摻雜的氧化錫的應用及聚合物組合物和成型體及油墨組合物和表面金屬化方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了摻雜元素含有鈮的摻雜的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣性基材表面選擇性金屬化的化學鍍促進劑的應用。本發(fā)明還提供了含有所述摻雜的氧化錫的聚合物組合物、聚合物成型體、油墨組合物以及絕緣性基材表面選擇性金屬化方法。所述摻雜的氧化錫的顏色淺，將其預置在例如塑料的基材中時，不會對基材本身的顏色產生明顯干擾。所述摻雜的氧化錫具有較強的促進化學鍍的能力，以其作為化學鍍促進劑進行化學鍍時，能夠以較高的鍍覆速度獲得連續(xù)完整的金屬鍍層，同時金屬鍍層對基材具有較高的附著力。
【專利說明】摻雜的氧化錫的應用及聚合物組合物和成型體及油墨組合 物和表面金屬化方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及摻雜的氧化錫作為化學鍍促進劑的應用，本發(fā)明還涉及一種含有所述 摻雜的氧化錫的聚合物組合物、由該組合物形成的聚合物成型體及其在將聚合物表面通過 化學鍍進行選擇性金屬化中的應用，本發(fā)明又涉及一種含有所述摻雜的氧化錫的油墨組合 物，本發(fā)明進一步涉及一種絕緣性基材表面金屬化方法。
【背景技術】
[0002] 在如塑料的絕緣性基材表面選擇性形成金屬層，將其作為電、磁信號傳導的通路， 廣泛用于汽車、計算機和通訊等領域?？梢圆捎枚喾N方法在如塑料的絕緣性基材表面形成 金屬層。
[0003] 例如，US5599592公開了一種將含有塑料和金屬氧化物顆粒的塑料復合材料片表 面金屬化的方法，該方法包括：（1)用由準分子激光產生的光對復合材料片的表面進行照 射；（2)將經照射的復合材料片置于化學鍍液中進行化學鍍，以在經照射的表面形成金屬 層；（3)將表面形成有金屬層的復合材料片進行熱處理，以使鍍層中的金屬擴散進入復合 材料片中。所述金屬氧化物可以為銻的氧化物、鋁的氧化物、鐵的氧化物、鋅的氧化物或錫 的氧化物。
[0004] 將金屬氧化物預置在如塑料的絕緣性基體中，經激光照射后進行化學鍍，從而將 絕緣性基材表面選擇性金屬化時，在金屬氧化物的顏色較深時，會影響絕緣性基材的顏色。 但是，將如氧化錫的顏色較淺的金屬氧化物預置在絕緣性基材中時，化學鍍的鍍覆速度不 高，有時還存在漏鍍現(xiàn)象，導致無法形成連續(xù)完整的金屬鍍層。
【發(fā)明內容】
[0005] 如上所述，現(xiàn)有的通過化學鍍在例如塑料的絕緣性基材表面形成金屬層的方法采 用淺色金屬氧化物作為化學鍍促進劑時，化學鍍的鍍覆速度不高，并且易于出現(xiàn)漏鍍現(xiàn)象 的技術問題。
[0006] 本發(fā)明的發(fā)明人經過研究發(fā)現(xiàn)，將一種摻雜元素含有鈮的氧化錫預置在例如聚合 物的絕緣性基材中時，不會或基本不會對基材的顏色產生干擾；更重要的是，這種摻雜元素 含有鈮的氧化錫具有較好的促進化學鍍的能力，作為化學鍍促進劑使用時，能獲得較高的 鍍覆速度，并且形成的金屬鍍層連續(xù)完整，同時形成的金屬鍍層對基材具有較高的附著力。 在此基礎上完成了本發(fā)明。
[0007] 根據本發(fā)明的第一個方面，本發(fā)明提供了摻雜的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣性 基材表面選擇性金屬化中的化學鍍促進劑的應用，其中，所述摻雜的氧化錫中的摻雜元素 含有鈮，所述摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中，I；坐標在70-100的范圍內，a坐標在-5 至5的范圍內，b坐標在-5至5的范圍內。
[0008] 根據本發(fā)明的第二個方面，本發(fā)明提供了一種聚合物組合物，該聚合物組合物含 有聚合物和摻雜的氧化錫，相對于100重量份聚合物，所述摻雜的氧化錫的含量為1-40重 量份，其中，所述摻雜的氧化錫中的摻雜元素含有鈮，所述摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空 間中，I/坐標在70-100的范圍內，a坐標在-5至5的范圍內，b坐標在-5至5的范圍內。
[0009] 根據本發(fā)明的第三個方面，本發(fā)明提供了一種聚合物成型體，該聚合物成型體的 至少部分表面由本發(fā)明提供的聚合物組合物形成。
[0010] 根據本發(fā)明的第四個方面，本發(fā)明提供了所述聚合物組合物或者所述聚合物成型 體在將聚合物基材表面通過化學鍍進行選擇性金屬化中的應用。
[0011] 根據本發(fā)明的第五個方面，本發(fā)明提供了一種油墨組合物，該油墨組合物含有摻 雜的氧化錫和連接料，其中，所述摻雜的氧化錫中的摻雜元素含有鈮，所述摻雜的氧化錫在 CIELAB顏色空間中，L*坐標在70-100的范圍內，a坐標在-5至5的范圍內，b坐標在-5至 5的范圍內。
[0012] 根據本發(fā)明的第六個方面，本發(fā)明提供了一種絕緣性基材表面選擇性金屬化方 法，該方法包括以下步驟：
[0013] 將本發(fā)明提供的油墨組合物中的各組分混合均勻，將得到的混合物施用于絕緣性 基材的需要進行金屬化的表面，以形成油墨層；以及
[0014] 將具有所述油墨層的絕緣性基材進行化學鍍，以在所述油墨層上鍍覆至少一層金 屬層。
[0015] 本發(fā)明將摻雜元素含有鈮的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣性基材表面選擇性金 屬化中的化學鍍促進劑，該摻雜元素含有鈮的氧化錫顏色淺，在CIELAB顏色空間中，I；坐標 一般在70-100的范圍內，a坐標一般在_5至5的范圍內，b坐標一般在_5至5的范圍內， 將其預置在例如塑料的基材中時，不會或基本不會對基材本身的顏色產生明顯干擾。
[0016] 并且，本發(fā)明所用的摻雜的氧化錫具有較強的促進化學鍍的能力，無需還原成金 屬單質即可作為化學鍍促進劑，使用方法靈活，不僅可以將其預置在例如聚合物的絕緣性 基材中，而且能制成油墨直接涂布或打印在基材的需要進行化學鍍的表面。更重要的是，在 進行化學鍍時，能夠以較高的鍍覆速度獲得連續(xù)完整的金屬鍍層，同時金屬鍍層對基材具 有較高的附著力，提高了生產效率和鍍件的質量。
【具體實施方式】
[0017] 根據本發(fā)明的第一個方面，本發(fā)明提供了摻雜的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣性 基材表面選擇性金屬化中的化學鍍促進劑的應用。所述化學鍍促進劑是指能夠促使原本無 法通過化學鍍形成連續(xù)完整鍍層的基材進行化學鍍，并形成連續(xù)完整的金屬鍍層的物質。
[0018] 本發(fā)明中，所述摻雜的氧化錫中的摻雜元素含有鈮。以所述摻雜的氧化錫的總量 為基準，所述氧化錫的含量為70-99. 9重量％，優(yōu)選為80-99重量％，更優(yōu)選為90-96重 量％;以Nb2O5計的鈮的含量為0. 1-30重量％，優(yōu)選為1-20重量％，更優(yōu)選為4-10重量％。 所述摻雜的氧化錫的組成可以通過常用的各種分析測試方法測定，例如電感耦合等離子體 發(fā)射光譜法（ICP)來測定；也可以由制備該摻雜的氧化錫時的投料量確定。
