專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板處理裝置。
背景技術(shù)：
在手機(jī)上應(yīng)用電容式觸摸屏已成為當(dāng)今社會(huì)之主流趨勢(shì)，電容式觸摸屏作為一種新型的人機(jī)交互界面，逐步被廣泛地應(yīng)用于各種數(shù)字信息系統(tǒng)上，從小型產(chǎn)品如手機(jī)、PDA、數(shù)碼產(chǎn)品、e-Book，到中型產(chǎn)品如車載導(dǎo)航儀、游戲機(jī)、家用電器、工控儀器，再到大型產(chǎn)品如POS系統(tǒng)、公共查詢和自助系統(tǒng)、便攜電腦、醫(yī)療儀器以及電視新聞節(jié)日中常用的觸摸式PDP上都可以看到電容式觸摸屏產(chǎn)品。因此，電容式觸摸屏具有廣泛的市場(chǎng)前景。電容式觸摸屏通常由基板和形成于基板上的觸控感應(yīng)層構(gòu)成。目前，行業(yè)中使用
的多為玻璃基板，而玻璃基板供應(yīng)商供應(yīng)的玻璃基板的尺寸通常較大，且規(guī)格統(tǒng)一。為了滿足不同電子產(chǎn)品對(duì)電容式觸摸屏的尺寸要求，在將玻璃基板供應(yīng)商提供的玻璃基板應(yīng)用于加工電容式觸摸屏之前，通常需要對(duì)所述玻璃基板進(jìn)行切割。同時(shí)，玻璃基板在未經(jīng)過(guò)處理之前，其邊緣通常較為鋒利，而該鋒利的邊緣很可能對(duì)電容式觸摸屏的加工人員造成損傷。因此，在切割完所述玻璃基板后，通常還需要對(duì)所述玻璃基板的邊緣進(jìn)行處理，業(yè)界通常的處理是對(duì)玻璃基板的邊緣進(jìn)行打磨，使其邊緣變得圓潤(rùn)。業(yè)界對(duì)所述玻璃基板的上述切割、打磨處理，通常是流水作業(yè)。但是，由于玻璃基板的長(zhǎng)寬尺寸通常不一致，在打磨完長(zhǎng)方向的玻璃基板的邊緣后，在對(duì)所述玻璃基板的寬方向的邊緣進(jìn)行打磨之前，需要將玻璃基板從一條流水線轉(zhuǎn)移至另一條流水線上。現(xiàn)有技術(shù)是通過(guò)采用一種玻璃基板的吸附裝置，吸附住玻璃基板所呈矩形的對(duì)角線上的兩個(gè)點(diǎn)，然后將所述玻璃基板提取，然后放置于另一條流水線上。然而，隨著人們對(duì)電子產(chǎn)品的薄型化要求，對(duì)生產(chǎn)電子產(chǎn)品的玻璃基板的厚度要求也越來(lái)越高，通常為O. 4毫米。如此薄的玻璃基板在被上述吸附裝置吸附后提起的過(guò)程中，其中心處容易因重力原因產(chǎn)生向下的翹曲，當(dāng)基板尺寸漸漸變大的同時(shí)，其翹曲也越厲害。當(dāng)所述玻璃基板的翹曲達(dá)到一定程度，會(huì)與所述流水線上的傳送裝置產(chǎn)生刮擦，對(duì)所述玻璃基板的表面造成損傷。
實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種有效防止基板刮傷、破裂的基板處理裝置。一種基板處理裝置包括第一處理單元、第二處理單元及傳送單元，所述基板處理裝置用于處理一包括沿第一方向的第一邊緣和第二邊緣、沿第二方向的第三邊緣和第四邊緣、以及第一表面的基板，所述第一處理單元用于處理所述第一邊緣和第二邊緣，所述第二處理單元用于處理所述第三邊緣和第四邊緣，所述傳送單元至少包括第一模塊、第二模塊及第三模塊，所述第一模塊、第二模塊及第三模塊分別與所述基板的第一表面作用，分別形成第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)及第三作用點(diǎn)，且所述第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)及第三作用點(diǎn)中相鄰兩個(gè)之間具有相同的間距。[0007]本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述基板處理裝置還包括位移模塊，所述位移模塊至少包括垂直位移子模塊，所述垂直位移子模塊用于將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊垂直移動(dòng)一第一位移。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述位移模塊還包括水平位移子模塊，所述水平位移子模塊用于將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊水平移動(dòng)一第二位移。