一種電子元件雙面鍍膜裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種電子元件雙面鍍膜裝置，包括輸送機構、設置在輸送機構上的輸送平臺、以及若干設置在輸送機構上方的上濺射靶和若干設置在輸送機構下方的下濺射靶；所述輸送平臺上設置有用于放置電子元件的若干放置孔；所述上濺射靶為旋轉圓柱濺射靶，所述下濺射靶為旋轉形圓柱濺射靶；所述輸送機構包括若干長傳動輥和若干短傳動輥，所述短傳動輥設置在所述輸送平臺寬度方向的兩側；所述短傳動輥與下濺射靶設置在同一豎直平面上。本實用新型采用旋轉的圓柱濺射靶，保證了鍍膜的質量，防止轉動輥遮擋到濺射靶，而導致鍍膜不均勻現(xiàn)象。本實用新型鍍膜效率高，鍍膜質量好，全自動化控制，大大減小了工作的工作量，而且減小了人為導致的次品。
【專利說明】一種電子元件雙面鍍膜裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于連接鍍膜設置的【技術領域】，具體涉及一種電子元件雙面鍍膜裝置。
【背景技術】
[0002]目前連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的基片傳動方式主要有兩種，一種是可雙面鍍膜的立式，另一種是臥式單面鍍膜。由于電子元件的基片形狀與尺寸關系，立式鍍膜效果不好，基本上都是臥式單面鍍膜為主，一般是平面靶安裝在上方向下濺射，電子元件從濺射靶下方平行單向移動，實現(xiàn)鍍膜。如果需要雙面鍍膜，只能采用先鍍完元件的一面，翻轉電子元件后，再鍍另一面的作業(yè)方式。這樣的工作效率低，浪費能源，而且生產(chǎn)流程中工序多，良率會下降。
[0003]常規(guī)平面靶如果安裝在下方，向上濺射時很容易出現(xiàn)脫落的膜層雜物掉在靶材表面，導致膜料成分受到污染影響膜層質量。
實用新型內容
[0004]為了克服上述電子元件雙面鍍膜效率低，良率低的技術缺陷，本實用新型提供一種鍍膜質量高、全自動的電子元件雙面鍍膜裝置。
[0005]為了解決上述問題，本實用新型按以下技術方案予以實現(xiàn)的:
[0006]本實用新型所述包括輸送機構、輸送平臺、以及若干設置在輸送機構上方的上濺射靶和若干設置在輸送機構下方的下濺射靶；所述輸送平臺上設置有用于放置電子元件的若干放置孔；
[0007]所述上濺射靶與下濺射靶均為旋轉圓柱形濺射靶；
[0008]所述輸送機構包括長傳動輥和短傳動輥，其中短傳動輥與下濺射靶設置在同一豎直平面上，目的是除了滿足傳動支撐，還有避免遮擋濺射區(qū)域。
[0009]進一步地，為了方便上料和下料，所述電子元件通過夾具固定，所述夾具包括用于遮擋電子元件的上夾板與下夾板以及用于固定電子元件的中間定位板。上夾板和下夾板將電子元件不需要鍍膜的位置遮擋，將面要鍍膜的位置顯露出來，中間定位板將電子元件定位固定。
[0010]進一步地，所述輸送機構前端設置有用于控制所述上濺射靶和所述下濺射靶開啟的第一行程開關，所述輸送機構末端設置有用于控制所述上濺射靶和所述下濺射靶關閉的第二行程開關，使得輸送平臺進入鍍膜區(qū)域時，觸碰第一行程開關，開啟上濺射靶和下濺射靶，輸送平臺離開鍍膜區(qū)域時，觸碰第二行程開關，關閉上濺射靶和下濺射靶。
[0011]進一步地，由于鍍膜環(huán)境需要的溫度非常高，所述第一行程開關和第二行程開關均為耐高溫開關。
[0012]與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是:
[0013]本實用新型采用旋轉的圓柱濺射靶，使掉落在濺射靶上的雜物，濺射靶轉動，使其自動掉落，并且合理設置傳動輥，使用長傳動輥與短傳動輥間隔設置，短傳動輥支承輸送平臺兩側，避免了傳動輥遮擋濺射靶濺射的問題。在鍍膜區(qū)域的前端和末端設置行程開關，使得輸送平臺進入鍍膜區(qū)時自動觸碰第一行程開關，上濺射靶和下濺射靶開啟，進行濺射鍍膜，當輸送平臺離開鍍膜區(qū)域，觸碰到第二行程開關，上濺射靶和下濺射靶關閉，停止濺射鍍膜，實現(xiàn)全自動化，而且能同時雙面鍍膜，效率高，減小工人工作量，并且保證了鍍膜高品質。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]下面結合附圖對本實用新型的【具體實施方式】作進一步詳細的說明，其中:
[0015]圖1是本實用新型所述電子元件雙面鍍膜裝置的工作示意圖；
