專利名稱:肟酯光敏引發(fā)劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及新型的基于特定咔唑衍生物的肟酯化合物,及其在光聚合組合物中用 作光敏引發(fā)劑的用途。
背景技術(shù):
由美國專利3558309獲知某些肟酯衍生物是光敏引發(fā)劑。在美國專利4255513 中公開了肟酯化合物。US 6596445描述了某些具有供電子基團(tuán)的肟酯化合物。US 4202697 披露了丙烯基氨基(acrylamino)取代的肟酯。在 JP 7-140658 A( = Derwent No. 95-234519/31),Bull. Chem. Soc. Jpn. 1969,42 (10),2981-3,Bull. Chem. Soc. Jpn. 1975, 48(8) ,2393-4,Han' guk Somyu Konghakhoechi 1990, 27 (9), 672-85 ( = Chem. Abstr. 115 115174), Macromolecules,1991,24(15),4322-7 禾口 European Polymer Journal,1970, 933-943描述了某些醛肟酯化合物。在US 4590145 和 JP 61_024558_A( = Derwent No. 86-073545/11)披露了某些 二苯甲酮月虧酯化合物。在 Glas. Hem. Drus. Beograd, 1981,46 (6),215-30,J. Chem. Eng. Data 9 (3),403-4(1964), J. Chin. Chem. Soc. (Taipei)41(5)573-8,(1994),JP 62_273259_A(= Chemical Abstract 109 :83463w), JP 62-28696卜A( = Derwent No. 88-025703/04), JP 62-201859-A( = Derwent No. 87-288481/41), JP 62_184056_Α( = Derwent No.87-266739/38),US 5019482 和 J. of Photochemistry and Photobiology A 107, 261-269(1997)中描述了某些對-烷氧基-苯基肟酯化合物。此外,WO 02/100903、WO 04/050653和WO 06/018405披露了廂酯化合物。
發(fā)明內(nèi)容
在光聚合技術(shù)方面,仍然存在著對高活性、容易制備且容易處理的光敏引發(fā)劑的 需求。例如,在濾色片光刻膠(color filter resist)應(yīng)用中,為了達(dá)到高水平色彩質(zhì)量性 能需要高質(zhì)量著色光刻膠。隨著顏料含量的提高,彩色光刻膠的養(yǎng)護(hù)變得更加困難。因此, 需要比現(xiàn)行引發(fā)體系敏感度更高的光敏引發(fā)劑。另外,此類新光敏引發(fā)劑還必須滿足相關(guān) 工業(yè)性能,如熱穩(wěn)定性和儲存穩(wěn)定性的高要求。令人驚奇地發(fā)現(xiàn),式I、II和III化合物特別滿足上述要求,RO R,R16
R/rV
RR18
-"^XXir60do
r/In7 O
7 R11^i=S II
R 6~+·十C=N-O-C-R9
r^M^2=N_。Xr9(III)r/ 7 RV、 其中
R"參。
R"'fRm2R1為氫,(C0)R”2,C1-C2tl烷氧基羰基,苯基-C1-C4烷基,任選被一個(gè)或多個(gè)鹵素取 代的C1-C20烷基,COOR11, CONR12R13 ;或R1為被0、CO或NR14間斷的C2-C20烷基;任選被0、CO 或NR14間斷的C2-C12烯基,或?yàn)镃4-C8環(huán)烯基或C2-C12炔基;或R1為苯甲?;⑤刘;⒈窖趸驶蜉裂趸驶?;或?yàn)楸郊柞;?、萘酰基、?氧基羰基或萘氧基羰基,其各自任選被一個(gè)或多AC1-C2tl烷基、C1-C4鹵代烷基、SR10, OR11, NR12R13、鹵素、苯基、COOR11, CONR12R13^ CN, NO2或任選被0,CO或NR14間斷的C3-Cltl環(huán)烷基取 代;或R1為任選被0,CO或NR14間斷的C3-Cltl環(huán)烷基,任選被0,CO或NR14間斷的C3-Cltl 環(huán)烷基羰基,任選被0,CO或NR14間斷的C3-Cltl環(huán)烷氧基羰基;或隊(duì)為未取代的苯基或萘基,或者為被一個(gè)或多個(gè)C1-C2tl烷基、C1-C4鹵代烷基、 SRltl、OR11、NR12R13、鹵素、苯基、COOR11、CONR12R13、CN、NO2、或任選被 0,CO 或 NR14 間斷的 C3-Cltl 環(huán)烷基取代的苯基或萘基;R2和R’ 2彼此獨(dú)立地為氫,C1-C20烷基,任選被0,CO或NR14間斷的C3-Cltl環(huán)烷基;
或R2和R,2為任選被一個(gè)或多個(gè)鹵素、OR11, COOR11, CONR12R13、苯基或被SR1(1、OR11 或NR12R13取代的苯基取代的C1-C2tl烷基;或R2和R’ 2為被一個(gè)或多個(gè)0間斷和/或任選 被一個(gè)或多個(gè)鹵素、OR11, COOR11, CONR12R13、苯基或被SR1(1、OR11或NR12R13取代的苯基取代的 C2_C20 焼基;或R2和R’ 2為未取代的苯基或萘基或被一個(gè)或多個(gè)C1-C12烷基、苯基、鹵素、CN、 NO2, SR10, OR11, NR12R13或任選被0,CO或NR14間斷的C3-Cltl環(huán)烷基取代的苯基或萘基;或R2和R’ 2為C2-C2tl烷?;?,或未取代的或被一個(gè)或多個(gè)C1-C6烷基、苯基、SR10, 0Rn、NR12R13取代的苯甲?;?;或R2和R’2為任選被一個(gè)或多個(gè)0間斷和/或任選被一個(gè)或多個(gè)OH取代的C2-C12 烷氧基羰基;或R2和R’2為未取代的或被一個(gè)或多個(gè)C「C6烷基、鹵素、苯基、SR1Q、0Rn或NR12R13取代的苯氧基羰基;R”2具有關(guān)于R2和R’ 2給定的含義之一或?yàn)椤?