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述基板處理裝置還包括第四模塊、第五模塊及第六模塊，其所述第四模塊、第五模塊及第六模塊分別與所述基板的第一表面作用，分別形成第四作用點(diǎn)、第五作用點(diǎn)及第六作用點(diǎn)，所述第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)、第三作用點(diǎn)、第四作用點(diǎn)、第五作用點(diǎn)及第六作用點(diǎn)中任意相鄰兩個(gè)之間具有相同的間距。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述第一處理單元和第二處理單元具有獨(dú)立的流水作業(yè)系統(tǒng)，或者共用同一套流水作用系統(tǒng)。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述基板為透明的玻璃材料制成，所述第一方向?yàn)樗龌宓拈L(zhǎng)方向，所述第二方向?yàn)樗龌宓膶挿较?。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，第一處理單元對(duì)所述第一邊緣和第二邊緣的處理為磨邊，第二處理單元對(duì)所述第三邊緣和第四邊緣的處理為磨邊。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣及第四邊緣均與所述第一表面相交。本發(fā)明所述的基板處理裝置中，所述第一作用點(diǎn)與所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣、第四邊緣之間的距離最短的為第一間距，第二作用點(diǎn)與所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣、第四邊緣之間的距離最短的為第二間距，第三作用點(diǎn)與所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣、第四邊緣之間的距離最短的為第三間距，且所述第一間距、第二間距、第三間距相等。本發(fā)明提供的基板處理裝置中，通過(guò)設(shè)定所述第一模塊、第二模塊及第三模塊，且使所述第一模塊、第二模塊及第三模塊之間具有相同間距，進(jìn)而可有效降低所述基板的翹曲度，防止所述基板與所述第一處理單元、第二處理單元發(fā)生刮擦，進(jìn)而防止所述基板出現(xiàn)損傷。
下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，附圖中圖I為本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施方式的基板處理裝置的模塊示意圖。圖2為圖I所不的基板處理裝直處理的基板不意圖。
具體實(shí)施方式
為說(shuō)明本實(shí)用新型提供的基板處理裝置，以下結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖進(jìn)行詳細(xì)闡述。請(qǐng)同時(shí)參閱圖I和圖2，其為本實(shí)用新型提供的一較佳實(shí)施方式的基板處理裝置的模塊示意圖及圖I所示的基板處理裝置處理的基板示意圖。所述基板處理裝置100用于處理一基板200，其包括第一處理單元110、傳送單元120、第二處理單元130。所述基板200具有沿第一方向201的第一邊緣210和第二邊緣220、沿第二方向203的第三邊緣230和第四邊緣240。在本實(shí)施方式中，所述第一方向201為所述基板200的長(zhǎng)方向，所述第二方向?yàn)樗龌?00的寬方向，所述基板200由透明的玻璃材料制成。所述第一處理單元110用于處理所述基板200沿第一方向201的第一邊緣210和第二邊緣220，所述第二處理單元130用于處理所述基板200沿所述第二方向203的第三邊緣230和第四邊緣240，所述第一處理單元110和第二處理130分別具有獨(dú)立的流水作業(yè)系統(tǒng)或者共用一套流水作業(yè)系統(tǒng)。所述傳送單元120用于將經(jīng)過(guò)所述第一處理單元110處理過(guò)的基板200從第一處理單元110傳送至第二處理單元130。在本實(shí)施方式中，所述第一處理單元110對(duì)所述第一邊緣210和第二邊緣220的處理為磨邊，所述第二處理單元130對(duì)所述第三邊緣230和第四邊緣240的處理亦為磨邊。所述基板200還包括第一表面205,所述第一表面205分別與所述第一邊緣210、第二邊緣220、第三邊緣230及第四邊緣240相交。所述傳送單元120至少包括與所述基板200的第一表面205作用的第一模塊(圖中未不出)、第二模塊(圖中未不出)、第三模塊(圖中未示出)。所述第一模塊、第二模塊、第三模塊分別與所述第一表面205作用，并在