[0019] 所述摻雜的氧化錫的體積平均粒徑一般可以為IOnm至10 μ m，優(yōu)選為50nm至 5 μ m，更優(yōu)選為80nm至2. 5 μ m。還可以根據所述摻雜的氧化錫的具體應用場合對粒徑進行 優(yōu)化，例如：在將摻雜的氧化錫預置在例如聚合物的基材中時，所述摻雜的氧化錫的體積平 均粒徑優(yōu)選為IOOnm至ΙΟμπι，更優(yōu)選為500nm至2. 5μηι ;在將摻雜的氧化錫用于制備油墨 組合物時，所述摻雜的氧化錫的體積平均粒徑優(yōu)選為l-800nm，更優(yōu)選為10-500nm，進一步 優(yōu)選為50-300nm。所述體積平均粒徑可以采用激光粒度儀測定。本發(fā)明中，數值范圍均包 括兩個端點值。
[0020] 所述摻雜的氧化錫的顏色淺，在CIELAB顏色空間中，I/坐標一般在70-100的范圍 內，a坐標一般在_5至5的范圍內，b坐標一般在_5至5的范圍內。優(yōu)選地，所述摻雜的氧 化錫在CIELAB顏色空間中，1/坐標在80-90的范圍內，a坐標在-5至2的范圍內，b坐標 在2至4的范圍內，CIBLAB值在上述范圍內的摻雜的氧化錫，一方面顏色更淺，另一方面仍 然具有良好的促進化學鍍的能力，在進行化學鍍時，能夠以較高的鍍覆速度形成對基材具 有較高附著力的金屬鍍層。
[0021] 所述摻雜的氧化錫的吸光能力強，在1064nm波長下的光反射率一般不高于60%， 甚至能夠達到40%以下，如20-30%。本發(fā)明中，光反射率參照GJB 5023. 1-2003中規(guī)定的 方法測定。
[0022] 可以采用包括以下步驟的方法制備所述摻雜的氧化錫：在氧化性氣氛中，將一種 粉體混合物進行焙燒，所述粉體混合物含有氧化錫和至少一種含摻雜元素的化合物，所述 摻雜元素含有鈮。
[0023] 所述含摻雜元素的化合物可以為含摻雜元素的氧化物（如鈮的氧化物），例如五 氧化二鈮。所述在焙燒條件下能夠形成所述氧化物的前身物可以為各種通過焙燒能夠形成 所述氧化物的化合物，例如：氫氧化物（如氫氧化鈮）和/或凝膠（如含鈮的凝膠）。在所 述粉體混合物采用下文所述的半干法研磨或濕法研磨來制備時，所述前身物為不溶于所述 半干法研磨和濕法研磨中所用分散劑的化合物。
[0024] 所述粉體混合物中氧化錫和含摻雜元素的化合物的含量可以根據預期的摻雜的 氧化錫中摻雜元素的含量進行選擇。一般地，所述粉體混合物的組成使得最終得到的摻雜 的氧化錫中，氧化錫的含量可以為70-99. 9重量％，優(yōu)選為80-99重量％，更優(yōu)選為90-96 重量％ ;以Nb2O5計的鈮的含量可以為0. 1-30重量％，優(yōu)選為1-20重量％，更優(yōu)選為4-10 Sfi % O
[0025] 本發(fā)明對于制備所述粉體混合物的方法沒有特別限定，可以為常規(guī)選擇。例如：可 以將氧化錫和含摻雜元素的化合物進行研磨，從而得到所述粉體混合物。所述研磨可以為 干法研磨，也可以為濕法研磨，還可以為半干法研磨。所述半干法研磨和濕法研磨的分散劑 可以為研磨工藝中常用的各種分散劑。具體地，所述分散劑可以為水和/或(^_(： 5的醇（如 乙醇）。分散劑的用量可以為常規(guī)選擇，沒有特別限定。在采用濕法研磨或半干法研磨時， 還包括將研磨得到的混合物進行干燥，以得到所述粉體混合物。所述干燥可以為常規(guī)選擇。 具體地，所述干燥的溫度可以為40_120°C，可以在含氧氣氛中進行，也可以在非活性氣氛中 進行。本文中，所述含氧氣氛例如可以為空氣氣氛，或者將氧氣與非活性氣體混合形成的氣 氛。所述非活性氣氛是指不與粉體混合物中的各組分或者生成的金屬化合物發(fā)生化學相互 作用的氣體，例如可以為零族元素氣體或者氮氣，所述零族元素氣體可以為氬氣。
[0026] 所述粉體混合物的粒徑沒有特別限定，可以為常規(guī)選擇。一般地，所述粉體混合物 的體積平均粒徑可以為50nm至10 μ m，優(yōu)選為500nm至5 μ m。
[0027] 所述焙燒的溫度可以為500-1800°C，優(yōu)選為600-1500°C。優(yōu)選地，所述焙燒的溫 度為不高于1300°C，如此得到的摻雜的氧化錫具有與作為原料的粉體混合物相當的淺顏 色。從進一步提高得到的摻雜的氧化錫的促進化學鍍能力的角度出發(fā)，所述焙燒的溫度優(yōu) 選為800°C以上，更優(yōu)選為1000°C以上。根據本發(fā)明，在焙燒的溫度為1000-1300°C時，焙燒 得到的摻雜的氧化錫不僅具有與作為原料的粉體混合物相當的淺顏色，而且具有良好的促 進化學鍍的能力。所述焙燒的時間可以根據焙燒的溫度進行適當的選擇，一般可以為1-30 小時，優(yōu)選為4-10小時。
[0028] 所述焙燒在氧化性氣氛中進行。所述氧化性氣氛一般為含氧氣氛。所述含氧氣氛 可以為由純氧氣形成的氣氛。所述含氧氣氛也可以為由氧氣與非活性氣體形成的氣氛，所 述非活性氣體是指不會與進行焙燒的原料以及焙燒生成物發(fā)生化學相互作用的氣體，其具 體實例可以包括但不限于氮氣和零族元素氣體（如氬氣），由氧氣與非活性氣體形成的氣 氛中，氧氣的含量優(yōu)選為70體積％以上；所述含氧氣氛還可以為空氣氣氛。
[0029] 焙燒得到的產物可以進一步進行研磨，以使其粒徑滿足具體使用場合的要求。一 般地，研磨的條件使得研磨后的焙燒產物的體積平均粒徑為IOnm至10 μ m，優(yōu)選為50nm至 5 μ m，更優(yōu)選為80nm至2. 5 μ m。所述研磨可以為干法研磨，也可以為濕法研磨，還可以為半 干法研磨。所述半干法研磨和濕法研磨的分散劑可以為研磨工藝中常用的各種分散劑。具 體地，所述分散劑可以為水和/或C 1-C5的醇（如乙醇）。分散劑的用量可以為常規(guī)選擇， 沒有特別限定。
[0030] 根據本發(fā)明，所述摻雜的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣性基材表面選擇性金屬化 中的化學鍍促進劑的應用方式可以根據具體的應用場合進行選擇。以下示例性的列舉兩種 實施方式，但是本領域技術人員可以理解的是，所述摻雜的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣 性基材選擇性金屬化中的化學鍍促進劑的應用方式并不僅限于以下列舉的兩種實施方式。
[0031] 在一種實施方式中，可以將所述摻雜的氧化錫分散在絕緣性基材（如聚合物基 材）中，用能量束照射需要金屬化的表面以裸露出摻雜的氧化錫后，進行化學鍍。在另一種 實施方式中，可以將所述摻雜的氧化錫制成油墨，將所述油墨涂布在需要進行金屬化的絕 緣性基材表面，然后進行化學鍍。
[0032] 根據本發(fā)明的第二個方面，本發(fā)明提供了一種聚合物組合物，該聚合物組合物含 有聚合物和摻雜的氧化錫。所述摻雜的氧化錫及其制備方法在前文已經進行了詳細的描 述，此處不再詳述。
