和光輻射發(fā)射器24位于傳送帶11上方的支撐表面15的一側，而在傳送帶11下方的支撐表面15的相反側上定位反射元件26。

在一方面上的光輻射發(fā)射器24和光輻射檢測器23以及在另一方面上的反射元件26的相互定位限定了檢測區(qū)帶25，該檢測區(qū)帶25涉及傳感器22的控制，并且在其行進期間沿供給方向x驅動傳送帶11通過該檢測區(qū)帶。特別地，在第一部分20在檢測區(qū)帶25的區(qū)域中通過期間，由光輻射發(fā)射器24發(fā)射的輻射通過開口21并且被反射元件26反射，以便其可以通過其再次通過開口21，來由光輻射檢測器23檢測到。代之以當傳送帶11或細長元件3插入在光輻射發(fā)射器24和反射元件26之間時，阻止光輻射的通過。

傳感器22位于傳送帶11附近，以使得檢測區(qū)25處于距離切割構件18一距離d(與供給方向x平行地測量到的)處，該距離d有利地選擇為比細長元件3可以以其被切割的最小長度稍微小(例如100至200mm)。

在未示出的構造變型中，光輻射發(fā)射器24和光輻射檢測器23沿基本上垂直于支撐表面15的方向在其縱向軸線的區(qū)域中被獨立地布置在相對于傳送帶11的相對側上。例如光輻射檢測器23可以位于在傳送帶11上方的支撐表面15的一側上，而光輻射發(fā)射器24可位于在傳送帶11下方的支撐表面15的相對側上。在這種情況下，不需要設置反射元件。

在未示出的另一構造變型中，反射元件可以直接位于支撐表面15上，或者更優(yōu)選地位于形成在傳送帶中并且具有閉合輪廓和相對于支撐表面15的降低的外形的凹槽的底部。

在未示出的另一構造變型中，光輻射發(fā)射器可以結合在第一檢測元件中，該第一檢測元件例如位于具有閉合輪廓和相對于形成在傳送帶中的支撐表面的降低的外形的凹槽的底部。

在上述羅列的情況下，凹槽具有與以上關于開口21所羅列的長度和寬度尺寸類似的長度和寬度尺寸。

建造設備1按照以下步驟要求進行操作。

細長元件3由附加傳送帶17移動到傳送帶11，以將前端5帶進裝載區(qū)域12的區(qū)域中。

如上所述，當控制單元19確定傳送帶11的第一部分20處于裝載區(qū)域12的區(qū)域中時，附加傳送帶17被移動以將細長元件3傳送到傳送帶11的支撐表面15上。附加傳送帶17和傳送帶11以相同的速度移動，以免引起細長元件3相對于傳送帶11的不期望的滑動行為。

以這種方式，前端5變成位于第一部分20上，從而部分地覆蓋開口21。

在傳送帶11沿供給方向x的行進移動之后，第一部分20到達由傳感器22限定的檢測區(qū)帶25的區(qū)域中，其中由發(fā)射器24發(fā)射的光輻射可以通過開口21，被反射元件26反射，然后被檢測器23檢測到，從而產生相應的信號。

所連接的傳感器22和/或控制單元19記錄該信號，以確定由檢測器23執(zhí)行的光輻射檢測的開始和結束(以及后續(xù)持續(xù)時間)。

可以通過開口21從檢測區(qū)帶25的排出，或者如果細長元件3位于開口21上，則通過細長元件3的前端5的檢測區(qū)帶25中的到達，來確定光輻射檢測的結束。

信號檢測的開始由控制單元19歸因于開口21(并且因此第一部分20)在檢測區(qū)帶25的區(qū)域中的到達。以這種方式，控制單元19能夠準確地確定第一部分20相對于供給裝置10的固定基準的位置，并且能夠通過了解傳送帶的長度和傳感器22距離裝載區(qū)域12的距離，來計算將第一部分20帶入裝載區(qū)域12的區(qū)域(或者在更一般的情況下，將第一部分20帶到距離裝載區(qū)域12任何基準距離)所必需的傳送帶11的移動。

