冷卻裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種結(jié)構(gòu)簡單的冷卻裝置。其可根據(jù)處理對象的姿勢有效地冷卻處理對象。所述冷卻裝置（RU1）具有冷凍機(jī)（2）和由冷凍機(jī)冷卻的冷卻面板（1），使冷卻面板的主面（1a）與處理對象（S）接近或接觸從而冷卻處理對象。以冷卻面板的主面與處理對象接近或接觸時(shí)冷卻面板的姿勢為第一姿勢，以冷卻面板的主面從處理對象分離時(shí)冷卻面板的姿勢為第二姿勢，冷卻面板設(shè)置在處理室內(nèi)，在第一姿勢和第二姿勢之間自由擺動，并且冷卻面板是第一姿勢和第二姿勢中至少一種時(shí)冷凍機(jī)的冷卻頭（21）與冷卻面板接觸，通過熱傳遞冷卻冷卻面板。
【專利說明】冷卻裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種冷卻裝置，其具有冷凍機(jī)和由該冷凍機(jī)冷卻的冷卻面板，在配置有處理對象的處理室內(nèi)使冷卻面板的主面接近或接觸處理對象從而冷卻處理對象。
【背景技術(shù)】
[0002]例如，在平板顯示器面板的制造步驟中，作為處理對象的玻璃基板被依次傳送到熱處理裝置、成膜裝置或干蝕刻裝置等各種真空處理裝置，并對該玻璃基板表面分別實(shí)施各種處理。此處，以成膜處理為例進(jìn)行說明，成膜處理中通常使用濺鍍(以下稱為“濺射”)裝置，在濺射裝置中，將由保持裝置保持在真空處理室(下稱“處理室”)內(nèi)的玻璃基板和根據(jù)要成膜的薄膜成分而形成的靶相對配置，在處理室內(nèi)形成等離子氣氛使稀有氣體的離子向著靶加速碰撞，由此使產(chǎn)生的濺射粒子(靶原子)散射，附著、堆積到基板表面而成膜。濺射成膜時(shí)，由于濺射粒子與基板表面的碰撞或等離子體的輻射熱導(dǎo)致基板溫度上升。一旦基板溫度上升，則其特性因在基板表面形成的薄膜而變化，所以成膜中需要冷卻基板。以往，作為在處理室內(nèi)冷卻基板的冷卻裝置，已知例如專利文獻(xiàn)I中的在緊密保持基板的臺架內(nèi)設(shè)置使冷卻水循環(huán)的機(jī)構(gòu)，通過和臺架的熱交換冷卻基板的裝置。
[0003]然而，將處理對象依次傳送到各種真空處理裝置進(jìn)行各種處理時(shí)，由于各處理裝置的布局或處理對象品質(zhì)管理等原 因，有時(shí)傳送時(shí)的處理對象的姿勢和在各處理裝置上實(shí)施規(guī)定處理時(shí)的姿勢(在上述濺射裝置的例子中，是使玻璃基板的處理面與靶相對的姿勢)彼此不同。因此，對于分別包括在各種處理裝置內(nèi)的冷卻裝置，近年來需要的是一種通用性高的產(chǎn)品，其具有在該處理裝置內(nèi)對應(yīng)處理對象的姿勢而改變姿勢，能更有效地使處理對象冷卻的結(jié)構(gòu)。在這種情況下，如上述以往例，在使冷卻水循環(huán)通過緊密保持著處理對象的臺架的裝置上，需要的是即便在改變臺架的姿勢時(shí)冷卻水也不會漏出的結(jié)構(gòu)，存在部件數(shù)量增加使裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜化的問題。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)I專利公開2008 - 281958號公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】
[0007]發(fā)明要解決的技術(shù)問題
