本發(fā)明屬于真空薄膜加工領(lǐng)域，具體地涉及一種鎂鋁件表面高抗氧化納米涂層工藝。
背景技術(shù)：
鋁鎂件產(chǎn)品在自然條件下容易氧化發(fā)黑。當(dāng)前抗氧化技術(shù)主要是使用一些傳統(tǒng)的方式將鎂鋁件壓鑄成型后，在表面通過化學(xué)鈍化處理，再進(jìn)行表面噴漆保護(hù)，以達(dá)到鋁鎂件抗氧化效果。
但是，進(jìn)行噴漆保護(hù)后在外觀上無法直觀體現(xiàn)鎂鋁高亮金屬質(zhì)感，表面只呈現(xiàn)噴漆效果，外觀質(zhì)感差，同時噴漆也帶來了不環(huán)保等問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
針對上述存在的技術(shù)問題，本發(fā)明目的是：提供一種鎂鋁件表面高抗氧化納米涂層工藝，特別適用于鎂鋁合金壓鑄成型后，對高亮面進(jìn)行高抗氧化納米涂層保護(hù)處理，可以有效防止鎂鋁件產(chǎn)品高亮表面氧化發(fā)黑，整個涂層工藝環(huán)保無污染，可以還原金屬本色或多彩色的特性，提升金屬外觀質(zhì)感。
本發(fā)明的技術(shù)方案是：
一種鎂鋁件表面高抗氧化納米涂層工藝，其特征在于，包括以下步驟：
S01：原材料外觀品質(zhì)檢驗(yàn)：對鎂鋁件高光面及加工表面的劃痕和潔凈度進(jìn)行品質(zhì)檢查；
S02：鍍膜設(shè)備抽真空處理：將符合品質(zhì)要求的原材料定位在專用治具上，送入鍍膜設(shè)備內(nèi)進(jìn)行抽真空；
S03：離子改質(zhì)處理：設(shè)定真空壓力值，同時加入第一工作氣體，在產(chǎn)品表面進(jìn)行真空離子轟擊處理，得到產(chǎn)品A；
S04：高分子納米膜層堆疊：加入第二工作氣體，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料A，使高分子納米光學(xué)級材料A氣化，堆疊在產(chǎn)品A表面上，得到產(chǎn)品B；
S05：使用不同的高分子納米光學(xué)級材料，重復(fù)步驟S04多次，得到產(chǎn)品C；
S06：將產(chǎn)品C冷卻后，破真空取出，檢驗(yàn)合格后包裝成品。
優(yōu)選的，所述第一工作氣體為高純氬氣。
優(yōu)選的，所述第二工作氣體為高純氧氣或者高純氮?dú)狻?/p>
優(yōu)選的，所述步驟S03中真空離子轟擊處理的轟擊能量為600-800ev，轟擊時間為4-6min。
優(yōu)選的，高分子納米光學(xué)級材料為任意一種下列材料的高分子納米光學(xué)級：TiO2、SiO2、AL2O3、ZrO2、SrO。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：
1、本發(fā)明是基于光學(xué)材料本身高致密性的特點(diǎn)，在特定真空室內(nèi)，通過光學(xué)成膜技術(shù)對光學(xué)材料進(jìn)行離化，并形成高致密性涂層，與高光鎂鋁合金表面完美結(jié)合，從而保護(hù)高光鎂鋁合金表面不受外界環(huán)境影響，取得保護(hù)鎂鋁合金的作用。
2、與現(xiàn)有傳統(tǒng)鎂鋁合金表面噴漆工藝相比，本發(fā)明制備涂層整個過程中環(huán)保無污染，可以完美的還原鎂鋁高亮金屬質(zhì)感的特性，提升金屬外觀質(zhì)感。
3、本發(fā)明可通過各項(xiàng)信賴性測試要求，包括鹽霧測試72H以上，酸性、堿性人工汗液浸泡48H以上，水煮30分鐘以上及高低溫等測試要求。
4、本發(fā)明可以廣泛應(yīng)用于高光鎂鋁合金表面處理，如筆記本電腦、平板電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品上。
附圖說明
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步描述：
圖1為本發(fā)明鎂鋁件表面高抗氧化納米涂層工藝的流程圖。
具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明了，下面結(jié)合具體實(shí)施方式并參照附圖，對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)該理解，這些描述只是示例性的，而并非要限制本發(fā)明的范圍。此外，在以下說明中，省略了對公知結(jié)構(gòu)和技術(shù)的描述，以避免不必要地混淆本發(fā)明的概念。
實(shí)施例1：
本實(shí)施例以鎂鋁合金筆記本電腦外殼，主要成分為88-90%鎂+11-9%鋁，在其高亮面進(jìn)行高抗氧化納米涂層保護(hù)處理。如圖1所示，包括以下步驟：
S01：原材料外觀品質(zhì)檢驗(yàn)：對鎂鋁合金筆記本電腦外殼高光面及加工表面的劃痕和潔凈度進(jìn)行品質(zhì)檢查；
S02：鍍膜設(shè)備抽真空處理：將符合品質(zhì)要求的鎂鋁合金筆記本電腦外殼定位在專用治具上，送入鍍膜設(shè)備內(nèi)進(jìn)行抽真空；
S03：離子改質(zhì)處理：設(shè)定真空壓力值，同時加入高純氬氣，在產(chǎn)品表面進(jìn)行真空離子轟擊處理，轟擊能量為800ev，轟擊時間為4min，得到產(chǎn)品A；以達(dá)到產(chǎn)品表面清潔及表面改質(zhì)作用，提升后道納米鍍膜膜層堆疊工序最佳效果。
S04：高分子納米膜層堆疊1：加入高純氧氣，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料SiO2，使高分子納米光學(xué)級材料SiO2氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品A表面上，得到產(chǎn)品B；