所述第一表面205上分別形成第一作用點(diǎn)205a、第二作用點(diǎn)205b、第三作用點(diǎn)205c，且所述第一作用點(diǎn)205a、第二作用點(diǎn)205b、第三作用點(diǎn)205c兩兩之間的具有相同的間距，即所述第一作用點(diǎn)205a、第二作用點(diǎn)205b、第三作用點(diǎn)205c之間的連線在所述第一表面205上形成一等邊三角形；所述第一作用點(diǎn)205a與所述第一邊緣210、第二邊緣220、第三邊緣230、第四邊緣240之間的距離最短的為第一間距，第二作用點(diǎn)205b與所述第一邊緣210、第二邊緣220、第三邊緣230、第四邊緣240之間的距離最短的為第二間距,第三作用點(diǎn)205c與所述第一邊緣210、第二邊緣220、第三邊緣230、第四邊緣240之間的距離最短的為第三間距，且所述第一間距、第二間距、第三間距相等。在本實(shí)施方式中，所述第一表面205為一光滑的平面，所述第一模塊、第二模塊、第三模塊均為真空吸附模塊，所述傳送單元120通過(guò)所述第一模塊、第二模塊、第三模塊將所述基板200吸附住。在其他實(shí)施方式中，所述傳送單元120還可以包括第四、第五、第六模塊，且其分別與所述基板200的第一表面205作用形成第四、第五、第六作用點(diǎn)，且所述第一、第二、第三、第四、第五、第六作用點(diǎn)中的任意兩個(gè)相鄰作用點(diǎn)之間的間距相同。所述傳送單元120至少還包括位移模塊(圖中未示出)，所述位移模塊包括水平位移子模塊和垂直位移子模塊。所述垂直位移子模塊用于將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊垂直移動(dòng)一第一位移，所述水平位移子模塊用于將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊水平移動(dòng)一第二位移。當(dāng)所述第一模塊、第二模塊及第三模塊吸附住所述基板200后，所述垂直位移子模塊將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊垂直向上移動(dòng)所述第一位移，進(jìn)而使所述基板200垂直向上移動(dòng)所述第一位移，使所述基板200與所述第一處理單元110分離。所述水平位移子模塊在所述垂直位移子模塊將所述基板200垂直向上移動(dòng)所述第一位移后，將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊水平移動(dòng)所述第二位移，進(jìn)而使所述基板200水平移動(dòng)所述第二位移，使所示基板200從第一處理單元110轉(zhuǎn)移至所示第二處理單元130。所述垂直位移子模塊在所述水平位移子模塊將所述基板200移動(dòng)所述第二位移后，將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊垂直向下移動(dòng)所述第一位移，進(jìn)而使所述基板200位于所述第二處理單元130上，所述第一模塊、第二模塊及第三模塊結(jié)束與所述基板200的作用。然后，所述垂直位移子模塊將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊再次垂直向上移動(dòng)所述第一位移，所述水平位移子模塊在所述垂直位移子模塊完成上述垂直向上移動(dòng)后，將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊水平移動(dòng)所述第二位移，使所述第一模塊、第二模塊及第三模塊重新恢復(fù)到初始位置。本發(fā)明提供的基板處理裝置中，通過(guò)設(shè)定所述第一模塊、第二模塊及第三模塊，且使所述第一模塊、第二模塊及第三模塊之間具有相同間距，進(jìn)而可有效降低所述基板的翹曲度，防止所述基板與所述第一處理單元、第二處理單元發(fā)生刮擦，進(jìn)而防止所述基板出現(xiàn)損傷。以上為本實(shí)用新型提供的一種基板處理裝置的較佳實(shí)施方式，并不能理解為對(duì)本實(shí)用新型權(quán)利保護(hù)范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該知曉，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可做多種改進(jìn)或替換，所有的該等改進(jìn)或替換都應(yīng)該在本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)