[0008]鑒于以上內(nèi)容，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種具有通用性的冷卻裝置，其結(jié)構(gòu)簡單，可根據(jù)處理對象的姿勢改變姿勢并有效地冷卻該處理對象。
[0009]解決技術(shù)問題的手段
[0010]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的冷卻裝置，其特征在于:具有冷凍機(jī)和由該冷凍機(jī)冷卻的冷卻面板，在配置有處理對象的處理室內(nèi)使冷卻面板的主面接近或接觸處理對象冷卻處理對象，以冷卻面板的主面與處理對象接近或接觸時(shí)的冷卻面板的姿勢為第一姿勢，以冷卻面板的主面與處理對象分離時(shí)的冷卻面板的姿勢為第二姿勢，冷卻面板在第一姿勢和第二姿勢之間可自由擺動地設(shè)置在處理室內(nèi)，并且冷卻面板是第一姿勢和第二姿勢中至少一種時(shí)，冷凍機(jī)的冷卻部與冷卻面板接觸通過熱傳遞使冷卻面板冷卻。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的冷卻裝置，由冷卻面板和冷凍機(jī)構(gòu)成，冷卻面板設(shè)置為可自由擺動，由于可根據(jù)在組裝本發(fā)明的冷卻裝置的各種真空處理室內(nèi)的處理對象的姿勢來使冷卻面板擺動改變其姿勢，所以通用性高。而且，因?yàn)橹灰哂兄辽賰H在冷卻面板改變姿勢時(shí)使冷凍機(jī)的冷卻部分回縮的結(jié)構(gòu)即可，所以無需如上述以往例那樣，設(shè)置用于防止冷卻水泄漏的復(fù)雜結(jié)構(gòu)，可簡化冷卻裝置自身的結(jié)構(gòu)。另外，例如，也可以如下方式使用上述冷卻裝置，預(yù)先將本發(fā)明的冷卻裝置的冷卻面板設(shè)置在真空處理裝置內(nèi)，直到將處理對象傳送到真空處理裝置內(nèi)為止，將冷卻面板設(shè)置為不阻礙順暢傳送處理對象的姿勢，使處理對象保持傳送時(shí)的姿勢裝入真空處理裝置內(nèi)后，即根據(jù)裝入真空處理裝置內(nèi)的處理對象的姿勢，擺動冷卻面板變?yōu)槭蛊渲髅媾c處理對象接近或接觸的姿勢。
[0012]此時(shí)，優(yōu)選具有安裝有所述冷卻面板上的旋轉(zhuǎn)軸、驅(qū)動該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動裝置、以及驅(qū)動所述冷卻部相對所述冷卻面板自由進(jìn)退的第二驅(qū)動裝置，采用由第一驅(qū)動裝置驅(qū)動旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，并且在冷卻面板分別采取第一姿勢和第二姿勢時(shí)由第二驅(qū)動裝置使冷卻部與冷卻面板接觸的結(jié)構(gòu)。由此，可實(shí)現(xiàn)只在采取第一姿勢和第二姿勢中的一種姿勢時(shí)，冷卻面板由冷凍機(jī)可靠地冷卻的結(jié)構(gòu)。
[0013]然而，當(dāng)處理對象是像平板顯示器面板用的玻璃基板那樣處理面的面積很大的情況下，以往使用的是冷卻面板自身也和玻璃基板具有相同的面積的大型的產(chǎn)品，但是用冷凍機(jī)冷卻該冷卻面板時(shí)，冷卻面板自身產(chǎn)生溫度變化，所以不能均勻地冷卻玻璃基板。因此，優(yōu)選在旋轉(zhuǎn)軸的軸方向上存在間隔地配置多臺冷凍機(jī)。由此，通過從軸方向的多處同時(shí)對冷卻面板進(jìn)行冷卻，抑制冷卻面板自身發(fā)生溫度變化，進(jìn)而可使處理對象在其整個(gè)面上均勻冷卻。另外，也可設(shè)置為除在旋轉(zhuǎn)軸的軸方向上存在間隔地配置多臺冷凍機(jī)外，再在與旋轉(zhuǎn)軸的軸方向正交的方向上存在間隔且在軸方向存在間隔地配置多臺冷凍機(jī)。