[0033] 根據本發(fā)明的聚合物組合物中，相對于100重量份所述聚合物，所述摻雜的氧化 錫的含量可以為1-40重量份，優(yōu)選為1-30重量份，更優(yōu)選為1-20重量份，如1-10重量份。 根據本發(fā)明的摻雜的氧化錫具有較強的促進化學鍍的能力，即使在更低的含量下，如相對 于100重量份所述聚合物，所述摻雜的氧化錫的含量為1-5重量份，甚至為1-3重量份，由 該聚合物組合物形成的聚合物成型體經能量束照射剝離表層聚合物后，仍然能夠進行化學 鍍，而且能夠獲得較高的鍍覆速度，形成完整連續(xù)且對基材具有較高附著力的鍍層，另外聚 合物成型體還具有較高的力學性能。
[0034] 本發(fā)明對于所述聚合物組合物中聚合物的種類沒有特別限定，可以根據具體使用 要求進行選擇。一般地，所述聚合物可以為熱塑性聚合物，也可以為熱固性聚合物。所述聚 合物可以為塑料，也可以為橡膠，還可以為纖維。所述聚合物的具體實例可以包括但不限 于：聚烯烴（如聚苯乙烯、聚丙烯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚（丙烯腈-丁二烯-苯乙烯））、 聚碳酸酯、聚酯（如聚對苯二甲酸環(huán)己烷對二甲醇酯、聚間苯二甲酸二烯丙酯、聚對苯二甲 酸二烯丙酯、聚萘二酸丁二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚對苯二甲酸丁二醇酯）、聚酰 胺（如聚己二酰己二胺、聚壬二酰己二胺、聚丁二酰己二胺、聚十二烷二酰己二胺、聚癸二 酰己二胺、聚癸二酰癸二胺、聚十一酰胺、聚十二酰胺、聚辛酰胺、聚9-氨基壬酸、聚己內酰 胺、聚對苯二甲酰苯二胺、聚間苯二甲酰己二胺、聚對苯二甲酰己二胺和聚對苯二甲酰壬二 胺）、聚芳醚、聚醚酰亞胺、聚碳酸酯/(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯）合金、聚苯醚、聚苯硫醚、 聚酰亞胺、聚砜、聚醚醚酮、聚苯并咪唑、酚醛樹脂、脲醛樹脂、三聚氰胺-甲醛樹脂、環(huán)氧樹 月旨、醇酸樹脂和聚氨酯中的一種或兩種以上。
[0035] 根據具體使用場合，所述聚合物組合物還可以含有至少一種助劑，如填料、抗氧 齊U、光穩(wěn)定劑和潤滑劑，以改善最終制備的聚合物制品的性能、賦予最終制備的聚合物制品 以新的性能和/或提高聚合物組合物的加工性能。所述助劑優(yōu)選為顏色淺的助劑。所述助 劑的含量可以根據其種類和具體使用要求進行適當的選擇，沒有特別限定。
[0036] 所述填料可以是對激光不起任何物理或者化學作用的填料，例如，滑石粉和碳酸 鈣。玻璃纖維雖然對激光不敏感，但是加入玻璃纖維可以大大加深激光活化后塑料基體凹 陷的深度，有利于化學鍍銅中銅的粘附。所述無機填料還可以是對激光起到一定作用的無 機填料，例如，所述填料還可以為玻璃微珠、硫酸鈣、硫酸鋇、二氧化鈦、珠光粉、硅灰石、硅 藻土、高嶺土、陶土、云母、油頁巖灰、硅酸鋁、氧化鋁、二氧化硅、滑石粉和氧化鋅中的一種 或多種。
[0037] 所述抗氧劑可以提高由本發(fā)明的聚合物組合物制備的聚合物制品的抗氧化性能， 從而提高制品的使用壽命。所述抗氧劑可以為聚合物領域中常用的各種抗氧劑，例如可以 含有主抗氧劑和/或輔助抗氧劑。所述主抗氧劑與所述輔助抗氧劑之間的相對用量可以根 據種類進行適當的選擇。一般地，所述主抗氧劑與所述輔助抗氧劑的重量比可以為1 :1_4。 所述主抗氧劑可以為受阻酚型抗氧劑，其具體實例可以包括但不限于抗氧劑1098和抗氧 劑1010,其中，抗氧劑1098的主要成分為Ν，Ν' -雙（3-(3, 5-二叔丁基-4-羥基苯基）丙 酰基）己二胺，抗氧劑1010的主要成分為四[3-(3, 5-二叔丁基-4-羥基苯基）丙酸]季 戊四醇。所述輔助抗氧劑可以為亞磷酸酯型抗氧劑，其具體實例可以包括但不限于抗氧劑 168,其主要成分為三（2, 4-二叔丁基苯基）亞磷酸酯。
[0038] 所述光穩(wěn)定劑可以為公知的各種光穩(wěn)定劑，例如受阻胺型光穩(wěn)定劑，其具體實例 可以包括但不限于雙（2, 2, 6, 6-四甲基-4-哌啶基）癸二酸酯。
[0039] 所述潤滑劑可以為各種能夠改善聚合物熔體的流動性的物質，例如可以為選自乙 烯/醋酸乙烯的共聚蠟（EVA蠟）、聚乙烯蠟（PE蠟）以及硬脂酸鹽中的一種或兩種以上。
[0040] 所述助劑的含量可以根據助劑的功能以及種類進行適當的選擇。一般地，相對 于100重量份所述聚合物，所述填料的含量可以為1-40重量份，所述抗氧劑的含量可以 為0. 1-10重量份，所述光穩(wěn)定劑的含量可以為0. 1-10重量份，所述潤滑劑的含量可以為 0. 1-10重量份。
[0041] 根據本發(fā)明的第三個方面,本發(fā)明提供了一種聚合物成型體,該聚合物成型體的 至少部分表面由本發(fā)明提供的聚合物組合物形成。
[0042] 本文中，所述表面是指聚合物成型體裸露在外的面，不僅包括成型體的外表面，如 上、下、前、后、左和右表面，還包括通過將成型體進行加工形成的內表面，例如：通過將成型 體進行鉆孔而形成的孔表面。
[0043] 用于形成所述聚合物成型體的聚合物組合物中的摻雜的氧化錫的顏色淺，而且具 有化學鍍促進作用，因此所述聚合物成型體的需要通過化學鍍形成金屬鍍層的表面由所述 聚合物組合物形成，這樣由所述聚合物組合物形成的表面經能量束照射剝離表面聚合物形 成圖案之后，可以通過化學鍍在表面形成金屬層圖案。
[0044] 可以僅聚合物成型體的需要形成金屬鍍層的表面由所述聚合物組合物形成，聚合 物成型體也可以整體均由所述聚合物組合物形成，即所述聚合物成型體由所述聚合物組合 物形成。在聚合物成型體的厚度較大時，從降低成本的角度出發(fā)，可以僅聚合物成型體的需 要形成金屬鍍層的表面由所述聚合物組合物形成；在聚合物成型體的厚度不厚時，可以整 體均由所述聚合物組合物形成。
[0045] 所述聚合物成型體的具體尺寸可以根據預期的使用場合進行選擇，沒有特別限 定。所述聚合物成型體根據具體需要也可以具有各種形狀。
[0046] 所述聚合物成型體可以采用常規(guī)方法制備，例如擠出成型工藝、注塑成型工藝。
[0047] 根據本發(fā)明的第四個方面，本發(fā)明提供了所述聚合物組合物或者所述聚合物成型 體在將聚合物表面通過化學鍍進行選擇性金屬化中的應用。
[0048] 在一種實施方式中，可以用所述聚合物組合物形成聚合物基材或聚合物基材的需 要進行金屬化的表面，或者將所述聚合物成型體作為聚合物基材，用能量束照射聚合物基 材的需要進行金屬化的表面，使被照射的表面氣化；將照射后的聚合物基材進行化學鍍，從 而將聚合物基材表面選擇性金屬化。
[0049] 所述能量束可以為激光、電子束或離子束，優(yōu)選為激光。所述能量束照射的條件以 能夠使得被照射的聚合物基材表面氣化，裸露出摻雜的氧化錫為準。具體地，在所述能量束 為激光時，所述激光的波長可以為157-10600nm，功率可以為1-100W;在所述能量束為電子 束時，所述電子束的功率密度可以為l〇-l〇 nW/cm2 ;在所述能量束為離子束時，所述離子束 的能量可以為10_106eV。從進一步提高化學鍍形成的圖案的精度的角度出發(fā)，所述能量束 優(yōu)選為激光。由于所述聚合物基材含有本發(fā)明提供的摻雜的氧化錫，該摻雜的氧化錫對能 量束具有更高的吸收能力，因此即使使用能量更低的能量束進行照射，也能使聚合物基材 表面氣化剝離，例如所述能量束優(yōu)選為波長為l〇64-10600nm且功率為3-50W的激光，更優(yōu) 選為波長為l〇64nm且功率為3-40W (更優(yōu)選為5-10W)的激光。
