蒸鍍用坩堝的制作方法

本發(fā)明涉及顯示技術領域，具體地，涉及一種蒸鍍用坩堝。

背景技術：

采用蒸鍍方法制作OLED產品是目前的主流方式。為了實現量產，提高生產效率，就需要增大坩堝的體積，但是這會存在以下問題：在使用蒸鍍設備加熱蒸鍍材料的過程中，當蒸鍍材料是升華型材料時，由于升華型材料的導熱性不好，往往會造成坩堝內不同位置處的蒸鍍材料使用量不同，或者蒸鍍材料的密度分布不均勻，從而造成坩堝內蒸鍍材料的蒸發(fā)速率失控。

如圖1所示，為在加熱前，坩堝內蒸鍍材料的剖視圖。此時坩堝內不同位置處的蒸鍍材料基本呈均勻分布，即，蒸鍍材料的表面平整，且密度分布均勻。當開始加熱之后，坩堝內的蒸鍍材料開始不斷的揮發(fā)，由于升華型材料的導熱性不好，材料揮發(fā)不均勻，容易出現如圖2和圖3中所示的現象：靠近坩堝內壁的材料的蒸發(fā)速率較快，而中間的材料的蒸發(fā)速率較慢，從而導致造成坩堝的蒸發(fā)速率失控?；蛘撸翦儾牧系拿芏确植疾痪鶆?，其內部出現裂紋的現象。

技術實現要素：

本發(fā)明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提出了一種蒸鍍用坩堝，其可以避免蒸鍍材料的蒸發(fā)速率失控，從而可以提高工藝的穩(wěn)定性。

為實現本發(fā)明的目的而提供一種蒸鍍用坩堝，包括加熱腔和設置在所述加熱腔頂部的頂蓋，還包括材料清理裝置，所述材料清理裝置可升降的設置在所述加熱腔內的頂部，且能夠通過下落壓實所述加熱腔內的蒸鍍材料。

可選的，所述材料清理裝置包括：

壓實部件，用于壓實所述加熱腔內的蒸鍍材料；

升降機構，用于驅動所述壓實部件上升或者下降。

優(yōu)選的，所述壓實部件的外周壁與所述加熱腔的內周壁可滑動的配合。

優(yōu)選的，分別對應地在所述壓實部件的外周壁與所述加熱腔的內周壁上設置有凹槽和滑塊，其中，

所述凹槽沿豎直方向設置；

所述滑塊位于所述凹槽內，且在所述壓實部件上升或者下降時，沿所述凹槽滑動。

優(yōu)選的，所述凹槽的開口寬度小于所述凹槽的底面寬度；

所述滑塊的橫截面形狀與所述凹槽的橫截面形狀相對應。

優(yōu)選的，在所述頂蓋上設置有第一材料發(fā)射孔，在所述壓實部件上設置有第二材料發(fā)射孔，所述第一材料發(fā)射孔和所述第二材料發(fā)射孔的直徑相同，且同軸設置，用以排出所述加熱腔內的氣體。

優(yōu)選的，所述升降機構包括：

牽引馬達，設置在所述加熱腔的外部；

牽引線，所述牽引線的一端與所述牽引馬達連接，所述牽引線的另一端豎直貫穿所述頂蓋，并與所述壓實部件連接。

優(yōu)選的，所述升降機構還包括滑輪，所述滑輪設置在所述頂蓋的頂部，所述牽引線伸出所述頂蓋的部分繞過所述滑輪，且沿水平方向或者傾斜向上或者傾斜向下延伸，并與所述牽引馬達連接。

優(yōu)選的，所述升降機構包括至少兩套，所述至少兩套升降機構相對于所述頂蓋豎直方向上的中心軸對稱分布。

優(yōu)選的，所述壓實部件所采用的材料包括陶瓷或金屬。

優(yōu)選的，當所述壓實部件位于所述加熱腔內的頂部時，所述壓實部件的頂部高度比所述加熱腔的頂部高度低第一預設距離；所述第一預設距離是所述加熱腔豎直方向上的總長度的十分之一；

所述壓實部件的底部高度比所述加熱腔的底部高度高第二預設距離；所述第二預設距離是所述加熱腔豎直方向上的總長度的二十分之一。

優(yōu)選的，還包括：

上加熱絲，環(huán)繞設置在所述加熱腔的周圍，且位于所述加熱腔頂部，用以加熱所述加熱腔內、所述材料清理裝置所在區(qū)域；

下加熱絲，環(huán)繞設置在所述加熱腔的周圍，且位于所述加熱腔的底部，用以加熱所述加熱腔內、所述蒸鍍材料所在區(qū)域。

本發(fā)明具有以下有益效果：

本發(fā)明提供的蒸鍍用坩堝，其通過在其加熱腔內的頂部設置材料清理裝置，該材料清理裝置是可升降的，且能夠通過下落壓實加熱腔內的蒸鍍材料，從而可以使坩堝內蒸鍍材料的表面平整，且在不同位置處的密度分布均勻，進而可以避免蒸鍍材料的蒸發(fā)速率失控，提高工藝的穩(wěn)定性。