[0014]再有，冷卻面板優(yōu)選還具有圍繞處理對象的外周面的圍繞部。由此，即便處理對象是平板顯示器面板用的大面積玻璃基板的情況下，也可以可靠地冷卻到處理對象的外周緣部。
[0015]進(jìn)而，所述冷卻面板由多塊面板體并列設(shè)置在同一平面內(nèi)構(gòu)成，所述冷卻面板的面積大于等于處理對象的與其相對面的面積，所述面板體的面積小于所述相對面的面積。優(yōu)選與所述冷卻面板的面板體分別對應(yīng)設(shè)置冷凍機(jī)。由此，即便是因冷凍機(jī)的個(gè)體差異而導(dǎo)致對冷卻面板的傳熱量存在差異的情況下，只要控制各冷凍機(jī)，就可使各冷卻面板的溫度大致固定，乃至可以可靠地使處理對象在其整個(gè)面上均勻冷卻。
[0016]再有，在本發(fā)明中，所述冷卻面板優(yōu)選具有固定面板,所述固定面板隨時(shí)與冷凍機(jī)接觸；可動面板；連接件，所 述連接件以該固定面板為旋轉(zhuǎn)中心擺動可動面板。由此，當(dāng)可動面板上處理對象的負(fù)載發(fā)揮作用時(shí)冷卻面板在第一姿勢和第二姿勢之間自由擺動，可省去驅(qū)動冷凍機(jī)的機(jī)構(gòu)，可設(shè)置成更簡單的結(jié)構(gòu)。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0017]圖1是本發(fā)明第一實(shí)施方式的冷卻裝置的側(cè)面圖。
[0018]圖2是圖1所示冷卻裝置的平面圖。[0019]圖3 (a)及(b)是說明冷卻面板的變形例的平面圖及剖面圖。
[0020]圖4是示出本發(fā)明的第二實(shí)施方式的冷卻裝置的結(jié)構(gòu)的平面圖。
[0021]圖5 (a)~(C)是確認(rèn)本發(fā)明的效果的實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖表。
[0022]圖6是本發(fā)明第三實(shí)施方式的冷卻裝置的側(cè)面圖。
[0023]圖7是省略圖1所示的冷卻裝置的一部份而示出的平面圖。
【具體實(shí)施方式】[0024]下面參照附圖，以矩形的玻璃基板為處理對象，說明組裝在濺鍍裝置或蝕刻裝置等真空處理裝置中的本發(fā)明的冷卻裝置的第一實(shí)施方式。另外，處理對象如果是在真空處理裝置內(nèi)進(jìn)行規(guī)定處理的情況下需要冷卻的物質(zhì)的話，則也不限定于上述基板，例如在硅晶片等其他基板之外也可用于防沉積板等的冷卻。下面，以在真空處理裝置內(nèi)將玻璃基板的處理面沿著鉛垂方向裝入并施以規(guī)定處理時(shí)的姿勢為第一姿勢，以玻璃基板的處理面沿水平方向的姿勢為第二姿勢來進(jìn)行說明。再有，如無特別限定，示出“上”、“下”、“左”、“右”等方向的用語以圖1為準(zhǔn)。
[0025]參照圖1及圖2，RU1是組裝在圖外的真空處理裝置內(nèi)的冷卻裝置。冷卻裝置RU1具有配置在圖外的真空處理裝置內(nèi)的自由擺動的冷卻面板1，以及與冷卻面板I接觸將該冷卻面板I冷卻到規(guī)定溫度的冷凍機(jī)2。冷凍機(jī)2具有作為冷卻部的冷卻頭21，以及具有壓縮機(jī)、冷凝器及膨脹閥的冷凍機(jī)本體22。冷卻頭21在其最上部具有熱傳導(dǎo)性良好的金屬制冷卻板21a，通過使圖外的熱交換器提供給冷凍機(jī)本體22的制冷劑循環(huán)，來使含有冷卻板21a的冷卻頭21隨時(shí)冷卻并保持在規(guī)定溫度。