一種開口掩膜板、掩膜板及基板的制作方法

本實用新型涉及顯示技術領域，尤其涉及一種開口掩膜板、掩膜板及基板。

背景技術：

有機電致發(fā)光二極管(Organic Light Emitting，簡稱OLED)顯示技術，由于具有自發(fā)光、反應速度快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率高以及亮度高等優(yōu)點，而使得OLED顯示器件受到越來越廣泛的應用。

OLED顯示器件的結構包括陽極、發(fā)光層和陰極。其中，發(fā)光層一般通過蒸鍍的方法形成，而用于真空蒸鍍的精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，簡稱FMM)是蒸鍍過程中一項非常重要和關鍵的部件，該部件的質量和精度直接影響著蒸鍍形成的發(fā)光層的質量，最終影響著OLED顯示器件的良率和質量。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的實施例提供一種開口掩膜板、掩膜板及基板，該掩膜板既可以確保形成膜層的精確度，又可以確保在清洗掩膜板時，防止清洗藥液和水殘留在掩膜板上。

為達到上述目的，本實用新型的實施例采用如下技術方案：

第一方面，提供一種開口掩膜板，所述開口掩膜板上設置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部設置有構圖區(qū)域限定口，所述第一凹槽的底部還設置有通孔。

優(yōu)選的，所述開口掩膜板的邊緣區(qū)域還設置有第二凹槽，所述第二凹槽與所述第一凹槽位于所述開口掩膜板的同一側，所述第二凹槽的底部設置有通孔。

優(yōu)選的，所述開口掩膜板包括多個第一凹槽，每個所述第一凹槽的底部設置有一個所述構圖區(qū)域限定口。

優(yōu)選的，所述第一凹槽的形狀為圓形或矩形。

優(yōu)選的，所述第一凹槽的底部和所述第二凹槽的底部設置有多個所述通孔。

進一步優(yōu)選的，所述通孔為圓形，且所述通孔的直徑為600～800μm。

第二方面，提供一種掩膜板，包括：框架，固定設置在所述框架上、且相互貼合的開口掩膜板和精細掩膜板，所述開口掩膜板為上述開口掩膜板；第一凹槽的槽口朝向所述精細掩膜板，所述框架不遮擋所述開口掩膜板上的通孔。

優(yōu)選的，所述精細掩膜板包括多個掩膜條，每個所述掩膜條對應一列所述第一凹槽；每個所述掩膜條覆蓋所述第一凹槽；或者，每個所述掩膜條覆蓋所述構圖區(qū)域限定口，且不完全覆蓋所述第一凹槽。

第三方面，提供一種開口掩膜板，所述開口掩膜板上設置有構圖區(qū)域限定口，所述開口掩膜板的邊緣區(qū)域設置有第二凹槽，所述第二凹槽的底部設置有通孔。

第四方面，提供一種掩膜板，包括：框架，固定設置在所述框架上、且相互貼合的開口掩膜板和精細掩膜板，所述開口掩膜板為上述的開口掩膜板；第二凹槽的槽口朝向所述精細掩膜板，所述框架不遮擋所述開口掩膜板上的通孔。

優(yōu)選的，所述精細掩膜板包括多個掩膜條，所述多個掩膜條不完全覆蓋所述第二凹槽。

第五方面，提供一種掩膜板，包括：框架，固定設置在所述框架上、且相互貼合的開口掩膜板和精細掩膜板，所述開口掩膜板上設置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部設置有構圖區(qū)域限定口；所述第一凹槽的槽口朝向所述精細掩膜板；所述精細掩膜板包括多個掩膜條，每個所述掩膜條對應一列所述第一凹槽，每個掩膜條覆蓋所述第一凹槽底部的構圖區(qū)域限定口，且不完全覆蓋所述第一凹槽。