[0050] 對照射后的聚合物基材進行化學鍍的方法已經為本領域技術人員所公知。例如， 進行化學鍍銅時，該方法可以包括將照射后的聚合物基材與銅鍍液接觸，所述銅鍍液含有 銅鹽和還原劑，pH值為12-13,所述還原劑能夠將銅鹽中銅離子還原為銅單質，例如所述還 原劑可以為乙醛酸、肼和次亞磷酸鈉中的一種或多種。
[0051] 化學鍍形成的金屬鍍層的厚度可以根據具體使用要求而定，沒有特別限定，一般 可以為〇· 1_1〇 U m。
[0052] 根據具體使用要求，所述金屬層可以具有各種形狀。例如：在最終制備的聚合物制 品用于制作線路板時，所述金屬層可以形成線路圖案。
[0053] 在進行化學鍍之后，還可以接著進行電鍍或者再進行一次或多次化學鍍，以進一 步增加鍍層的厚度或者在化學鍍層上形成其它金屬鍍層。例如，在化學鍍銅結束后，可以再 化學鍍一層鎳來防止銅鍍層表面被氧化。
[0054] 根據本發(fā)明的第五個方面，本發(fā)明提供了一種油墨組合物，所述油墨組合物含有 摻雜的氧化錫和連接料，其中，所述摻雜的氧化錫中的摻雜元素含有鈮，所述摻雜的氧化錫 在CIELAB顏色空間中，I；坐標在70-100的范圍內，a坐標在-5至5的范圍內，b坐標在-5 至5的范圍內。所述摻雜的氧化錫及其制備方法在前文已經進行了詳細的說明，此處在不 再詳述。所述摻雜的氧化錫的體積平均粒徑優(yōu)選為l-800nm，更優(yōu)選為10-500nm，進一步優(yōu) 選為 50-300nm。
[0055] 將所述油墨組合物施用于絕緣性基材表面時，所述連接料能夠起到將摻雜的氧化 錫均勻分散在所述絕緣性基材的表面，并在所述絕緣性基材的表面形成具有一定強度且對 所述絕緣性基材具有一定附著力的膜層的作用。
[0056] 本發(fā)明對于所述連接料的種類沒有特別限定，只要所選用的連接料能夠起到上述 作用即可。優(yōu)選地，所述連接料為有機粘結劑。更優(yōu)選地，所述連接料為乙酸纖維素、聚丙 烯酸酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮醛、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯 吡咯烷酮和聚膦酸中的一種或兩種以上。
[0057] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述連接料例如可以為商購自美國伊士曼公司的CAB 系列乙酸丁酯纖維素（例如：牌號為CAB381-0. 5、CAB381-20、CAB551-0. 2和CAB381-2的 乙酸丁酯纖維素）、商購自日本Kuraray公司的Mowital系列聚乙烯醇縮丁醛（例如：牌號 為 Mowital B 60T、Mowital B 75H 和 Mowital B 60H 聚乙烯醇縮丁醒）。
[0058] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述連接料與摻雜的氧化錫之間的相對比例以能夠將 所述摻雜的氧化錫均勻分散在所述絕緣性基材的表面，形成具有一定強度且對所述絕緣性 基材具有一定附著力的油墨層，并能夠在所述油墨層上鍍覆金屬層即可。一般地，根據本發(fā) 明的油墨組合物，相對于100重量份摻雜的氧化錫，所述連接料的含量可以為1-60重量份， 優(yōu)選為30-60重量份。
[0059] 根據本發(fā)明的油墨組合物，從進一步提高所述摻雜的氧化錫在所述連接料中的分 散均勻性并在所述絕緣性基材的表面形成更為均勻的膜層的角度出發(fā)，所述油墨組合物優(yōu) 選還含有溶劑。本發(fā)明的油墨組合物對于所述溶劑的種類沒有特別限定，可以為本領域的 常規(guī)選擇。優(yōu)選地，所述溶劑為水、C 1-C12的醇、C3-C12的酮、C6-C 12的芳烴、C1-C12的鹵代烷 烴和C2-C 12的鹵代烯烴中的一種或兩種以上。具體地，所述溶劑可以為甲醇、乙醇、正丙醇、 異丙醇、正丁醇、叔丁醇、正戊醇、正己醇、正庚醇、正辛醇、丙酮、2-正戊酮、2-正丁酮、3-甲 基-2-戊酮、2, 3-丁二酮、2, 3-戊二酮、2, 5-己二酮、1，3-環(huán)己二酮、甲苯、二甲苯和三氯乙 烯中的一種或兩種以上。
[0060] 本發(fā)明的油墨組合物對于溶劑的用量沒有特別限定，可以為本領域的常規(guī)用量。 在確保所述摻雜的氧化錫能夠均勻地分散于所述連接料中并在所述絕緣性基材的表面均 勻地形成膜層的前提下，從降低溶劑用量的角度出發(fā)，相對于100重量份摻雜的氧化錫，所 述溶劑的含量可以為20-250重量份。
[0061] 根據本發(fā)明的油墨組合物根據其具體應用場合還可以含有各種油墨領域常用的 助劑，以賦予本發(fā)明的油墨組合物以特定的性能或功能。優(yōu)選地，所述助劑含有選自分散 齊IJ、消泡劑、流平劑和粘度調節(jié)劑中的一種或兩種以上。所述助劑的用量可以為本領域的常 規(guī)選擇。優(yōu)選地，相對于100重量份摻雜的氧化錫，所述助劑的總量可以為〇. 1-20重量份， 優(yōu)選為0. 5-10重量份。
[0062] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述分散劑用于縮短將摻雜的氧化錫分散在連接料及 任選的溶劑中的時間，并提高摻雜的氧化錫在所述連接料和任選的溶劑中的分散穩(wěn)定性。 所述分散劑可以為本領域常用的各種能夠實現(xiàn)上述功能的物質。例如，所述分散劑可以為 脂肪族胺系分散劑、醇胺系分散劑、環(huán)狀不飽和胺系分散劑、脂肪酸系分散劑、脂肪族酰胺 系分散劑、酯系分散劑、石蠟系分散劑、磷酸酯系分散劑、聚合物系分散劑（例如：聚丙烯酸 酯系分散劑和聚酯系分散劑）和有機膦系分散劑。
[0063] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述分散劑可以為本領域常用的各種能夠商購得到 的分散劑。具體地，所述分散劑可以為以下分散劑中的一種或兩種以上：商購自德國BYK 公司的牌號為 ANTI-TERRA-U、ANTI-TERRA-U 80、ANTI-TERRA-U 100、DISPERBYK-101、 DISPERBYK-130、BYK-220S、LACTIMON、LACTIMON-WS、BYK-W 966、DISPERBYK、BYK-154、 BYK-9076、 DISPERBYK-108、 DISPERBYK-109、 DISPERBYK-110、 DISPERBYK-102、 DISPERBYK-111、DISPERBYK-180、DISPERBYK-106、DISPERBYK-187、DISPERBYK-181、 DISPERBYK-140、DISPERBYK-142、DISPERBYK-145、DISPERBYK-115、DISPERBYK-160、 DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、 DISPERBYK-166、DISPERBYK-167、DISPERBYK-182、DISPERBYK-183、DISPERBYK-184、 DISPERBYK-185、DISPERBYK-168、DISPERBYK-169、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、 DISPERBYK-174、 DISPERBYK-190、 DISPERBYK-2150、 BYK-9077、 DISPERBYK-112、 DISPERBYK-116、DISPERBYK-191、DISPERBYK-192、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001、 DISPERBYK-2010、DISPERBYK-2020、DISPERBYK-2025、DISPERBYK-2050 和 DISPERBYK-2070 的分散劑；商購自荷蘭Akzo Nobel公司的牌號為PH0SPH0LAN PS-236的分散劑；商購自美 國Witco化學公司的牌號為PS-21A的分散劑；商購自英國Croda公司的Hypermer KD系列 分散劑和Zephrym PD系列分散劑。
