一種磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)的制作方法

本發(fā)明涉及磁控濺射鍍膜設(shè)備，尤其涉及一種磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

隨著薄膜器件性能的不斷提升，線寬越來越小，對磁控濺射膜層的要求也越來越高。多腔群集式磁控鍍膜設(shè)備可避免各靶材之間的交叉污染，但是成本昂貴，國內(nèi)大多數(shù)科研院所和企業(yè)均難以承受，在一個工藝腔室內(nèi)集成多個磁控濺射靶的鍍膜設(shè)備代替多腔群集式磁控鍍膜設(shè)備的方法被不斷采用。該方法多個濺射靶位于同一工藝腔室內(nèi)，雖然各濺射靶均配備有獨立的擋板，擋板的結(jié)構(gòu)與專利文獻(xiàn)CN 102108490 B中公開的結(jié)構(gòu)相似，該擋板機(jī)構(gòu)可以在一定程度上實現(xiàn)對濺射靶的保護(hù)，但是擋板與濺射靶之間不可避免地存在間隙，其他濺射靶在進(jìn)行濺射工藝時，靶材粒子的不規(guī)則運動會通過擋板與濺射靶之間的間隙沉積到靶材表面，對該濺射靶的靶材造成交叉污染，最終影響膜層質(zhì)量，尤其是多靶共焦濺射時，各濺射靶向同一中心偏轉(zhuǎn)一定角度，各靶材之間更加容易交叉污染。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單可靠、能夠與濺射靶緊密貼合、對濺射靶形成有效保護(hù)、減少靶材之間的交叉污染、提高沉膜質(zhì)量的磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)，包括擋板，還包括用于驅(qū)動擋板旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動組件、擋板旋轉(zhuǎn)時引導(dǎo)擋板升降的引導(dǎo)組件及用于安裝引導(dǎo)組件的支架，所述引導(dǎo)組件包括滾輪、彈性件及用于引導(dǎo)滾輪升降的引導(dǎo)板，所述滾輪和所述彈性件相對布置于所述擋板兩側(cè)，所述滾輪安裝于所述擋板上，所述引導(dǎo)板固設(shè)于所述支架上，所述彈性件抵設(shè)于所述擋板和所述支架之間。

作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：

所述引導(dǎo)板上設(shè)有引導(dǎo)區(qū)，所述引導(dǎo)區(qū)內(nèi)設(shè)有依次銜接的高定位平臺、斜坡引導(dǎo)面和低定位平臺，所述滾輪的滾動區(qū)域位于所述高定位平臺和低定位平臺之間。

所述高定位平臺和低定位平臺遠(yuǎn)離斜坡引導(dǎo)面的一側(cè)分別設(shè)有限位凸臺。

所述滾輪設(shè)有兩個，兩個滾輪對稱布置于所述驅(qū)動組件兩側(cè)，所述引導(dǎo)區(qū)均設(shè)有兩個并與兩個滾輪一一對應(yīng)。

所述驅(qū)動組件包括依次連接的驅(qū)動電機(jī)、密封軸、聯(lián)軸器及驅(qū)動軸，所述驅(qū)動軸的軸心與濺射靶的軸心平行，所述擋板安裝于所述驅(qū)動軸上。

所述彈性件為彈簧并套設(shè)于所述驅(qū)動軸上。

所述驅(qū)動軸一端為腰圓形，所述擋板上設(shè)有腰型孔并通過腰型孔安裝于所述驅(qū)動軸上。

所述聯(lián)軸器為波紋管聯(lián)軸器或彈簧聯(lián)軸器。

所述支架包括頂板、底板及用于連接頂板和底板的連接板，所述頂板和底板水平布置，所述彈性件抵設(shè)于所述擋板和所述頂板之間，所述引導(dǎo)板安裝于所述底板上。

所述擋板上還固設(shè)有防護(hù)環(huán)，所述防護(hù)環(huán)位于濺射靶外周。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點在于：本發(fā)明公開的磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)，擋板兩側(cè)分別設(shè)置彈性件和滾輪，利用彈性件的彈力作用將滾輪保持壓緊于引導(dǎo)板上，利用驅(qū)動組件帶動擋板旋轉(zhuǎn)，滾輪隨擋板轉(zhuǎn)動時在引導(dǎo)板的引導(dǎo)下升降，進(jìn)而帶動擋板升降，結(jié)構(gòu)簡單可靠，滾輪運動平穩(wěn)，擋板可與濺射靶緊密貼合或分離，從而對濺射靶形成有效保護(hù)，減少靶材之間的交叉污染，提高沉膜質(zhì)量。

附圖說明

圖1是本發(fā)明磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)開啟狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明中的引導(dǎo)組件的放大結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是本發(fā)明中的引導(dǎo)板的展開圖。

圖中各標(biāo)號表示：1、擋板；11、腰型孔；12、防護(hù)環(huán)；2、驅(qū)動組件；21、驅(qū)動電機(jī)；22、密封軸；23、聯(lián)軸器；24、驅(qū)動軸；3、引導(dǎo)組件；31、滾輪；32、彈性件；33、引導(dǎo)板；331、高定位平臺；332、斜坡引導(dǎo)面；333、低定位平臺；334、限位凸臺；4、支架；41、頂板；42、底板；43、連接板；6、濺射靶。