第六方面，提供一種基板，包括襯底基板和設置在所述襯底基板上的膜層，所述膜層通過上述的掩膜板形成。

本實用新型實施例提供一種開口掩膜板、掩膜板及基板，當開口掩膜板和精細掩膜板配合用于形成圖案時，由于開口掩膜板上的構圖區(qū)域限定口的形狀即是要形成圖案區(qū)域的形狀，因而精細掩膜板上的構圖區(qū)域可以設置成在精細掩膜板焊接時不影響精細掩膜板平坦度的任意形狀，且精細掩膜板上的圖案覆蓋開口掩膜板的構圖區(qū)域限定口，這樣便可以確保利用開口掩膜板和精細掩膜板配合形成的圖案的精確度。在此基礎上，本實用新型實施例在開口掩膜板的第一凹槽的底部設置通孔，因而在清洗開口掩膜板和精細掩膜板配合形成的雙層掩膜板時，藥液和水可以從通孔中流出，從而避免了藥液和水殘留在第一凹槽內(nèi)，從而確保了形成的圖案的質量。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術提供一種掩膜板的清洗工藝流程示意圖；

圖2(a)為本實用新型提供的一種開口掩膜板的結構示意圖一；

圖2(b)為本實用新型提供的一種開口掩膜板的結構示意圖二；

圖2(c)為圖2(a)的AA`向剖視示意圖；

圖3為本實用新型提供的一種開口掩膜板的結構示意圖三；

圖4為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖一；

圖5為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖二；

圖6(a)為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖三；

圖6(b)為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖四；

圖7為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖五；

圖8為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖六；

圖9為本實用新型提供的一種掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板的結構示意圖七。

附圖標記：

01-開口掩膜板；02-精細掩膜板；03-框架；10-第一凹槽；101-構圖區(qū)域限定口；102-通孔；20-第二凹槽。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

現(xiàn)有技術中，在利用精細掩膜板進行蒸鍍時，必須將精細掩膜板焊接在框架上才能放在蒸鍍腔室里面使用。然而，若精細掩膜板上的構圖區(qū)域為圓形，在將精細掩膜板焊接在框架上時，由于圓形的構圖區(qū)域會受力不均，因而常會導致精細掩膜板的構圖區(qū)域發(fā)生褶皺，從而影響了精細掩膜板的平坦度。考慮到上述問題，因而本實用新型通過將開口掩膜板和精細掩膜板配合使用，開口掩膜板上設置有構圖區(qū)域限定口，精細掩膜板上的圖案與開口掩膜板上的構圖區(qū)域限定口對應，這樣精細掩膜板上的構圖區(qū)域可以設置成任意的形狀，只要不影響精細掩膜板焊接時構圖區(qū)域的平坦度即可，因而開口掩膜板和精細掩膜板配合使用，可以確保精細掩膜板的平坦度，從而可以確保形成的膜層精確度。

在此基礎上，當掩膜板包括開口掩膜板和精細掩膜板時，一方面，考慮到在使用時，由于重力的原因，開口掩膜板可能會向下彎曲，從而導致開口掩膜板上的構圖區(qū)域限定口彎曲；另一方面，考慮到在利用掩膜板進行蒸鍍時，構圖區(qū)域限定口周圍受到的力可能會使得構圖區(qū)域限定口的形狀發(fā)生變化?；谏鲜鰞蓚€方面的考慮，本實用新型實施例在開口掩膜板上設置第一凹槽，在第一凹槽的底部設置構圖區(qū)域限定口，這樣一來，第一凹槽不僅可以減小開口掩膜板的重力，而且第一凹槽還可以形成應力緩沖區(qū)，防止在蒸鍍時開口掩膜板上的構圖區(qū)域限定口變形。

同理，為了減小開口掩膜板的重力，以及防止將開口掩膜板或精細掩膜板焊接在框架上時，開口掩膜板邊緣區(qū)域受力不均，而影響開口掩膜板構圖區(qū)域限定口的形狀，因而還可以在開口掩膜板的邊緣區(qū)域設置第二凹槽，這樣不僅可以減小開口掩膜板的重力，而且還可以形成應力緩沖區(qū)，防止將開口掩膜板或精細掩膜板焊接在框架上時，開口掩膜板邊緣區(qū)域受力不均。

