技術(shù)特征：
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種新型的平面磁控濺射陰極，該平面磁控濺射陰極包括靶材、背板、磁體裝置以及導(dǎo)磁板，靶材設(shè)置在背板的一側(cè)，導(dǎo)磁板設(shè)置在背板的另一側(cè)，磁體裝置設(shè)置在背板和導(dǎo)磁板之間，其中，磁體裝置包括中間磁體和環(huán)繞該中間磁體的外圈磁體，中間磁體包括至少兩個(gè)電磁鐵，外圈磁體和中間磁體朝向靶材的磁極其二者極性相反；平面磁控濺射陰極還包括電磁鐵電源，該電磁鐵電源與該至少兩個(gè)電磁鐵連接，為該至少兩個(gè)電磁鐵依次供電以使外圈磁體和中間磁體之間的磁場(chǎng)分布不斷發(fā)生變化。實(shí)施本發(fā)明可以有效提高靶材的利用率、防止靶材污染、提高濺射速率的穩(wěn)定性。此外，本發(fā)明所提供的平面磁控濺射陰極還具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于控制、可靠性高的特點(diǎn)。
技術(shù)研發(fā)人員：張誠
受保護(hù)的技術(shù)使用者：霍爾果斯迅奇信息科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.02
技術(shù)公布日：2017.08.22