1.一種調(diào)制高功率脈沖磁控濺射制備AlCrN涂層的方法，其特征在于：所述方法的具體步驟為：
將清洗后的基體，裝夾在工件架上，工件架轉(zhuǎn)速保持2～5rpm，開始抽真空，當(dāng)真空度高于1～5×10-3Pa時(shí)，開始加熱除氣，溫度控制在200～500℃，當(dāng)真空度達(dá)到1～8×10-3Pa時(shí)，通入Ar氣，真空保持在0.3～0.9Pa，對(duì)AlCr靶材進(jìn)行預(yù)濺射清洗，同時(shí)利用等離子體源對(duì)基體表面進(jìn)行等離子體清洗10～30分鐘，通N2氣流量100～300sccm，開調(diào)制高功率脈沖磁控濺射AlCr靶材，對(duì)基體加負(fù)偏壓30～200V，沉積AlCrN涂層60～180分鐘，沉積速率為0.5～1.5μm/h，沉積完涂層后自然冷卻，當(dāng)溫度降到80℃以下時(shí)，得到具有所述一種調(diào)制高功率脈沖磁控濺射制備AlCrN涂層的基體；
所述AlCr靶材成分為：Al 60～70at.％，Cr為余量；所述等離子體清洗時(shí)，等離子體源功率為3～10kW；所述調(diào)制高功率脈沖電源平均功率10kW，充電平均電壓350～650V，其中350～500V為弱電壓段，500～650V為強(qiáng)電壓段，單個(gè)電壓脈沖時(shí)間為500～1500μs，其中弱電壓段200～800μs，強(qiáng)電壓段300～700μs，頻率30～300Hz，脈沖峰值功率50～300kW,峰值電壓430～850V，峰值電流130～400A。