現(xiàn)有技術中，掩膜板在蒸鍍循環(huán)使用的過程中會不斷有蒸鍍材料沉積在掩膜板上，影響掩膜板的使用，因而在每次使用掩膜板進行蒸鍍之前都必須對掩膜板進行清洗，清洗后的掩膜板需要干燥處理。通常掩膜板的清洗工藝流程如圖1所示，先利用藥液對掩膜板進行清洗，所選藥液例如可以是N-甲基吡咯烷酮，再進行漂洗，例如可以利用去離子水進行漂洗，之后，再利用電解液進行清洗，電解液例如可以是KOH(氫氧化鉀)，再進行漂洗，最后再利用易揮發(fā)液體進行清洗，易揮發(fā)液體在揮發(fā)時可以攜帶掩膜板上的液體并使其蒸發(fā)掉，易揮發(fā)液體例如可以是異丙醇或乙醇等，在完成上述清洗過程后，便可以將掩膜板上的蒸鍍材料清洗掉。

此處，需要說明的是，對于本實用新型實施例提供的包括開口掩膜板和精細掩膜板的雙層掩膜板，在進行蒸鍍之前也必須對雙層掩膜板進行清洗。然而，由于本實用新型實施例提供的包括開口掩膜板和精細掩膜板的雙層掩膜板中開口掩膜板上還設置有第一凹槽和/或第二凹槽，而精細掩膜板又貼合在開口掩膜板上，這樣精細掩膜板便會擋住第一凹槽和/或第二凹槽的槽口，因而在清洗該掩膜板時，藥液和水便會殘留在開口掩膜板中。若藥液和水殘留在雙層掩膜板中，在利用該雙層掩膜板進行蒸鍍時，藥液若揮發(fā)混入有機材料中，會大大縮短OLED顯示器件的性能；若水殘留在開口掩膜板中，水以及水中混入的氧氣會較大地影響OLED顯示器件的壽命，氧氣的滲入使得有機功能層發(fā)光量子效率明顯下降，氧氣對有機發(fā)光層的氧化會產(chǎn)生羥基化合物，也會顯著降低有機功能發(fā)光層的發(fā)光量子效率；而水汽會導致導電層與有機化合物水解，使OLED顯示器件的穩(wěn)定性大大降低，這些都會影響OLED顯示器件的壽命，因此雙層掩膜板必須干燥，避免藥液和水殘留在雙層掩膜板中，影響OLED顯示器件的性能。

基于上述，本實用新型實施例提供一種開口掩膜板01，如圖2(a)、圖2(b)和圖2(c)所示，開口掩膜板01上設置有第一凹槽10，第一凹槽10的底部設置有構圖區(qū)域限定口101，第一凹槽10的底部還設置有通孔102。

需要說明的是，第一，對于開口掩膜板01上第一凹槽10的形狀、尺寸和數(shù)量不進行限定，可以根據(jù)需要進行設置。示例的，第一凹槽10的形狀可以是如圖2(a)所示為矩形，也可以是如圖2(b)所示為圓形。

第二，對于第一凹槽10的底部設置的構圖區(qū)域限定口101的尺寸和形狀不進行限定，具體可以根據(jù)需要形成的圖案區(qū)域的尺寸和形狀進行相應設置。示例的，當利用開口掩膜板01與精細掩膜板配合形成手表中的發(fā)光層時，此時，構圖區(qū)域限定口101的形狀可以為圓形，直徑為40mm。

第三，對于第一凹槽10的底部設置的通孔102的尺寸和數(shù)量不進行限定，可以根據(jù)第一凹槽10的尺寸和構圖區(qū)域限定口101的尺寸進行相應設置，且通孔102的尺寸至少應保證藥液和水可以流出。此處，優(yōu)選通孔102均勻設置在第一凹槽10內(nèi)。

本領域技術人員應該明白，通孔102不可能設置在構圖區(qū)域限定口101內(nèi)。

本實用新型實施例提供一種開口掩膜板01，當開口掩膜板01和精細掩膜板配合用于形成圖案時，由于開口掩膜板01上的構圖區(qū)域限定口的形狀即是要形成圖案區(qū)域的形狀，因而精細掩膜板上的構圖區(qū)域可以設置成在精細掩膜板焊接時不影響精細掩膜板平坦度的任意形狀，且精細掩膜板上的圖案覆蓋開口掩膜板01的構圖區(qū)域限定口101，這樣便可以確保利用開口掩膜板01和精細掩膜板配合形成的圖案的精確度。在此基礎上，本實用新型實施例在開口掩膜板01的第一凹槽10的底部設置通孔102，因而在清洗開口掩膜板01和精細掩膜板配合形成的雙層掩膜板時，藥液和水可以從通孔中流出，從而避免了藥液和水殘留在第一凹槽10內(nèi)，從而確保了形成的圖案的質量。當該開口掩膜板01與精細掩膜板配合用于形成OLED顯示器件中的發(fā)光層時，可以提升OLED顯示器件的良品率。