范圍內(nèi)，即本實(shí)用新型的權(quán)利保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種基板處理裝置，包括第一處理單元、第二處理單元及傳送單元，所述基板處理裝置用于處理一包括沿第一方向的第一邊緣和第二邊緣、沿第二方向的第三邊緣和第四邊緣、以及第一表面的基板，所述第一處理單元用于處理所述第一邊緣和第二邊緣，所述第二處理單元用于處理所述第三邊緣和第四邊緣，所述傳送單元至少包括第一模塊、第二模塊及第三模塊，所述第一模塊、第二模塊及第三模塊分別與所述基板的第一表面作用，分別形成第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)及第三作用點(diǎn)，且所述第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)及第三作用點(diǎn)中相鄰兩個(gè)之間具有相同的間距。
2.如權(quán)利要求I所述的基板處理裝置，其特征在于所述基板處理裝置還包括位移模塊，所述位移模塊至少包括垂直位移子模塊，所述垂直位移子模塊用于將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊垂直移動(dòng)一第一位移。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于所述位移模塊還包括水平位移子模塊，所述水平位移子模塊用于將所述第一模塊、第二模塊及第三模塊水平移動(dòng)一第二位移。
4.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于所述基板處理裝置還包括第四模塊、第五模塊及第六模塊，其所述第四模塊、第五模塊及第六模塊分別與所述基板的第一表面作用，分別形成第四作用點(diǎn)、第五作用點(diǎn)及第六作用點(diǎn)，所述第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)、第三作用點(diǎn)、第四作用點(diǎn)、第五作用點(diǎn)及第六作用點(diǎn)中任意相鄰兩個(gè)之間具有相同的間距。
5.如權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一處理單元和第二處理單元具有獨(dú)立的流水作業(yè)系統(tǒng)，或者共用同一套流水作用系統(tǒng)。
6.如權(quán)利要求I所述的基板處理裝置，其特征在于所述基板為透明的玻璃材料制成，所述第一方向?yàn)樗龌宓拈L(zhǎng)方向，所述第二方向?yàn)樗龌宓膶挿较颉?br>
7.如權(quán)利要求I所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一處理單元對(duì)所述第一邊緣和第二邊緣的處理為磨邊，所述第二處理單元對(duì)所述第三邊緣和第四邊緣的處理為磨邊。
8.如權(quán)利要求I所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣及第四邊緣均與所述第一表面相交。
9.如權(quán)利要求I所述的基板處理裝置，其特征在于所述第一作用點(diǎn)與所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣、第四邊緣之間的距離最短的為第一間距，第二作用點(diǎn)與所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣、第四邊緣之間的距離最短的為第二間距，第三作用點(diǎn)與所述第一邊緣、第二邊緣、第三邊緣、第四邊緣之間的距離最短的為第三間距，且所述第一間距、第二間距、第三間距相等。
專利摘要本實(shí)用新型涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板處理裝置。該基板處理裝置包括第一處理單元、第二處理單元及傳送單元，所述基板處理裝置用于處理一包括沿第一方向的第一邊緣和第二邊緣、沿第二方向的第三邊緣和第四邊緣、以及第一表面的基板，所述第一處理單元用于處理所述第一邊緣和第二邊緣，所述第二處理單元用于處理所述第三邊緣和第四邊緣，所述傳送單元至少包括第一模塊、第二模塊及第三模塊，所述第一模塊、第二模塊及第三模塊分別與所述基板的第一表面作用，分別形成第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)及第三作用點(diǎn)，且所述第一作用點(diǎn)、第二作用點(diǎn)及第三作用點(diǎn)中相鄰兩個(gè)之間具有相同的間距。
文檔編號(hào)B65G49/06GK202575410SQ20122017446
公開(kāi)日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月16日
發(fā)明者申屠江民, 許亮, 胡杰飛, 鄭偉慶, 樂(lè)衛(wèi)文, 張平, 施久林, 陶偉福 申請(qǐng)人:浙江金徠鍍膜有限公司