S05：高分子納米膜層堆疊2：加入高純氧氣，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料ZrO2，使高分子納米光學(xué)級材料ZrO2氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品B表面上，得到產(chǎn)品C；
S06：高分子納米膜層堆疊3：加入高純氧氣，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料SiO2，使高分子納米光學(xué)級材料SiO2氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品C表面上，得到產(chǎn)品D；
S07：將產(chǎn)品D冷卻后，破真空取出，檢驗(yàn)合格后包裝成品。
實(shí)施例2：
本實(shí)施例以鎂鋁合金平板電腦外殼，主要成分為85-88%鎂+14-11%鋁，在其高亮面進(jìn)行高抗氧化納米涂層保護(hù)處理。如圖1所示，包括以下步驟：
S01：原材料外觀品質(zhì)檢驗(yàn)：對鎂鋁合金平板電腦外殼高光面及加工表面的劃痕和潔凈度進(jìn)行品質(zhì)檢查；
S02：鍍膜設(shè)備抽真空處理：將符合品質(zhì)要求的原材料定位在專用治具上，送入鍍膜設(shè)備內(nèi)進(jìn)行抽真空；
S03：離子改質(zhì)處理：設(shè)定真空壓力值，同時加入高純氬氣，在產(chǎn)品表面進(jìn)行真空離子轟擊處理，轟擊能量為700ev，轟擊時間為5min，得到產(chǎn)品A；以達(dá)到產(chǎn)品表面清潔及表面改質(zhì)作用，提升后道納米鍍膜膜層堆疊工序最佳效果。
S04：高分子納米膜層堆疊1：加入高純氮?dú)?，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料AL2O3，使高分子納米光學(xué)級材料AL2O3氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品A表面上，得到產(chǎn)品B；
S05：高分子納米膜層堆疊2：加入高純氧氣，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料SiO2，使高分子納米光學(xué)級材料SiO2氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品B表面上，得到產(chǎn)品C；
S06：將產(chǎn)品C冷卻后，破真空取出，檢驗(yàn)合格后包裝成品。
實(shí)施例3：
本實(shí)施例以鎂鋁合金手機(jī)外殼，主要成分為90-95%鎂+9-4%鋁，在其高亮面進(jìn)行高抗氧化納米涂層保護(hù)處理。如圖1所示，包括以下步驟：
S01：原材料外觀品質(zhì)檢驗(yàn)：對鎂鋁合金手機(jī)外殼高光面及加工表面的劃痕和潔凈度進(jìn)行品質(zhì)檢查；
S02：鍍膜設(shè)備抽真空處理：將符合品質(zhì)要求的鎂鋁合金手機(jī)外殼定位在專用治具上，送入鍍膜設(shè)備內(nèi)進(jìn)行抽真空；
S03：離子改質(zhì)處理：設(shè)定真空壓力值，同時加入高純氬氣，在產(chǎn)品表面進(jìn)行真空離子轟擊處理，轟擊能量為600ev，轟擊時間為6min，得到產(chǎn)品A；以達(dá)到產(chǎn)品表面清潔及表面改質(zhì)作用，提升后道納米鍍膜膜層堆疊工序最佳效果。
S04：高分子納米膜層堆疊1：加入高純氮?dú)?，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料SrO，使高分子納米光學(xué)級材料SrO氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品A表面上，得到產(chǎn)品B；
S05：高分子納米膜層堆疊2：加入高純氧氣，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料TiO2，使高分子納米光學(xué)級材料TiO2氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品B表面上，得到產(chǎn)品C；
S06：高分子納米膜層堆疊3：加入高純氧氣，電子槍通過高電壓電流，利用產(chǎn)生的電子束的高能量激活預(yù)設(shè)工位高分子納米光學(xué)級材料SiO2，使高分子納米光學(xué)級材料SiO2氣化，并不斷蒸發(fā)堆疊在產(chǎn)品C表面上，得到產(chǎn)品D；
S07：將產(chǎn)品D冷卻后，破真空取出，檢驗(yàn)合格后包裝成品。
當(dāng)然本發(fā)明的原材料不限于鎂鋁合金，也可以在金屬鎂或者金屬鋁高亮表面進(jìn)行本發(fā)明的高抗氧化納米涂層保護(hù)處理。
應(yīng)當(dāng)理解的是，本發(fā)明的上述具體實(shí)施方式僅僅用于示例性說明或解釋本發(fā)明的原理，而不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。因此，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。此外，本發(fā)明所附權(quán)利要求旨在涵蓋落入所附權(quán)利要求范圍和邊界、或者這種范圍和邊界的等同形式內(nèi)的全部變化和修改例。