本實(shí)用新型涉及鏡片鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種鏡片真空鍍膜用的坩堝裝置。
背景技術(shù)：
鏡片真空鍍膜工藝過(guò)程包括對(duì)真空鍍膜機(jī)抽真空，使真空室處于真空狀態(tài)，再通過(guò)電子槍束流對(duì)真空室底部坩堝內(nèi)的鍍膜材料加熱，鍍膜材料在加熱到一定的溫度后，鍍膜材料會(huì)產(chǎn)生升華，升華出的鍍膜材料分子沉積在真空室上部的產(chǎn)品表面形成薄膜。
現(xiàn)有技術(shù)的坩堝上設(shè)有圓形或矩形的放料槽，在放料槽內(nèi)放置鍍膜材料。工作時(shí)，坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)，坩堝一側(cè)的電子槍對(duì)放料槽內(nèi)的鍍膜材料加熱，使鍍膜材料升華。然而，圓形或矩形的放料槽設(shè)置在坩堝上，放料槽之間有空隙，當(dāng)空隙轉(zhuǎn)到電子槍前面時(shí)，電子槍并不能對(duì)準(zhǔn)鍍膜材料加熱，導(dǎo)致鍍膜材料升華量隨時(shí)間而變化，可能會(huì)造成鍍膜不均勻，且造成了資源浪費(fèi)，生產(chǎn)效率較低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是如何使鍍膜材料均勻蒸出，提高生產(chǎn)效率。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：
提供一種鏡片真空鍍膜用的坩堝裝置，包括轉(zhuǎn)動(dòng)盤，所述轉(zhuǎn)動(dòng)盤上設(shè)有環(huán)形的坩堝，所述坩堝由轉(zhuǎn)動(dòng)盤帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)；所述坩堝上面設(shè)有環(huán)形的用于放置鍍膜材料的放料槽。
進(jìn)一步地，所述坩堝一側(cè)設(shè)有電子槍。
本實(shí)用新型能夠取得以下有益效果：
本實(shí)用新型在環(huán)形的坩堝上設(shè)有環(huán)形的放料槽，蒸鍍時(shí)電子槍能夠均勻地對(duì)鍍膜材料進(jìn)行加熱，改善了產(chǎn)品質(zhì)量，提高了效率。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式：
以下將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明:
如圖1所示的一種鏡片真空鍍膜用的坩堝裝置，包括轉(zhuǎn)動(dòng)盤1，所述轉(zhuǎn)動(dòng)盤1上設(shè)有環(huán)形的坩堝2，所述坩堝2由轉(zhuǎn)動(dòng)盤1帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)；所述坩堝2上面設(shè)有環(huán)形的用于放置鍍膜材料的放料槽3。所述坩堝2一側(cè)設(shè)有電子槍4。
本實(shí)用新型工作時(shí)，轉(zhuǎn)動(dòng)盤1帶動(dòng)坩堝2轉(zhuǎn)動(dòng)，電子槍4對(duì)放料槽3內(nèi)的鍍膜材料進(jìn)行加熱。由于放料槽3是環(huán)形結(jié)構(gòu)，坩堝2轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)任何時(shí)候放料槽3內(nèi)的鍍膜材料均位于電子槍4旁，能夠均勻地使鍍膜材料加熱升華，改善了鏡片的鍍膜效果，提高了生產(chǎn)效率。
以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也不超出本實(shí)用新型記載的范圍。