附圖說明

圖1為加熱前坩堝內蒸鍍材料的示意圖；

圖2為蒸鍍材料蒸鍍速率不均的示意圖；

圖3為蒸鍍材料密度分布不均的示意圖；

圖4A為本發(fā)明第一實施例提供的蒸鍍用坩堝的剖視圖；

圖4B為圖4A中沿A-A線的剖視圖；

圖5為本發(fā)明第一實施例提供的蒸鍍用坩堝在材料清洗裝置工作時的剖視圖；以及

圖6為本發(fā)明第二實施例提供的蒸鍍用坩堝的剖視圖。

具體實施方式

為使本領域的技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結合附圖來對本發(fā)明提供的蒸鍍用坩堝進行詳細描述。

圖4A為本發(fā)明第一實施例提供的蒸鍍用坩堝的剖視圖。圖4B為圖4A中沿A-A線的剖視圖。圖5為本發(fā)明第一實施例提供的蒸鍍用坩堝在材料清洗裝置工作時的剖視圖。請一并參閱圖4A、圖4B和圖5，蒸鍍用坩堝包括加熱腔10、設置在該加熱腔10頂部的頂蓋11以及材料清理裝置。其中，加熱腔10用于對盛放在其內部的蒸鍍材料進行加熱。加熱腔10和頂蓋11密封連接，以使加熱腔10的內部能夠形成真空環(huán)境。

材料清理裝置可升降的設置在加熱腔10內的頂部，且能夠通過下落壓實加熱腔10內的蒸鍍材料。所謂壓實，是指材料清理裝置通過自身的重力作用或者加速度作用，下落至蒸鍍材料上，以向該蒸鍍材料施加向下的壓力，該壓力能夠使該蒸鍍材料的表面平整，且在不同位置處的密度分布均勻。

材料清理裝置包括壓實部件12和升降機構。其中，壓實部件12用于壓實加熱腔10內的蒸鍍材料，其可以采用諸如陶瓷或金屬等的耐高溫材料制作。升降機構用于驅動壓實部件12上升或者下降。在對蒸鍍材料進行加熱時，可以通過升降機構驅動壓實部件12上升至圖4A中的位置，即，加熱腔10內的頂部。在需要對蒸鍍材料進行清理時，例如在加熱過程中若發(fā)現加熱腔10內的溫度出現波動，則可以暫停加熱，并通過升降機構驅動壓實部件12下落至圖5中的位置，即，下落至蒸鍍材料上，從而實現對蒸鍍材料的清理。

具體地，在本實施例中，加熱腔10為圓柱形環(huán)體，與之相對應的，壓實部件12為圓柱體，并且加熱腔10的內徑與壓實部件12的外徑相適配，以實現壓實部件12的外周壁與加熱腔10的內周壁能夠可滑動的配合，從而在壓實部件12下落至蒸鍍材料上時，壓實部件12的下表面能夠完全覆蓋蒸鍍材料的上表面，從而可以均勻地壓實蒸鍍材料。當然，在實際應用中，加熱腔10和壓實不僅12還可以采用其他任意結構，只要能夠實現壓實部件12的外周壁與加熱腔10的內周壁可滑動的配合即可。

優(yōu)選的，如圖4B所示，分別對應地在壓實部件12的外周壁與加熱腔10的內周壁上設置有凹槽121和滑塊101，其中，凹槽121沿豎直方向設置，滑塊101位于該凹槽121內，且在壓實部件12上升或者下降時，沿該凹槽121滑動。借助凹槽121和滑塊101，可以在壓實部件12上升或者下降時，對壓實部件12起到導向作用，限制壓實部件12扭轉或傾斜。

進一步優(yōu)選的，上述凹槽121的開口寬度小于凹槽121的底面寬度，如圖4B所示，凹槽121的橫截面形狀類似“燕尾槽”的橫截面形狀。而且，滑塊101的橫截面形狀與凹槽121的橫截面形狀相對應，也為類似“燕尾槽”的橫截面形狀。通過使凹槽121的開口寬度小于凹槽121的底面寬度，可以使凹槽121限制滑塊101在壓實部件12的徑向上的移動自由度，從而可以避免滑塊101脫離凹槽121，以提高結構的穩(wěn)定性。