具體實施方式

以下將結(jié)合說明書附圖和具體實施例對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)說明。

如圖1、圖2、圖3和圖4所示，本實施例的磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)，包括擋板1、用于驅(qū)動擋板1旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動組件2、擋板1旋轉(zhuǎn)時引導(dǎo)擋板1升降的引導(dǎo)組件3及用于安裝引導(dǎo)組件3的支架4，引導(dǎo)組件3包括滾輪31、彈性件32及用于引導(dǎo)滾輪31升降的引導(dǎo)板33，滾輪31和彈性件32相對布置于擋板1兩側(cè)，滾輪31安裝于擋板1上，引導(dǎo)板33固設(shè)于支架4上，彈性件32抵設(shè)于擋板1和支架4之間，該磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)工作時，利用彈性件32的彈力作用將滾輪31保持壓緊于引導(dǎo)板33上，利用驅(qū)動組件2帶動擋板1旋轉(zhuǎn)，滾輪31隨擋板1轉(zhuǎn)動時在引導(dǎo)板33的引導(dǎo)下升降，進(jìn)而帶動擋板1升降，結(jié)構(gòu)簡單可靠，滾輪31運動平穩(wěn)，擋板1可與濺射靶6緊密貼合或分離，從而對濺射靶6形成有效保護(hù)，減少靶材之間的交叉污染，提高沉膜質(zhì)量。

本實施例中，引導(dǎo)板33上設(shè)有引導(dǎo)區(qū)，引導(dǎo)區(qū)內(nèi)設(shè)有依次銜接的高定位平臺331、斜坡引導(dǎo)面332和低定位平臺333，滾輪31的滾動區(qū)域位于高定位平臺331和低定位平臺333之間，當(dāng)滾輪31位于高定位平臺331時，擋板1位置最高、與濺射靶6緊貼，起良好的防護(hù)作用，需要打開擋板1時，滾輪31在驅(qū)動組件2的作用下隨擋板1轉(zhuǎn)動，自高定位平臺331上沿著斜坡引導(dǎo)面332逐漸滾動至低定位平臺333上，擋板1位置最低、與濺射靶6之間產(chǎn)生間隙。

本實施例中，高定位平臺331和低定位平臺333遠(yuǎn)離斜坡引導(dǎo)面332的一側(cè)分別設(shè)有一個限位凸臺334，滾輪31滾動至限位凸臺334后達(dá)到極限位置，無法繼續(xù)運動，限位凸臺334對滾輪31起到良好的限位作用，避免擋板1升降幅度過大，提高機(jī)構(gòu)的可靠性。

本實施例中，滾輪31設(shè)有兩個，兩個滾輪31對稱布置于驅(qū)動組件2兩側(cè)，可對擋板1提供更好的支撐，使擋板1運動更加平穩(wěn)、順暢，引導(dǎo)區(qū)均設(shè)有兩個并與兩個滾輪31一一對應(yīng)。

本實施例中，驅(qū)動組件2包括依次連接的驅(qū)動電機(jī)21、密封軸22、聯(lián)軸器23及驅(qū)動軸24，驅(qū)動軸24的軸心與濺射靶6的軸心平行，擋板1安裝于驅(qū)動軸24上，驅(qū)動電機(jī)21依次通過密封軸22和聯(lián)軸器23帶動驅(qū)動軸24轉(zhuǎn)動，彈性件32為彈簧并套設(shè)于驅(qū)動軸24上。

本實施例中，驅(qū)動軸24下端兩側(cè)切邊構(gòu)成腰圓形，擋板1上設(shè)有腰型孔11并通過腰型孔11安裝于驅(qū)動軸24上，使得擋板1可相對驅(qū)動軸24上下運動，而不能相對轉(zhuǎn)動，結(jié)構(gòu)簡單、實用。在其他實施例中也可采用四方頭或其他形式，能夠限制擋板1相對驅(qū)動軸24的轉(zhuǎn)動、但不影響擋板1相對驅(qū)動軸24的上下運動即可。

當(dāng)濺射靶6需要進(jìn)行角度調(diào)節(jié)時，聯(lián)軸器23可采用波紋管聯(lián)軸器或彈簧聯(lián)軸器。

本實施例中，支架4包括頂板41、底板42及用于連接頂板41和底板42的連接板43，頂板41和底板42水平布置，彈性件32抵設(shè)于擋板1和頂板41之間，引導(dǎo)板33安裝于底板42上，也即彈性件32位于擋板1的上方，滾輪31安裝于擋板1的下側(cè)，在其他實施例中，也可將彈性件32和滾輪31的位置進(jìn)行調(diào)換，對高定位平臺331、斜坡引導(dǎo)面332和低定位平臺333相應(yīng)進(jìn)行調(diào)整即可。

本實施例中，擋板1上還固設(shè)有防護(hù)環(huán)12，防護(hù)環(huán)12位于濺射靶6外周，可進(jìn)一步優(yōu)化防護(hù)效果，防護(hù)環(huán)12的高度設(shè)計應(yīng)保證擋板1升降過程中不與濺射靶6干涉即可。

本發(fā)明磁控濺射靶擋板機(jī)構(gòu)的工作原理如下：

擋板1處于關(guān)閉狀態(tài)時，即滾輪31位于高定位平臺331上，擋板1位置最高、與濺射靶6緊貼，起良好的防護(hù)作用；需要開啟擋板1時，啟動驅(qū)動電機(jī)21，驅(qū)動電機(jī)21依次通過密封軸22和聯(lián)軸器23帶動驅(qū)動軸24轉(zhuǎn)動，驅(qū)動軸24帶動擋板1及滾輪31整體轉(zhuǎn)動，滾輪31沿著斜坡引導(dǎo)面332逐漸滾動至低定位平臺333上，直至到達(dá)低定位平臺333外側(cè)的限位凸臺334，停止運動，擋板1位置最低、與濺射靶6之間產(chǎn)生間隙；需要將擋板1恢復(fù)至關(guān)閉狀態(tài)時，運動過程相反，不再贅述。

雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍的情況下，都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均應(yīng)落在本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。