優(yōu)選地，如上所述，第一部分20的位置歸因于在控制單元19后續(xù)已經將信號的檢測持續(xù)時間與持續(xù)時間最小值進行比較之后，以便阻止歸因于在傳送帶11的可選拉鏈閉合件的檢測區(qū)帶中的存在的可能的假信號檢測。

信號檢測的結束由控制單元19歸因于在細長元件3的前端5的檢測區(qū)帶25中的到達。以這種方式，控制單元19能夠準確地確定細長元件3的前端5相對于供給裝置10的固定基準的位置。

因此，通過了解細長元件3必須以其進行切割的預定的尺寸以及檢測區(qū)帶25和切割構件18之間的距離d，控制單元19能夠計算(通過從預定的尺寸中減去距離d)將前端5帶到與該預定的尺寸對應的距離切割構件18的一距離所必須的傳送帶11的移動。

優(yōu)選地，如上所述，前端5的位置歸因于在控制單元19后續(xù)也已經將信號的檢測持續(xù)時間除了與上述最小值進行比較之外，還與最大值持續(xù)時間值進行比較之后，以便開口21的端部不會不正確被誤認為前端5的到達。

然后，將傳送帶11沿供給方向x遠離切割構件18移動等于該預定的尺寸與距離d之間的差異的長度，并且在該位置處，在控制單元19的指令下由切割構件18切割細長元件3。

然后，進一步移動傳送帶11，以便使現在被切割成預定的尺寸的細長元件3沿供給方向x前進，直到其被沉積在成型鼓4的區(qū)域中的卸載區(qū)域13。

然后，進一步基于由控制單元19事先計算出的移動，促使傳送帶11圍繞輥14旋轉，直到將第一部分20帶入裝載區(qū)域12的區(qū)域。

在這一點上，可以在第一部分20上定位連續(xù)細長元件的前端。

在圖4中，總體上指示為100的是根據本發(fā)明的建造設備的第二實施例，其中相對于建造設備1的相似元件使用相同的附圖標記表示。

作為傳送帶和第一檢測元件的不同構造的結果，建造設備100與前述示例的建造設備不同。

特別地，建造設備100包括一對傳送帶101，其相同地進行配置，并且每條傳送帶101在預定的尺寸上在與支撐表面15相對的一側上包括突出突起，并且沿縱向軸線y在整個傳送帶101的范圍上延伸。

突起以滑動方式接合在形成在框架11a上的合適的引導件中，以便允許沿供給方向x更一致地行進，從而限制傳送帶的任何橫向偏離。

為了不中斷突起的連續(xù)性，在傳送帶101上設置由相應的開口102形成的一對第一檢測元件，該對開口102被設置在相對于縱向軸線y的交錯位置中。

優(yōu)選地，開口102相對于設備1的開口21具有相似的尺寸，并且布置在相對于與其平行的縱向軸線y的對稱位置中。

當然，在本實施例中，提供傳感器22，其包括用于檢測光輻射的一對元件、相應的一對光輻射發(fā)射器和相應的一對反射元件。

在每條傳送帶101上進一步限定第二部分103，第二部分103與第一部分20分開并且不同，并且第二部分103由第二檢測元件標識，該第二檢測元件固定地與第二部分103相關聯并被提供來與輔助傳感器105配合，該輔助傳感器105被安裝在裝載區(qū)域12的區(qū)域中，以便檢測細長元件3的末端6的存在。

第二檢測元件在供給方向上具有通常大于第一檢測元件的范圍，因為它必須能夠檢測細長元件的末端6的位置，該細長元件通常可以具有根據要在成型鼓4上構建的輪胎而彼此不同的尺寸。

優(yōu)選地，第二檢測元件在供給方向x上具有為300至700mm的范圍。

第二檢測元件也有利地根據傳感器22的配置、以類似于第一檢測元件的方式構造，以便在傳送帶101上設置一對開口104，其相對于與開口102對準的縱向軸線y對稱地被布置。

設備100的功能類似于設備1的功能，但具有借助于第二檢測元件提供的附加特性，該特征能夠控制末端6的位置，并且因此能夠確定由切割構件18切割的細長元件3的長度。

當然，本領域技術人員可以為了符合特定和視情況而定的應用要求的目的，對上述發(fā)明進行附加修改和變型，而在任何情況下的變型和修改都被包括在由所附權利要求限定的保護范圍內。