[0064] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述分散劑可以為常規(guī)用量。一般地，相對于100重量 份摻雜的氧化錫，所述分散劑的含量可以為0. 1-4重量份。
[0065] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述消泡劑可以為本領域常用的各種能夠抑制泡沫形 成、破壞形成的泡沫或者將形成的泡沫從體系中脫出的物質。例如，所述消泡劑可以為有機 聚硅氧烷系消泡劑、聚醚系消泡劑和高級醇系消泡劑。優(yōu)選地，所述消泡劑為有機聚硅氧烷 系消泡劑。
[0066] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述消泡劑可以為本領域常用的各種能夠商購得到 的消泡劑。具體地，所述消泡劑可以為商購自德國BYK公司的牌號為BYK-051、BYK-052、 BYK-053、BYK-055、BYK-057、BYK-020、BYK-065、BYK-066N、BYK-067A、BYK-070、BYK-080A、 BYK-088、BYK-141、BYK-019、BYK-021、BYK-022、BYK-023、BYK-024、BYK-025、BYK-028、 BYK-OlI、BYK-031、BYK-032、BYK-033、BYK-034、BYK-035、BYK-036、BYK-037、BYK-038、 BYK-045、BYK-A530、BYK-A555、BYK-071、BYK-060、BYK-018、BYK-044 和 BYK-094 的消泡劑 中的一種或兩種以上。
[0067] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述消泡劑的量可以為本領域的常規(guī)用量。優(yōu)選地，相 對于100重量份摻雜的氧化錫，所述消泡劑的含量可以為0. 1-3重量份。
[0068] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述流平劑用于促使油墨在干燥成膜過程中形成一個 更為平整、光滑且均勻的膜層。本發(fā)明對于所述流平劑的種類沒有特別限定，可以為本領域 常用的能夠實現(xiàn)上述功能的物質。例如，所述流平劑可以為聚丙烯酸酯系流平劑、聚二甲基 硅氧烷系流平劑、聚甲基苯基硅氧烷系流平劑和含氟表面活性劑中的一種或兩種以上。
[0069] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述流平劑可以為本領域常用的各種能夠商購得到 的流平劑。例如，所述流平劑可以為商購自德國BYK公司的牌號為BYK-333、BYK-306、 BYK-358N、BYK-310、BYK-354和BYK-356流平劑中的一種或兩種以上。
[0070] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述流平劑的用量可以為本領域的常規(guī)用量，沒有特 別限定。優(yōu)選地，相對于100重量份摻雜的氧化錫，所述流平劑的含量可以為0.3-4重量份。
[0071] 根據本發(fā)明的油墨組合物，所述粘性調節(jié)劑用于調節(jié)油墨組合物的粘度。本發(fā)明 對于所述粘性調節(jié)劑的種類沒有特別限定，可以為本領域的常規(guī)選擇。例如，所述粘性調節(jié) 劑可以為氣相二氧化硅、聚酰胺蠟、有機膨潤土、氫化蓖麻油、金屬皂、羥烷基纖維素及其衍 生物、聚乙烯醇和聚丙烯酸鹽中的一種或兩種以上。
[0072] 根據本發(fā)明的油墨組合物，粘性調節(jié)劑的量可以為本領域的常規(guī)選擇。優(yōu)選地，相 對于100重量份摻雜的氧化錫，所述粘性調節(jié)劑的含量可以為0. 3-3重量份。
[0073] 根據本發(fā)明的油墨組合物的制備方法沒有特別限定，只要能夠將所述摻雜的氧化 錫與連接料以及任選的溶劑和助劑混合均勻即可。例如，可以通過在混合器（如行星式球 磨機）中，將所述摻雜的氧化錫與連接料以及任選的溶劑和助劑混合均勻，從而得到根據 本發(fā)明的油墨組合物。在混合器中將各組分混合均勻的方法和條件是本領域所公知的，本 文不再贅述。
[0074] 根據本發(fā)明的油墨組合物能夠施用在絕緣性（S卩，非導電性）基材的表面，并在所 述絕緣性基材的表面進行化學鍍，以將所述絕緣性基材的表面選擇性金屬化。
[0075] 根據本發(fā)明的第六個方面，本發(fā)明提供了一種絕緣性基材表面選擇性金屬化方 法，該方法包括以下步驟：
[0076] 將本發(fā)明提供的油墨組合物中的各組分混合均勻，將得到的混合物施用于絕緣性 基材的需要進行金屬化的表面，以形成油墨層；以及
[0077] 將具有所述油墨層的絕緣性基材進行化學鍍，以在所述油墨層上鍍覆至少一層金 屬層。
[0078] 可以采用本領域常用的各種方法將本發(fā)明提供的油墨組合物施用于絕緣性基材 的表面上，例如：可以通過選自絲網印刷、噴涂、激光打印、噴墨打印、轉印、凹版印刷、凸版 印刷和平版印刷的方法將由根據本發(fā)明的油墨組合物形成的油墨施用于需要進行金屬化 的絕緣性基材的表面上。上述絲網印刷、噴涂、激光打印、噴墨打印、轉印、凹版印刷、凸版印 刷和平版印刷的具體操作方法和條件是本領域所公知的，本文不再贅述。根據本發(fā)明的油 墨組合物特別適于通過噴墨打印或激光打印的方式施用于待金屬化的絕緣性基板的表面。
[0079] 根據本發(fā)明的方法還可以包括將油墨組合物施用于所述絕緣性基材的表面后，將 具有所述油墨組合物的基材進行干燥。本發(fā)明對于所述干燥的方法沒有特別限定，可以根 據油墨組合物中的連接料以及任選的溶劑的種類進行適當的選擇，例如：所述干燥的溫度 可以為40_150°C，時間可以為0. 5-5小時。所述干燥可以在常壓下進行，也可以在減壓的條 件下進行。
[0080] 所述油墨層的厚度可以根據所述油墨組合物的組成進行適當的選擇，以能夠在所 述絕緣性基材的表面進行化學鍍，進而將所述絕緣性基材的表面選擇性金屬化為準。優(yōu)選 地，所述油墨層的厚度為8-50 μ m。更優(yōu)選地，所述油墨層的厚度為12-40 μ m。進一步優(yōu)選 地，所述油墨層的厚度為12-25 μ m。