為了進一步減輕開口掩膜板01的重力以及防止將開口掩膜板01和/或精細掩膜板焊接在框架上時，開口掩膜板01邊緣區(qū)域受力不均，因而優(yōu)選的，如圖3所示，開口掩膜板01的邊緣區(qū)域還設置有第二凹槽20，第二凹槽20與第一凹槽10位于開口掩膜板01的同一側，第二凹槽20的底部設置有通孔102。

其中，可以在開口掩膜板01的一個邊緣設置第二凹槽20，也可以在開口掩膜板01的二個或三個或四個邊緣均設置第二凹槽20。需要說明的是，當精細掩膜板包括多個掩膜條時，由于掩膜條焊接在框架的一組對邊上，為了避免掩膜條焊接在框架上時，開口掩膜板01邊緣區(qū)域受力不均，因而優(yōu)選的，如圖3所示，可以僅在開口掩膜板01的一對相互平行的邊緣設置第二凹槽20，且該對邊緣與掩膜條焊接在框架上的邊平行。

此外，對于第二凹槽20的底部設置的通孔102的數(shù)量和通孔102的尺寸不進行限定，可以根據(jù)需要進行相應設置，對于通孔102的尺寸至少應保證藥液和水可以從通孔102中流出。

本實用新型實施例，在開口掩膜板01的邊緣區(qū)域設置第二凹槽20，不僅可以減輕開口掩膜板01的重力，而且還可以形成應力緩沖區(qū)，防止將開口掩膜板01和/或精細掩膜板焊接在框架上時，開口掩膜板01邊緣區(qū)域受力不均。在此基礎上，在第二凹槽20的底部還設置有通孔102，因而可以避免在清洗開口掩膜板01和精細掩膜板配合形成的雙層掩膜板上，藥液和水殘留在第二凹槽20內(nèi)，進而避免了藥液和水對形成的圖案質量的影響。

優(yōu)選的，如圖2(a)、圖2(b)以及圖3-圖9所示，開口掩膜板01包括多個第一凹槽10，每個第一凹槽10的底部設置有一個構圖區(qū)域限定口101。

本實用新型實施例，由于開口掩膜板01包括多個第一凹槽10，且每個第一凹槽10的底部均設置有一個構圖區(qū)域限定口101，因而利用該開口掩膜板01可以同時在多個區(qū)域形成圖案。

為了便于在開口掩膜板01上形成第一凹槽10，因而優(yōu)選的，第一凹槽10的形狀可以如圖2(a)、圖3-圖5、圖6(a)以及圖7-圖9所示為矩形，也可以是如圖2(b)以及圖6(b)所示為圓形。

進一步優(yōu)選的，如圖2(a)、圖2(b)和圖3-圖7所示，第一凹槽10的底部和第二凹槽20的底部設置有多個通孔102。

本實用新型實施例，由于第一凹槽10的底部和第二凹槽20的底部有多個通孔102，因而在清洗開口掩膜板01與精細掩膜板配合形成的雙層掩膜板時，殘留在第一凹槽10和第二凹槽20中藥液和水可以快速流出。

優(yōu)選的，通孔102為圓形，且通孔102的直徑為600～800μm。

本實用新型實施例，當通孔102的直徑太小時，殘留在第一凹槽10和/或第二凹槽20內(nèi)的藥液和水可能流不出去；當通孔102的直徑太大時，可能會影響開口掩膜板01上構圖區(qū)域限定口101的平坦度，因而優(yōu)選通孔102的直徑為600～800μm。

本實用新型實施例還提供一種掩膜板，如圖4-圖7所示，包括：框架03，固定設置在框架03上、且相互貼合的開口掩膜板01和精細掩膜板02，開口掩膜板01為上述開口掩膜板01；第一凹槽10的槽口朝向精細掩膜板02，框架03不遮擋開口掩膜板01上的通孔102。