權(quán)利要求
1.式II或III的化合物
2.如權(quán)利要求1所述的式II或III的化合物,其中 R1為C1-C2tl烷基或任選被0間斷的C3-Cltl環(huán)烷基;R2和R’ 2彼此獨(dú)立地為C1-C2tl烷基,苯基或?yàn)楸籆1-C12烷基,OR11和/或NR12R13取代的 苯基;R”2具有關(guān)于&和R’ 2給定的含義之一;尺”’2具有關(guān)于1 2和1 ’2給定的含義之一或?yàn)?;R6>R7>R8>R' 6、R,7、R,8、R,,6、R,,7、R”,6 和 R”,7 彼此獨(dú)立地為氫,C1-Cm 烷基, 或 &、R7> R8> R,6、R,7、R,8、R” 6、R” 7、R”,6 和 R”,7 為(CO) R,2,SR10, OR11 或 NR12R13 ; R9 為 C1- "C2O焼基;R10為與其中通過CO與SRltl連接的苯環(huán)形成5-或6-元環(huán)的苯基,其中所述的苯基是 未取代的或被一個(gè)或多個(gè)C1-C2tl烷基取代;R11為C1-C2tl烷基或任選被0間斷的C3-Cltl環(huán)烷基;R12和R13彼此獨(dú)立地為C1-C2tl烷基,(CO) R15,或者為未取代或被NR16R17取代的苯基; 或R12和R13彼此獨(dú)立地或兩者都為通過與NR12R13連接的苯環(huán)的一個(gè)碳原子連接的 C2-C5亞烷基;或R12和R13彼此獨(dú)立地為通過直接鍵與NR12R13所在苯環(huán)連接的苯基;或 R12和R13與和它們連接的N原子一起形成任選被0或N間斷的5-或6-元飽和或不飽 和環(huán);或R12和R13與和它們連接的N原子一起形成雜芳環(huán)系統(tǒng),所述雜芳環(huán)系統(tǒng)是未取代的或 被一個(gè)或多個(gè)C1-C2tl烷基或OR11取代; Ri5 為 C1- "C2O焼基; R16和R17彼此獨(dú)立地為C1-C2tl烷基;或隊(duì)6和隊(duì)7彼此獨(dú)立地為與其中連接NR16R17的苯環(huán)的一個(gè)碳原子連接的(2-(5亞烷基, 而且所述C2-C5亞烷基或C2-C5亞烯基任選與苯環(huán)縮合;
3. 一種光聚合的組合物,其包含(a)至少一種烯鍵式不飽和光聚合的化合物,和(b)至少一種式II或III的化合物作為光敏引發(fā)劑
4.如權(quán)利要求3所述的光聚合的組合物,其中除光敏引發(fā)劑(b)之外,還包含至少一種 其它的光敏引發(fā)劑(c)和/或其它添加劑(d)。
5.如權(quán)利要求3-4中任意一項(xiàng)所述的光聚合的組合物,其包含基于所述組合物 0.05-25重量%的光敏引發(fā)劑(b),或光敏引發(fā)劑(b)和(C)。
6.如權(quán)利要求3-5中任意一項(xiàng)所述的光聚合的組合物,其包含光敏劑作為其它添加劑⑷。
7.如權(quán)利要求3-6中任意一項(xiàng)所述的光聚合的組合物,其另外包含粘合劑聚合物(e)。
8.一種光聚合包含烯鍵式不飽和雙鍵的化合物的方法,其包括用波長150-600nm電磁 輻射或用電子束或用X-射線輻射如權(quán)利要求3-7中任意一項(xiàng)所述的組合物。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,該方法用于生產(chǎn)下述產(chǎn)品著色和非著色涂料和油漆、粉 末涂料、印刷油墨、印刷版、粘合劑、壓敏粘合劑、牙齒組分、凝膠涂層、電子用光刻膠、耐電 鍍劑、耐蝕刻劑、液態(tài)和干燥薄膜、阻焊劑、用作生產(chǎn)各種顯示設(shè)備的濾色片的光刻膠、在等 離子體顯示平板、電致發(fā)光顯示器和IXD制造過程中產(chǎn)生結(jié)構(gòu)的光刻膠、IXD間隔物、全息 數(shù)據(jù)儲存(HDQ、封裝電氣和電子元件的組合物、用于生產(chǎn)磁性記錄材料、微型機(jī)械元件、波 導(dǎo)、光學(xué)開關(guān)、電鍍掩模、蝕刻掩模、彩色打樣體系、玻璃纖維電纜涂層、絲網(wǎng)印刷模板、通過 立體印刷生產(chǎn)三維圖像、作為圖像記錄材料、全息記錄、微電子電路、脫色材料、用于圖像記 錄材料的脫色材料、用于利用微膠囊的圖像記錄材料,用于UV和可見激光直接成像體系的 光致抗蝕劑材料、用于形成印刷電路板的連續(xù)多層的介電層的光致抗蝕劑材料。