[0081] 所述化學鍍的方法也已經為本領域技術人員所公知。例如，進行化學鍍銅時，該方 法可以包括將具有油墨層的絕緣性基材與銅鍍液接觸，所述銅鍍液含有銅鹽和還原劑，PH 值為12-13,所述還原劑能夠將銅鹽中銅離子還原為銅單質，例如所述還原劑可以為乙醛 酸、肼和次亞磷酸鈉中的一種或多種。
[0082] 在進行化學鍍之后，還可以接著進行電鍍或者再進行一次或多次化學鍍，以進一 步增加鍍層的厚度或者在化學鍍層上形成其它金屬鍍層。例如，在化學鍍銅結束后，可以再 化學鍍一層鎳來防止銅鍍層表面被氧化。
[0083] 從進一步提高化學鍍形成的金屬層的附著力以及鍍覆速度的角度出發(fā)，根據本發(fā) 明的絕緣性基材表面選擇性金屬化方法優(yōu)選在將具有所述油墨層的絕緣性基材進行化學 鍍之前，用能量束對所述油墨層的表面進行照射，以使油墨層的表面氣化。
[0084] 所述能量束可以為激光、電子束或離子束，優(yōu)選為激光。根據本發(fā)明的方法，所述 能量束照射的條件以能夠使得油墨層的表面氣化為準。具體地，在所述能量束為激光時， 所述激光的波長可以為157-10600nm，功率可以為5-100W ;在所述能量束為電子束時，所述 電子束的功率密度可以為l〇-l〇nW/cm2 ;在所述能量束為離子束時，所述離子束的能量可以 為10-106eV。優(yōu)選地，所述能量束為激光。由于所述聚合物制品含有本發(fā)明提供的摻雜的 氧化錫，該摻雜的氧化錫對能量束具有更高的吸收能力，因此即使使用能量更低的能量束 進行照射，也能使油墨層表面氣化剝離。所述能量束優(yōu)選為波長為l〇64-10600nm且功率為 3-50W的激光，更優(yōu)選為波長為1064nm且功率為3-40W(更優(yōu)選為5-10W)的激光。
[0085] 根據本發(fā)明的方法能夠對多種絕緣性基材進行選擇性金屬化，所述絕緣性基材例 如可以為塑料基材、橡膠基材、纖維基材、涂料形成的涂層、陶瓷基材、玻璃基材、木制基材、 水泥基材或紙。優(yōu)選地，所述絕緣性基材為塑料基材或陶瓷基材。在所述絕緣性基材為柔 性塑料基材（例如：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚醚酮、聚醚醚酮或液晶 高分子）時，將本發(fā)明的油墨組合物施用于基材的表面，并將基材選擇性金屬化后得到的 制品特別適于制作柔性線路板。
[0086] 以下結合實施例詳細說明本發(fā)明，但并不因此限制本發(fā)明的范圍。
[0087] 以下實施例和對比例中，摻雜的氧化錫的組成由制備該摻雜的氧化錫的原料的組 成確定。
[0088] 以下實施例和對比例中，體積平均粒徑是采用商購自成都精新粉體測試設備有限 公司的激光粒度測試儀測定的。
[0089] 以下實施例和對比例中，參照GJB 5023. 1-2003中規(guī)定的方法測定，采用lambda 750紫外/可見/近紅外分光光譜儀測定摻雜的氧化錫在1064nm波長下的光反射率。
[0090] 以下實施例和對比例中，采用百格刀法來測定在基材表面形成的金屬層的附著 力。具體測試方法為：用百格刀在待測樣品表面劃IOX10個ι_χ 1_的小網格，每一條劃 線深及金屬層的最底層，用毛刷將測試區(qū)域的碎片刷干凈后，用膠帶（3M600號膠紙）粘住 被測試的小網格，用手抓住膠帶一端，在垂直方向迅速扯下膠紙，在同一位置進行2次相同 測試，按照以下標準確定附著力等級：
[0091] 0 :劃線邊緣光滑，在劃線的邊緣及交叉點處均無金屬層脫落；
[0092] I :在劃線的交叉點處有小片的金屬層脫落，且脫落總面積小于5% ;
[0093] 2 :在劃線的邊緣及交叉點處有小片的金屬層脫落，且脫落總面積在5-15%之間；
[0094] 3 :在劃線的邊緣及交叉點處有成片的金屬層脫落，且脫落總面積在15-35%之 間；
[0095] 4:在劃線的邊緣及交叉點處有成片的金屬層脫落，且脫落總面積在35-65%之 間；
[0096] 5 :在劃線的邊緣及交叉點處有成片的金屬層脫落，且脫落總面積大于65%。
[0097] 實施例1-10用于說明本發(fā)明。
[0098] 實施例1
[0099] (1)將SnO2置于球磨機的球磨罐中，然后加入Nb2O 5和乙醇，進行2小時的研磨。 其中，相對于100重量份固體物質，乙醇的用量為250重量份；以SnO2和Nb 2O5的總量為基 準，Nb2O5的用量為10重量％。將球磨得到的混合物在60°C于空氣氣氛中干燥3小時，得 到體積平均粒徑為1. 5 μ m的粉體混合物。將所述粉體混合物在1050°C于空氣氣氛中焙燒 5小時，將焙燒產物研磨成體積平均粒徑為1. 2 μ m，從而得到摻雜的氧化錫，其在CIELAB顏 色空間中的色坐標以及光反射率在表1中列出。
[0100] (2)將步驟（1)得到的摻雜的氧化錫和抗氧劑1010添加到聚對苯二甲酰己二胺 PA6T中，混合均勻后，將得到的混合物送入擠出機中，進行擠出造粒。將得到的粒料送入注 塑機中，注塑成型，得到含有摻雜的氧化錫的聚合物板材。其中，相對于100重量份聚對苯 二甲酰己二胺PA6T，摻雜的氧化錫的含量為5重量份，抗氧劑1010的含量為10重量份。該 聚合物板材在CIELAB顏色空間中的色坐標在表1中列出。
[0101] ⑶用YAG激光器產生的激光對步驟⑵得到的聚合物板材的表面進行照射，以在 板材表面形成作為接收機的天線的圖案。其中，激光照射的條件包括：激光波長為l〇64nm， 功率為5W，頻率為30kHz，走線速度為1000mm/s，填充間距為30μπι。
[0102] (4)將步驟（3)得到的聚合物板材置于鍍液中，進行化學鍍，形成為天線圖案的 金屬鍍層，其中，化學鍍的持續(xù)時間為lh?；瘜W鍍銅液的組成為：CuS0 4 · 5Η20 0. 12mol/L， Na2EDTA · 2H20 0· 14mol/L，亞鐵氰化鉀 10mg/L，2, 2' -聯(lián)吡啶 10mg/L，乙醛酸 0· 10mol/L。 用NaOH和H2SO4調節(jié)鍍液的pH值為12. 5-13,鍍液的溫度50°C。
[0103] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)形成的金屬層連續(xù)完整，且不存在漏鍍。鍍覆速度以及金屬層的 附著力在表1中列出。
[0104] 對比例1
[0105] 將氧化錫（與實施例1中作為制備摻雜的氧化錫的原料的氧化錫相同）和抗氧劑 1010添加到聚對苯二甲酰己二胺PA6T中，混合均勻后，將得到的混合物送入擠出機中，進 行擠出造粒。將得到的粒料送入注塑機中，注塑成型，得到含有氧化錫的聚合物板材。其中， 相對于100重量份聚對苯二甲酰己二胺PA6T，氧化錫的含量為5重量份，抗氧劑1010的含 量為10重量份。
[0106] 采用與實施例1步驟（3)相同的方法用激光照射制備的聚合物板材表面并采用與 實施例1步驟（4)相同的方法對經激光照射的聚合物板材進行化學鍍。
[0107] 結果無法形成完整的金屬層。
[0108] 對比例2
[0109] (1)采用與實施例1步驟（1)相同的方法制備摻雜的氧化錫，不同的是，用等量的 Sb2O3代替Nb2O5。得到的摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中的色坐標以及光反射率在表1 中列出。