其中，對于精細掩膜板02不進行限定，精細掩膜板02可以是一整張，也可以由多個掩膜條組成(本實用新型實施例附圖中均以精細掩膜板02包括多個掩膜條為例進行示意，附圖4-圖6中僅示意出一個掩膜條)。

需要說明的是，由于精細掩膜板02的構圖區(qū)域形成有圖案，因而精細掩膜板02的構圖區(qū)域應覆蓋開口掩膜板01的構圖區(qū)域。此外，對于精細掩膜板02上構圖區(qū)域的形狀，應防止將精細掩膜板02固定在框架03上時，精細掩膜板02上的構圖區(qū)域受力不均，而導致構圖區(qū)域的圖案發(fā)生褶皺。優(yōu)選的，精細掩膜板02上的構圖區(qū)域為矩形。

此處，在形成雙層掩膜板時，可以先將開口掩膜板01固定在框架03上，再將精細掩膜板02固定在框架03上。此外，對于開口掩膜板01和精細掩膜板02如何固定在框架03不進行限定，例如可以將開口掩膜板01和精細掩膜板02焊接在框架03上。

本實用新型提供一種掩膜板，由于掩膜板包括固定設置在框架03上、且相互貼合的開口掩膜板01和精細掩膜板02，由于開口掩膜板01上的構圖區(qū)域限定口的形狀即是要形成圖案區(qū)域的形狀，因而精細掩膜板上的構圖區(qū)域可以設置成在精細掩膜板焊接時不影響精細掩膜板平坦度的任意形狀，進而利用該掩膜板可以確保形成的圖案的精確度。在此基礎上，開口掩膜板01的第一凹槽10的底部設置有通孔102，因而可以避免在清洗掩膜板時，藥液和水殘留在第一凹槽10內(nèi)，從而避免了影響形成的圖案的質量。當該開口掩膜板01與精細掩膜板配合用于形成OLED顯示器件中的發(fā)光層時，可以提升OLED顯示器件的良品率。

優(yōu)選的，如圖4-圖7所示，精細掩膜板02包括多個掩膜條，每個掩膜條對應一列第一凹槽10(附圖4-圖6中僅示意出一條掩膜條)；如圖4和圖5所示，每個掩膜條覆蓋第一凹槽10；或者，如圖6(a)、圖6(b)以及圖7所示，每個掩膜條覆蓋構圖區(qū)域限定口101，且不完全覆蓋第一凹槽10。

本實用新型實施例，當掩膜條覆蓋第一凹槽10時，可以防止在利用掩膜板蒸鍍時，蒸鍍材料較多地殘留在第一凹槽10中；當掩膜板覆蓋構圖區(qū)域限定口101，且不完全覆蓋第一凹槽10時，在清洗掩膜板時，藥液和水還可以從第一凹槽10未被掩膜條覆蓋的部分流出，從而進一步地避免了藥液和水殘留在第一凹槽10中。

進一步地，當開口掩膜板還包括第二凹槽20時，如圖7所示，多個掩膜條可以不完全覆蓋第二凹槽20，這樣在清洗掩膜板時，藥液和水還可以從第二凹槽20未被掩膜條覆蓋的部分流出。

本實用新型實施例提供一種開口掩膜板01，如圖3所示，開口掩膜板01上設置有構圖區(qū)域限定口101，開口掩膜板01的邊緣區(qū)域設置有第二凹槽20，第二凹槽20的底部設置有通孔102。

其中，可以在開口掩膜板01的一個或多個邊緣設置第二凹槽20。需要說明的是，當精細掩膜板02包括多個掩膜條時，由于掩膜條焊接在框架的一組對邊上，為了避免掩膜條焊接在框架上時，開口掩膜板01邊緣區(qū)域受力不均，因而優(yōu)選的，如圖3所示，可以僅在開口掩膜板01的一對相互平行的邊緣設置第二凹槽20，且該對邊緣與掩膜條焊接在框架上的邊平行。