[0016]圖2是本實用新型所述電子元件雙面鍍膜裝置的傳動示意圖。
[0017]圖中:1-上濺射靶，2-輸送平臺，3-輸送機構，31-短傳動輥，32-長傳動輥，4_下濺射靶，5-第一行程開關，6-第二行程開關。
【具體實施方式】
[0018]以下結合附圖對本實用新型的優(yōu)選實施例進行說明，應當理解，此處所描述的優(yōu)選實施例僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。
[0019]如圖1?圖2所示，本實用新型所述電子元件雙面鍍膜裝置，包括輸送機構3、設置在輸送機構3上的輸送平臺2、以及若干設置在輸送機構3上方的上濺射靶1和若干設置在輸送機構3下方的下濺射靶4 ;所述輸送平臺2上設置有用于放置電子元件的若干放置孔21 ；
[0020]所述上濺射靶1為旋轉圓柱濺射靶，所述下濺射靶4為旋轉形圓柱濺射靶；
[0021]所述輸送機構3包括長傳動輥32和短傳動輥31，所述短傳動輥31支撐所述輸送平臺2寬度方向的兩側；所述短傳動輥32與下濺射靶4設置在同一豎直平面上，預留下濺射靶4噴出的鍍膜通過的空間。
[0022]所述電子元件通過夾具固定，所述夾具包括用于遮擋電子元件的上夾板與下夾板以及用于固定電子元件的中間定位板。
[0023]所述輸送機構3前端設置有用于控制所述上濺射靶1和所述下濺射靶4開啟的第一行程開關5，所述輸送機構3末端設置有用于控制所述上濺射靶1和所述下濺射靶4關閉的第二行程開關6。所述第一行程開關5和第二行程開關6均為耐高溫開關。
[0024]本實用新型所述電子元件雙面鍍膜的工作原理是:
[0025]將電子元件固定在夾具上，并將夾具放置在輸送平臺2的放置孔21內，輸送平臺2經(jīng)過粗抽真空、精抽真空、離子清潔、預加熱，進入鍍膜區(qū)域，輸送平臺2觸碰第一行程開關5，上濺射靶1和下濺射靶4開啟，輸送機構切換到底膜傳動速度，輸送平臺緩慢地在鍍膜裝置上傳送，上濺射靶1和下濺射靶4向輸送平臺的電子元件濺射膜料，開始鍍膜，當輸送平臺離開鍍膜區(qū)域，觸碰到第二行程開關6，上濺射靶1和下濺射靶4關閉，停止濺射膜料，同時輸送機構的速度切換到快速進給，其依次通過降溫、破真空區(qū)域，到達下料架，完成整個鍍膜過程。
[0026]本實用新型在輸送機構上、下分別設置濺射靶，實現(xiàn)同時雙面鍍膜，采用旋轉的圓柱濺射靶，使掉落到下濺射靶上的雜質，能在下濺射靶自轉過程中自動脫落，保證了鍍膜的質量，并且輸送機構采用長轉動輥和短轉動輥配合使用，為下層鍍膜提供空間，防止轉動輥遮擋到濺射靶，而導致鍍膜不均勻現(xiàn)象。本實用新型鍍膜效率高，鍍膜質量好，全自動化控制，大大減小了工作的工作量，而且減小了人為導致的次品。
[0027]本實施例所述電子元件雙面鍍膜的其它結構參見現(xiàn)有技術。
[0028]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，故凡是未脫離本實用新型技術方案內容，依據(jù)本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。
【權利要求】
1.一種電子元件雙面鍍膜裝置，其特征在于:包括輸送機構、輸送平臺、以及若干設置在輸送機構上方的上濺射靶和若干設置在輸送機構下方的下濺射靶；所述輸送平臺上設置有用于放置電子元件的若干放置孔； 所述上濺射靶與下濺射靶均為旋轉圓柱形濺射靶； 所述輸送機構包括長傳動輥和短傳動輥，其中短傳動輥與下濺射靶設置在同一豎直平面上。
2.根據(jù)權利要求1所述電子元件雙面鍍膜裝置，其特征在于:所述電子元件通過夾具固定，所述夾具包括用于遮擋電子元件的上夾板與下夾板以及用于固定電子元件的中間定位板。
3.根據(jù)權利要求1所述電子元件雙面鍍膜裝置，其特征在于:所述輸送機構前端設置有用于控制所述上濺射靶和所述下濺射靶開啟的第一行程開關，所述輸送機構末端設置有用于控制所述上濺射靶和所述下濺射靶關閉的第二行程開關。
4.根據(jù)權利要求3所述電子元件雙面鍍膜裝置，其特征在于:所述第一行程開關和第二行程開關均為耐高溫開關。
【文檔編號】C23C14/34GK204162775SQ201420652357
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年11月4日 優(yōu)先權日:2014年11月4日
【發(fā)明者】潘振強, 朱宇彬 申請人:肇慶市振華真空機械有限公司