[0110] (2)采用與實施例1步驟（2)相同的方法制備聚合物板材，不同的是，摻雜的氧化 錫為對比例2步驟（1)制備的摻雜的氧化錫。得到的聚合物板材在CIELAB顏色空間中的 色坐標在表1中列出。
[0111] (3)采用與實施例1步驟（3)相同的方法用激光對步驟（2)制備的聚合物板材的 表面進行照射。
[0112] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法對步驟（3)得到的經激光照射的聚合物 板材進行化學鍍。
[0113] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)能形成金屬層，但是存在漏鍍現(xiàn)象。鍍覆速度以及金屬層的附著 力在表1中列出。
[0114] 對比例3
[0115] (1)采用與實施例1步驟（1)相同的方法制備摻雜的氧化錫，不同的是，用等量的 V2O5代替Nb2O5。得到的摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中的色坐標以及光反射率在表1 中列出。
[0116] (2)采用與實施例1步驟（2)相同的方法制備聚合物板材，不同的是，摻雜的氧化 錫為對比例3步驟（1)制備的摻雜的氧化錫。得到的聚合物板材在CIELAB顏色空間中的 色坐標在表1中列出。
[0117] (3)采用與實施例1步驟（3)相同的方法用激光對步驟（2)制備的聚合物板材的 表面進行照射。
[0118] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法對步驟（3)得到的經激光照射的聚合物 板材進行化學鍍。
[0119] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)能形成金屬層，但是存在漏鍍現(xiàn)象。鍍覆速度以及金屬層的附著 力在表1中列出。
[0120] 對比例4
[0121] (1)采用與實施例1相同的方法制備摻雜的氧化錫，不同的是，在氮氣氣氛中進行 焙燒。得到的摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中的色坐標以及光反射率在表1中列出。
[0122] (2)采用與實施例1步驟（2)相同的方法制備聚合物板材，不同的是，摻雜的氧化 錫為對比例4步驟（1)制備的摻雜的氧化錫。得到的聚合物板材在CIELAB顏色空間中的 色坐標在表1中列出。
[0123] (3)采用與實施例1步驟（3)相同的方法用激光對步驟（2)制備的聚合物板材的 表面進行照射。
[0124] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法對步驟（3)得到的經激光照射的聚合物 板材進行化學鍍。
[0125] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)無法形成完整的金屬層。
[0126] 實施例2
[0127] (1)采用與實施例1相同的方法制備摻雜的氧化錫。
[0128] (2)采用與實施例1相同的方法制備聚合物板材，不同的是，相對于100重量份聚 對苯二甲酰己二胺PA6T，摻雜的氧化錫的含量為3重量份。該聚合物板材在CIELAB顏色空 間中的色坐標在表1中列出。
[0129] (3)采用與實施例1步驟（3)相同的方法用激光對步驟（2)得到的聚合物板材的 表面進行照射。
[0130] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法將步驟（3)得到的聚合物板材置于鍍液 中，進行化學鍍，形成為天線圖案的金屬鍍層。
[0131] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)形成的金屬層連續(xù)完整，且不存在漏鍍。鍍覆速度以及金屬層的 附著力在表1中列出。
[0132] 實施例3
[0133] (1)采用與實施例1相同的方法制備摻雜的氧化錫。
[0134] (2)采用與實施例1相同的方法制備聚合物板材，不同的是，相對于100重量份聚 對苯二甲酰己二胺PA6T，摻雜的氧化錫的含量為1重量份。該聚合物板材在CIELAB顏色空 間中的色坐標在表1中列出。
[0135] (3)采用與實施例1步驟（3)相同的方法用激光對步驟（2)得到的聚合物板材的 表面進行照射。
[0136] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法將步驟（3)得到的聚合物板材置于鍍液 中，進行化學鍍，形成為天線圖案的金屬鍍層。
[0137] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)形成的金屬層連續(xù)完整，且不存在漏鍍。鍍覆速度以及金屬層的 附著力在表1中列出。
[0138] 實施例4
[0139] (1)將SnO2置于球磨機的球磨罐中，然后加入Nb2O 5和乙醇，進行3小時的研磨。 其中，相對于100重量份固體物質，乙醇的用量為300重量份；以SnO2和Nb 2O5的總量為基 準，Nb2O5的用量為5重量％。將球磨得到的混合物在80°C于空氣氣氛中干燥2小時，得到 體積平均粒徑為2 μ m的粉體混合物。將所述粉體混合物在1300°C于空氣氣氛中焙燒8小 時，將焙燒產物研磨成體積平均粒徑為〇. 5 μ m，從而得到摻雜的氧化錫，其在CIELAB顏色 空間中的色坐標以及光反射率在表1中列出。
[0140] (2)將步驟（1)得到的摻雜的氧化錫、抗氧劑1098和滑石粉添加到聚碳酸酯中， 混合均勻后，將得到的混合物送入擠出機中，進行擠出造粒。將得到的粒料送入注塑機中， 注塑成型，得到含有摻雜的氧化錫的聚合物板材。其中，相對于100重量份聚碳酸酯，摻雜 的氧化錫的含量為10重量份，抗氧劑1098的含量為8重量份，滑石粉的含量為15重量份。 該聚合物板材在CIELAB顏色空間中的色坐標在表1中列出。
[0141] (3)用YAG激光器產生的激光對步驟⑵得到的聚合物板材的表面進行照射，以在 板材表面形成作為接收機的天線的圖案。其中，激光照射的條件包括：激光波長為l〇64nm， 功率為4W，頻率為30kHz，走線速度為1000mm/s，填充間距為30μπι。
[0142] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法將步驟（3)得到的聚合物板材置于鍍液 中，進行化學鍍，形成為天線圖案的金屬鍍層。
[0143] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)形成的金屬層連續(xù)完整，且不存在漏鍍。鍍覆速度以及金屬層的 附著力在表1中列出。
[0144] 實施例5
[0145] (1)采用與實施例4步驟（1)相同的方法制備摻雜的氧化錫，不同的是，將所述粉 體混合物在1350°C于空氣氣氛中焙燒8小時。
[0146] (2)采用與實施例4步驟（2)相同的方法制備聚合物板材，不同的是，摻雜的氧化 錫為實施例5步驟（1)制備的摻雜的氧化錫。