10.一種制備權(quán)利要求1所述的式II或III的化合物的方法,該方法使式IIa或IIIa 的肟化合物其中 R2, R”2,R6, R’ 6,R”6,R”’ 6,R7, R’ 7,R” 7,R”’ 7,R8 和 R’ 8 如權(quán)利要求 3 所定義,與式V或VI的酰鹵或酸酐HalJ-R9 (V)R9-C-O-C-R9 (VI),其中Hal代表鹵素原子,R9如權(quán)利要求3所定義,在堿或堿混合物存在下反應(yīng)。
11.如權(quán)利要求3-7中任意一項(xiàng)所述的組合物用于生產(chǎn)下述產(chǎn)品的用途著色和非著 色涂料和油漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷版、粘合劑、壓敏粘合劑、牙齒組分、凝膠涂層、電 子用光刻膠、耐電鍍劑、耐蝕刻劑、液態(tài)和干燥薄膜、阻焊劑、用作生產(chǎn)各種顯示設(shè)備的濾色 片的光刻膠、在等離子體顯示平板、電致發(fā)光顯示器和LCD制造過程中產(chǎn)生結(jié)構(gòu)的光刻膠、 LCD間隔物、全息數(shù)據(jù)儲存(HDQ、封裝電氣和電子元件的組合物、用于生產(chǎn)磁性記錄材料、 微型機(jī)械元件、波導(dǎo)、光學(xué)開關(guān)、電鍍掩模、蝕刻掩模、彩色打樣體系、玻璃纖維電纜涂層、絲 網(wǎng)印刷模板、通過立體印刷生產(chǎn)三維圖像、作為圖像記錄材料、全息記錄、微電子電路、脫色 材料、用于圖像記錄材料的脫色材料、用于利用微膠囊的圖像記錄材料,用于UV和可見激 光直接成像體系的光致抗蝕劑材料、用于形成印刷電路板的連續(xù)多層的介電層的光致抗蝕 劑材料。
12.帶涂層底材,其中至少一個(gè)表面用如權(quán)利要求3所述組合物涂覆。
13.一種照相產(chǎn)生浮雕圖像的方法,其中將如權(quán)利要求12所述的帶涂層底材進(jìn)行成像 曝光,然后用顯影劑除去未曝光部分。
14.通過下述方法制備的濾色片提供紅、綠和藍(lán)色彩元素和黑色矩陣,全部包含在透 明底材上的光敏樹脂和顏料,并且在底材表面或在濾色片層表面提供透明電極;其中所述 的光敏樹脂包含多官能化的丙烯酸酯單體、有機(jī)聚合物粘合劑和如權(quán)利要求3定義的式II 或III的光聚合引發(fā)劑。
15.式IIa和IIIa的化合物
全文摘要
式I、II和III的化合物,其中R1、R2、R’2和R”’2為,例如C1-C20烷基;R3、R4和R5例如彼此獨(dú)立地為氫或規(guī)定的取代基,前提條件是R3、R4或R5中至少一個(gè)與氫或C1-C20烷基不同;R6,R7,R8,R’6,R’7,R’8,R”6,R”7,R”’6和R”’7例如彼此獨(dú)立地具有關(guān)于R3、R4和R5給定的含義之一;而且R9為例如C1-C20烷基;該化合物在光聚合反應(yīng)中顯示出人意料的良好性能。
文檔編號C08F2/54GK102093282SQ20101060285
公開日2011年6月15日 申請日期2006年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月1日
發(fā)明者A·馬特素莫托, H·庫拉, J·塔納布, M·奧瓦 申請人:西巴控股有限公司