此外，對于第二凹槽20的底部設置的通孔102的數(shù)量和通孔102的尺寸不進行限定，可以根據(jù)需要進行相應設置。

本實用新型實施例提供一種開口掩膜板01，由于開口掩膜板01的邊緣區(qū)域設置有第二凹槽20，因而不僅可以減輕開口掩膜板01的重力，而且還可以防止將開口掩膜板01或精細掩膜板02焊接在框架上時，開口掩膜板01邊緣區(qū)域受力不均，而影響開口掩膜板01構圖區(qū)域限定口101的形狀。在此基礎上，在第二凹槽20的底部還設置有通孔102，因而在清洗開口掩膜板01和精細掩膜板02配合形成的雙層掩膜板上，藥液和水可以從通孔102中流出，從而避免了藥液和水殘留在第二凹槽20內(nèi)，進而避免了藥液和水對形成圖案質量的影響。

優(yōu)選的，如圖7所示，精細掩膜板02包括多個掩膜條，多個掩膜條不完全覆蓋第二凹槽20。

本實用新型實施例，由于掩膜條不完全覆蓋第二凹槽20，因而在清洗開口掩膜板01和精細掩膜板02配合形成的雙層掩膜板時，第二凹槽20中殘留的藥液和水還可以從第二凹槽20未被掩膜條覆蓋的部分流出，從而進一步避免了藥液和水殘留在第二凹槽20內(nèi)。

本實用新型實施例提供一種掩膜板，如圖8和圖9所示，包括：框架03，固定設置在框架03上、且相互貼合的開口掩膜板01和精細掩膜板02，開口掩膜板01上設置有第一凹槽10，第一凹槽10的底部設置有構圖區(qū)域限定口101；第一凹槽10的槽口朝向精細掩膜板02；精細掩膜板02包括多個掩膜條，每個掩膜條對應一列第一凹槽10，每個掩膜條覆蓋第一凹槽10底部的構圖區(qū)域限定口101，且不完全覆蓋第一凹槽10。

本實用新型實施例提供一種掩膜板，由于掩膜板包括固定設置在框架03上、且相互貼合的開口掩膜板01和精細掩膜板02，由于開口掩膜板01上設置有第一凹槽10，因而不僅可以減輕開口掩膜板01的重力，而且第一凹槽10還可以形成應力緩沖區(qū)，防止在蒸鍍時開口掩膜板01上的構圖區(qū)域限定口101變形。在此基礎上，由于精細掩膜板02包括多個掩膜條，且掩膜條不完全覆蓋第一凹槽10，因而在清洗掩膜板時，藥液和水可以從第一凹槽10未被掩膜條覆蓋的部分流出，從而防止了藥液和水殘留在第一凹槽10內(nèi)，而影響形成圖案的質量。

優(yōu)選的，如圖9所示，開口掩膜板01的邊緣區(qū)域設置有第二凹槽20，多個掩膜條不完全覆蓋第二凹槽20。

本實用新型實施例中，由于精細掩膜板02包括多個掩膜條。且多個掩膜條不完全覆蓋第二凹槽20，因而在清洗掩膜板時，藥液和水可以從第二凹槽20未被掩膜條覆蓋的部分流出，從而防止了藥液和水殘留在第二凹槽20內(nèi)，而影響形成圖案的質量。

本實用新型實施例還提供一種基板，包括襯底基板和設置在襯底基板上的膜層，所述膜層通過上述的掩膜板形成。

本實用新型實施例提供一種基板，由于該基板是通過上述的掩膜板形成的，而上述的掩膜板包括固定在框架03上，且相互貼合的開口掩膜板01和精細掩膜板02，且開口掩膜板01上形成有第一凹槽10和/或第二凹槽20，因而形成的第一凹槽10和/或第二凹槽20不僅可以減輕開口掩膜板01的重力，還可以起到應力緩沖的作用，因而通過該掩膜板形成的膜層的精確度更高。在此基礎上，當開口掩膜板01上的第一凹槽10和/或第二凹槽20上還形成有通孔102，或者，當精細掩膜板02包括多個掩膜條，每個掩膜條不完全覆蓋第一凹槽10和/或第二凹槽20時，因而在清洗掩膜板時，還可以避免藥液和水殘留在第一凹槽10和/或第二凹槽20內(nèi)，從而可以使得形成的膜層的質量更高。

以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。