[0147] (3)采用與實施例4步驟（3)相同的方法用YAG激光器產生的激光對實施例5步 驟（2)得到的聚合物板材的表面進行照射，以在板材表面形成作為接收機的天線的圖案。
[0148] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法將實施例5步驟（3)得到的聚合物板材 置于鍍液中，進行化學鍍，形成為天線圖案的金屬鍍層。
[0149] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)形成的金屬層連續(xù)完整，且不存在漏鍍。鍍覆速度以及金屬層的 附著力在表1中列出。
[0150] 實施例6
[0151] (1)將SnO2置于球磨機的球磨罐中，然后加入Nb2O 5和乙醇，進行6小時的研磨。 其中，相對于100重量份固體物質，乙醇的用量為400重量份；以SnO2和Nb 2O5的總量為基 準，Nb2O5的用量為4重量％。將球磨得到的混合物在50°C于空氣氣氛中干燥6小時，得到 體積平均粒徑為1 μ m的粉體混合物。將所述粉體混合物在1200°C于空氣氣氛中焙燒8小 時，將焙燒產物研磨成體積平均粒徑為〇. 8 μ m，從而得到摻雜的氧化錫，其在CIELAB顏色 空間中的色坐標以及光反射率在表1中列出。
[0152] (2)將步驟（1)得到的摻雜的氧化錫、抗氧劑1098和滑石粉添加到聚對苯二甲酸 丁二醇酯中，混合均勻后，將得到的混合物送入擠出機中，進行擠出造粒。將得到的粒料送 入注塑機中，注塑成型，得到含有摻雜的氧化錫的聚合物板材。其中，相對于100重量份聚 對苯二甲酸丁二醇酯，摻雜的氧化錫的含量為15重量份，抗氧劑1098的含量為8重量份， 滑石粉的含量為20重量份。該聚合物板材在CIELAB顏色空間中的色坐標在表1中列出。
[0153] (3)用YAG激光器產生的激光對步驟（2)得到的聚合物板材的表面進行照射，以在 板材表面形成作為接收機的天線的圖案。其中，激光照射的條件包括：激光波長為l〇64nm， 功率為6W，頻率為30kHz，走線速度為1000mm/s，填充間距為30μπι。
[0154] (4)采用與實施例1步驟（4)相同的方法將步驟（3)得到的聚合物板材置于鍍液 中，進行化學鍍，形成為天線圖案的金屬鍍層。
[0155] 經目測觀察，發(fā)現(xiàn)形成的金屬層連續(xù)完整，且不存在漏鍍。鍍覆速度以及金屬層的 附著力在表1中列出。
[0156] 表 1
[0157]
【權利要求】
1. 摻雜的氧化錫作為通過化學鍍將絕緣性基材表面選擇性金屬化中的化學鍍促進劑 的應用，其特征在于，所述摻雜的氧化錫中的摻雜元素含有鈮，所述摻雜的氧化錫在CIELAB 顏色空間中，L #坐標在70-100的范圍內，a坐標在-5至5的范圍內，b坐標在-5至5的范 圍內。
2. 根據權利要求1所述的應用，其中，所述摻雜的氧化錫在1064nm波長下的光反射率 不商于60%。
3. 根據權利要求1或2所述的應用，其中，所述摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中，I； 坐標在80-90的范圍內，a坐標在-5至2的范圍內，b坐標在2至4的范圍內。
4. 根據權利要求1-3中任意一項所述的應用，其中，以摻雜的氧化錫的總量為基準，氧 化錫的含量為70-99. 9重量％，以Nb2O5計的鈮的含量為0. 1-30重量％。
5. -種聚合物組合物，該聚合物組合物含有聚合物和摻雜的氧化錫，相對于100重量 份聚合物，所述摻雜的氧化錫的含量為1-40重量份，其特征在于，所述摻雜的氧化錫中的 摻雜元素含有鈮，所述摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中，I；坐標在70-100的范圍內，a 坐標在-5至5的范圍內，b坐標在-5至5的范圍內。
6. 根據權利要求5所述的聚合物組合物，其中，相對于100重量份聚合物，所述摻雜的 氧化錫的含量為1-5重量份。
7. 根據權利要求5或6所述的聚合物組合物，其中，所述摻雜的氧化錫在1064nm波長 下的光反射率不高于60%。
8. 根據權利要求5-7中任意一項所述的聚合物組合物，其中，所述摻雜的氧化錫在 CIELAB顏色空間中，I/坐標在80-90的范圍內，a坐標在-5至2的范圍內，b坐標在2至4 的范圍內。
9. 根據權利要求5-8中任意一項所述的聚合物組合物，其中，以摻雜的氧化錫的總量 為基準，氧化錫的含量為70-99. 9重量％，以Nb2O5計的鈮的含量為0. 1-30重量％，
10. -種聚合物成型體，該聚合物成型體的至少部分表面由權利要求5-9中任意一項 所述的聚合物組合物形成。
11. 根據權利要求10所述的聚合物成型體，其中，所述聚合物成型體由權利要求5-9中 任意一項所述的聚合物組合物形成。
12. 權利要求5-9中任意一項所述的聚合物組合物、或者權利要求10-11中任意一項所 述的聚合物成型體在將聚合物基材表面通過化學鍍進行選擇性金屬化中的應用。
13. -種油墨組合物，該油墨組合物含有摻雜的氧化錫和連接料，其特征在于，所述 摻雜的氧化錫中的摻雜元素含有銀，所述摻雜的氧化錫在CIELAB顏色空間中，1/坐標在 70-100的范圍內，a坐標在-5至5的范圍內，b坐標在-5至5的范圍內。
14. 根據權利要求13所述的油墨組合物，其中，相對于100重量份所述摻雜的氧化錫， 所述連接料的含量為1-60重量份。
15. 根據權利要求13或14所述的油墨組合物，其中，所述連接料選自乙酸纖維素、聚丙 烯酸酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇、聚乙烯醇縮醛、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯 吡咯烷酮和聚膦酸中的一種或兩種以上。
16. 根據權利要求13或14所述的油墨組合物，其中，所述摻雜的氧化錫在1064nm波長 下的光反射率不高于60%。
17. 根據權利要求13、14和16中任意一項所述的油墨組合物，其中，所述摻雜的氧化 錫在CIELAB顏色空間中，I/坐標在80-90的范圍內，a坐標在-5至2的范圍內，b坐標在 2至4的范圍內。
18. 根據權利要求13、14、16和17中任意一項所述的油墨組合物，其中，以摻雜的氧 化錫的總量為基準，氧化錫的含量為70-99. 9重量％，以Nb2O5計的鈮的含量為0. 1-30重 量％。
19. 一種絕緣性基材表面選擇性金屬化方法，該方法包括以下步驟： 將權利要求13-18中任意一項所述的油墨組合物中的各組分混合均勻，將得到的混合 物施用于絕緣性基材的需要進行金屬化的表面，以形成油墨層；以及 將具有所述油墨層的絕緣性基材進行化學鍍，以在所述油墨層上鍍覆至少一層金屬 層。
20. 根據權利要求19所述的方法，其中，在將具有所述油墨層的絕緣性基材進行化學 鍍之前，該方法還包括用能量束對所述油墨層的表面進行照射，以使油墨層的表面氣化。
21. 根據權利要求20所述的方法，其中，所述能量束為激光。
【文檔編號】C08L77/06GK104311873SQ201410448481
【公開日】2015年1月28日 申請日期:2014年9月4日 優(yōu)先權日:2014年9月4日
【發(fā)明者】周維, 毛碧峰 申請人:比亞迪股份有限公司