在本實施例中，在頂蓋11上設置有第一材料發(fā)射孔112，在壓實部件12上設置有第二材料發(fā)射孔122，第一材料發(fā)射孔112和第二材料發(fā)射孔122的直徑相同，且同軸設置。在對蒸鍍材料進行加熱時，壓實部件12位于圖4A中的位置，蒸鍍材料蒸發(fā)出的氣體由下而上依次通過第二材料發(fā)射孔122和第一材料發(fā)射孔112排出加熱腔10。而且，通過使第一材料發(fā)射孔112和第二材料發(fā)射孔122的直徑相同，且同軸設置，可以保持氣流的穩(wěn)定性，從而可以確保成膜的均勻性。

優(yōu)選的，當壓實部件12位于圖4A中的位置時，壓實部件12的頂部高度比加熱腔10的頂部高度低第一預設距離，該第一預設距離是加熱腔10豎直方向上的總長度的十分之一。也就是說，當壓實部件12位于圖4A中的位置時，壓實部件12的上表面與加熱腔10的上端之間的豎直間距是加熱腔10豎直方向上的總長度的十分之一。同時，壓實部件12的底部高度比加熱腔10的底部高度高第二預設距離，該第二預設距離是加熱腔10豎直方向上的總長度的二十分之一。也就是說，當壓實部件12位于圖4A中的位置時，壓實部件12的上表面與加熱腔10的下端之間的豎直間距是加熱腔10豎直方向上的總長度的二十分之一。通過實驗驗證，在加熱蒸鍍材料時，這樣的設置方式不僅可以起到穩(wěn)定加熱腔10頂部的溫度的作用，從而避免蒸鍍材料聚集，而且還可以避免加熱腔10底部的溫度過高。

在本實施例中，升降機構包括牽引馬達14、牽引線13和滑輪15。其中，牽引馬達14設置在頂蓋11的上方，且位于其外圍，以避免干擾自第一材料發(fā)射孔112排出的氣體的流動方向。而且，在頂蓋11上，且位于第一材料發(fā)射孔112的外圍還設置有牽引孔111，牽引線13的一端與牽引馬達14連接，牽引線13的另一端通過牽引孔111豎直穿過頂蓋11，并與壓實部件12連接?；?5設置在頂蓋11的頂部，牽引線13伸出頂蓋11的部分繞過滑輪15，且沿水平方向延伸，并與牽引馬達14連接。

在需要對蒸鍍材料進行清理時，牽引馬達14通過正向旋轉放出牽引線13，使壓實部件12下落。然后，牽引馬達14通過反向旋轉回收牽引線13，以使壓實部件12重新回升至加熱腔10內的頂部。

借助滑輪15，可以在不磨損牽引線13的前提下，改變牽引線13伸出頂蓋11的部分的方向，從而可以實現將牽引馬達14設置在頂蓋11的外圍，以避免干擾自第一材料發(fā)射孔112排出的氣體的流動方向。

另外，在實際應用中，根據牽引馬達14相對于頂蓋11的高度不同，牽引線13伸出頂蓋11的部分在繞過滑輪15之后，還可以沿傾斜向上或者傾斜向下的方向延伸，并與牽引馬達14連接。

在本實施例中，上述升降機構包括兩套，兩套升降機構相對于頂蓋11豎直方向上的中心軸對稱分布，以使壓實部件12的受力均勻。當然，在實際應用中，升降機構還可以包括三套或者四套以上，且相對于頂蓋11豎直方向上的中心軸對稱分布。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的蒸鍍用坩堝，其通過在其加熱腔內的頂部設置材料清理裝置，該材料清理裝置是可升降的，且能夠通過下落壓實加熱腔內的蒸鍍材料，從而可以使坩堝內蒸鍍材料的表面平整，且在不同位置處的密度分布均勻，進而可以避免蒸鍍材料的蒸發(fā)速率失控，提高工藝的穩(wěn)定性。

圖6為本發(fā)明第二實施例提供的蒸鍍用坩堝的剖視圖。請參閱圖6，在上述第一實施例的基礎上，本實施例提供的蒸鍍用坩堝還包括上加熱絲16和下加熱絲17。其中，上加熱絲16環(huán)繞設置在加熱腔10內部空間的周圍，且位于加熱腔10頂部，用以加熱加熱腔10內、材料清理裝置所在區(qū)域。下加熱絲17環(huán)繞設置在加熱腔10內部空間的周圍，且位于加熱腔10的底部，用以加熱加熱腔10內、蒸鍍材料所在區(qū)域。

在對蒸鍍材料進行加熱時，可以通過升降機構驅動壓實部件12上升至圖4A中的位置，即，加熱腔10內的頂部，然后接通下加熱絲17，對蒸鍍材料進行加熱。在需要對蒸鍍材料進行清理時，則暫停加熱，并通過升降機構驅動壓實部件12下落至圖5中的位置，即，下落至蒸鍍材料上，從而實現對蒸鍍材料的清理。然后，通過升降機構驅動壓實部件12重新回升至加熱腔10內的頂部，并接通上加熱絲16，對壓實部件12進行加熱，以使粘附在其上的材料揮發(fā)。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。