光配向膜及其制備方法、液晶顯示基板和裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明實施例提供了一種光配向膜及其制備方法、液晶顯示基板和裝置，屬于液晶顯示領域，以提高液晶顯示裝置的顯示效果。所述光配向膜的制備方法，包括：在基板上涂覆光配向材料膜層；對涂覆的所述光配向材料膜層進行預固化；對預固化后的所述光配向材料膜層用線偏振光照射，以形成具有配向功能的光配向材料膜層；對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜層發(fā)生固化反應的同時清除所述固化反應生成的反應副產(chǎn)物，得到所述光配向膜。本發(fā)明可用于光配向膜的生產(chǎn)中。
【專利說明】 光配向膜及其制備方法、液晶顯示基板和裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示領域，尤其涉及一種光配向膜及其制備方法、液晶顯示基板和裝置。
【背景技術】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,TFT-1XD)技術已經(jīng)成為目前液晶顯示的主流技術。在TFT-1XD的生產(chǎn)中，液晶分子的配向技術非常重要。目前在TFT IXD生產(chǎn)中最為廣泛運用的配向技術是磨擦配向(Rubbingalignment)法,其可以提供液晶分子較強的配向能力,但在磨刷的過程中，利用摩擦布接觸式的摩擦往往會產(chǎn)生靜電和顆粒(particle)的污染,不但會造成液晶元件的損壞,還會帶來各種各樣的MURA等畫質不良問題。
[0003]為了改善LCD的畫面品質和良率，很多廠家在嘗試使用光配向技術對液晶進行配向。圖1為目前的光配向工藝流程圖，步驟100為配向膜的涂覆工藝，步驟110為配向膜的固化和配向系統(tǒng)，即將步驟100之后的基板繼續(xù)預固化工藝(步驟111)，在對配向膜的溶劑進行加熱揮發(fā)后，進行主固化工藝(步驟112)，在徹底固化配向膜后，對預固化的基板進行偏振紫外光的照射(步驟113)，在對配向膜進行配向后，對配向后的配向膜進行2次固化(步驟114)，清除配向膜光反應后的雜質。
[0004]但是以上工藝技術中至少存在如下問題:在對配向膜進行主固化后，部分的反應副產(chǎn)物(尤其是分子量較大的副產(chǎn)物)不能通過加熱揮發(fā)或轉變的方式被去除，即在加熱后仍可能有分解產(chǎn)物殘存；而且，即使反應產(chǎn)物發(fā)生轉變，也不能保證其最終的反應產(chǎn)物就對液晶分子的取向完全不產(chǎn)生任何影響。所以，在現(xiàn)有的光配向膜中仍可能會殘存有影響液晶分子取向的雜質，從而導致液晶顯示裝置出現(xiàn)對比度低、漏光、殘像等不良。
【發(fā)明內容】
[0005]本發(fā)明實施例提供了一種光配向膜及其制備方法、液晶顯示基板和裝置，以提高液晶顯示裝置的顯示效果。
[0006]為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案:
[0007]本發(fā)明的一方面提供了一種光配向膜的制備方法，包括:
[0008]在基板上涂覆光配向材料膜層；
[0009]對涂覆的所述光配向材料膜層進行預固化；
[0010]對預固化后的所述光配向材料膜層用線偏振光照射，以形成具有配向功能的所述光配向材料膜層用線偏振光照射；
[0011]對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜層發(fā)生固化反應的同時清除所述固化反應生成的反應副產(chǎn)物，得到所述光配向膜。
[0012]可選的，在所述得到所述光配向膜之后，還包括
[0013]對所述光配向膜進行清洗，以進一步清除所述光配向膜中殘留的反應副產(chǎn)物。
[0014]可選的，所述方法在所述形成具有配向功能的光配向材料膜層后進一步包括:
[0015]對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行清洗，以清除在偏振光照射時形成的配向副產(chǎn)物；
[0016]對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜層發(fā)生固化反應的同時進一步清除所述固化反應生成的反應副產(chǎn)物。
[0017]可選的，所述光配向材料為由芳香族二胺與環(huán)丁烷四酸二酐及其衍生物反應生成的聚酰亞胺，其中，所述聚酰亞胺的重復單元具有如下結構:
[0018]
【權利要求】
1.一種光配向膜的制備方法，其特征在于，包括: 在基板上涂覆光配向材料膜層； 對涂覆的所述光配向材料膜層進行預固化； 對預固化后的所述光配向材料膜層用線偏振光照射，以形成具有配向功能的光配向材料膜層； 對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜層發(fā)生固化反應的同時清除所述固化反應生成的反應副產(chǎn)物，得到所述光配向膜。
2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述得到所述光配向膜之后，還包括對所述光配向膜進行清洗，以進一步清除所述光配向膜中殘留的反應副產(chǎn)物。
3.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述方法在所述形成具有配向功能的光配向材料膜層后進一步包括: 對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行清洗，以清除在偏振光照射時形成的配向副產(chǎn)物； 對所述具有配向功能的光配向材料膜層進行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜層發(fā)生固化反應的同時進一步清除所述固化反應生成的反應副產(chǎn)物。
4.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光配向材料為由芳香族二胺與環(huán)丁烷四酸二酐及其衍生物反應生成的聚酰亞胺，其中，所述聚酰亞胺的重復單元具有如下結構:
其中，A為所述芳香族二胺中的芳香族基團，R5> R6> R7、R8均為甲基。
5.根據(jù)權利要求4所述的制備方法，其特征在于， 所述芳香族二胺選自通式(1)-(15)中的至少一種:
其中，1^、1?2、1?3、1?4獨立的選自H、F、C1~C6烷基、Cl~C6烷氧基、乙烯基或乙炔基中的一種； 其中，所述乙烯基結構式為-(CH2)m-CH = CH2, m為O、I或2， 所述乙炔基結構式為-(CH2)n-CH = CH，η為0、1或2， 通式(4)中的X為選自-S-、-CO-、-NH-中任意一種的結合基。
6.根據(jù)權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述環(huán)丁烷四酸二酐及其衍生物的通式(16)如下:
其中，R5、R6、R7、R8獨立的選自H、F、Cl~C6烷基、Cl~C6烷氧基。
7.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光配向膜包含光降解型配向膜、光異構型配向膜、光聚合型配向膜中的一種或多種。
8.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述進行預固化的步驟溫度為50-120°C，時間為 0.5-10 分鐘。
9.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述進行主固化的步驟溫度為180-300°C，時間為5分鐘-2小時。
10.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述線偏振光的波長選自254nm、313nm和365nm中的一種或幾種的組合。
11.根據(jù)權利要求2或3所述的制備方法，其特征在于，所述清洗采用超聲波清洗、大氣壓等離子清洗、浸泡清洗、噴淋清洗中的一種或多種清洗方法。
12.根據(jù)權利要求2或3所述的制備方法，其特征在于，所述清洗所使用的清洗劑包括臭氧水溶液、氟氣水溶液、氯氣水溶液、溴氣水溶液、碘水溶液、過氧化氫、水、乙醇、異丙醇、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一種或多種。
13.一種根據(jù)權利要求1-12任一項所述的光配向膜的制備方法制備得到的光配向膜。
14.一種液晶顯示基板，其特征在于，包括根據(jù)權利要求1-12任一項所述的光配向膜的制備方法制備得到的光配向膜。
15.一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括權利要求14所述的液晶顯示基板。
【文檔編號】C09K19/56GK104166274SQ201410351368
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2014年7月22日 優(yōu)先權日:2014年7月22日
【發(fā)明者】楊發(fā)祿 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司