1.一種微納米粉體材料，包含：
基質(zhì)層：至少包含4個(gè)面的基質(zhì)材料；
顏色層：設(shè)置在前述基質(zhì)層和下述功能層之間的鍍層；
功能層：設(shè)置于顏色層外部的鍍層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述基質(zhì)層的基質(zhì)材料為人造玻璃、石英砂、搪瓷、三氧化二鋁、氮化鋁、立方氮化硼、碳化硅、方解石。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述基質(zhì)層的基質(zhì)材料粒徑為1～500μm，縱橫比為0.2～1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述顏色層的鍍層為金屬類鍍層、合金類鍍層，鍍層的厚度10nm～10μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述金屬類鍍層包括金、銀、銅、鐵、鋁、鉑、鉻、鎳、鋅、鈦、鋯、錫、鉛、鎂、銻、鈷、銦。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述合金類鍍層包括鎳-鉻、鎳-鐵、鐵-鈷、金-銀。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述顏色層的鍍層還包括氮化鈦、碳氮化鈦、氮化鉻、氮化鉻鋁、氮化鋁鈦、氮化鋁鈦硅、氮碳化鉻、白金鋁鈦、氮硅鈦化合物、碳化鈦、碳化鉻，碳氮化鉻，氮化鋯。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述功能層包含二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋁、氮化鈦、銀、鋁。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的微納米粉體材料，其特征在于：所述功能層厚度10nm～10μm。
10.一種制備權(quán)利要求1所述的微納米粉體材料的方法，包括如下步驟：
(1)將基質(zhì)材料進(jìn)行篩分，得到粒徑分布均勻的基質(zhì)材料；
(2)在基質(zhì)材料的外部以沉積的方式進(jìn)行顏色層鍍膜；
(3)顏色層鍍膜結(jié)束后，在顏色層鍍膜的外部以沉積的方式進(jìn)行功能層鍍膜，最終得到微納米粉體材料。