另外，由于可使用公知結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為冷凍機(jī)2，所以在此省略對此的詳細(xì)說明。而且，冷卻頭21配置在真空處理裝置內(nèi)。在該情況下，冷卻頭21設(shè)置在氣缸23的驅(qū)動軸23a上端，所述氣缸23作為第一驅(qū)動裝置貫通圖外的真空處理裝置的壁面而設(shè)置，通過氣缸23使驅(qū)動軸23a上下動作，以此使冷卻頭21可相對于冷卻面板I進(jìn)退，即接近或遠(yuǎn)離。另外，在真空處理裝置的壁面上設(shè)置波紋管等真空密封件。
[0026]再有，如圖2所示，設(shè)置有多枚冷卻頭21，存在間隔地配置在下文提到的旋轉(zhuǎn)軸的軸方向上，可使冷卻面板I在其整個(gè)面上均勻冷卻，乃至可使玻璃基板S在其整個(gè)面上有效且均勻地冷卻。該情況下的冷凍機(jī)2的數(shù)量，考慮冷卻面板I的材質(zhì)和下文提到的主面Ia的面積、在真空處理裝置內(nèi)實(shí)施的處理過程中給玻璃基板S的熱輸入量等，而適當(dāng)設(shè)置。再有，也可設(shè)置為在從圖外的熱交換器向各冷卻頭21供給制冷劑時(shí)，根據(jù)處理時(shí)的玻璃基板S的冷卻溫度由多個(gè)熱交換器進(jìn)行。冷卻頭21也可設(shè)置為根據(jù)玻璃基板W的冷卻溫度，只在冷卻面板I為第一姿勢和第二姿勢中的任一姿勢時(shí)冷卻。
[0027]另一方面，冷卻面板I由具有大于等于玻璃基板S的面積的熱傳導(dǎo)性良好的材質(zhì)，例如選自銅或鋁的金屬或以該金屬為主要成分的合金制成的平面視圖為矩形的板狀部件構(gòu)成，與玻璃基板S相對的冷卻面板I的一側(cè)的面(在第二姿勢時(shí)為上面)成為主面la。如圖1所示，在冷卻面板I上，在第二姿勢的右側(cè)端，設(shè)置有使其端面彎曲成大致直角的第一接觸部lb，與該第一接觸部Ib相連設(shè)置有使該端面進(jìn)一步彎曲呈大致直角的第二接觸部lc。而且，當(dāng)冷卻面板I采取第一姿勢時(shí)，第一接觸部Ib位于冷卻頭21的正上方，當(dāng)冷卻面板I采取第二姿勢時(shí)，第二接觸部Ic位于冷卻頭21的正上方。另外，為提高冷卻面板I帶來的冷卻效果，也可對主面Ia實(shí)施黑化處理。
[0028]冷卻面板I支撐在支撐板3的上面，所述支撐板3還具有在成膜時(shí)保持玻璃基板S的功能。支撐板3的平面視圖呈矩形，在第二姿勢時(shí)該上面的外周緣部依次設(shè)置有爪部31。而且，通過以各爪部31鎖定玻璃基板S，以第二姿勢通過冷卻面板I保持玻璃基板S。再有，以第二姿勢在支撐板3的下面右側(cè)端形成向斜下方延伸的臂部32，該臂部32的端部固定在旋轉(zhuǎn)軸4上。在旋轉(zhuǎn)軸4的一端(圖1中為向進(jìn)深方向)上設(shè)置作為第二驅(qū)動裝置的馬達(dá)5。而且，冷卻面板I是圖1中雙點(diǎn)劃線所示的第二姿勢時(shí)，一旦驅(qū)動馬達(dá)5向一個(gè)方向旋轉(zhuǎn)，則冷卻面板I以旋轉(zhuǎn)軸4為旋轉(zhuǎn)中心擺動，采取圖1中實(shí)線所示第一姿勢。另一方面，冷卻面板I是第一姿勢時(shí)，一旦馬達(dá)5向相反方向旋轉(zhuǎn)，則冷卻面板I以旋轉(zhuǎn)軸4為旋轉(zhuǎn)中心擺動返回第二姿勢。冷卻面板I擺動期間，冷卻頭21依靠氣缸23移動到離開冷卻面板I的回縮位置，冷卻面板I是第一姿勢及第二姿勢中任一姿勢時(shí)，冷卻頭21 (冷卻板21a)依靠氣缸23移動到與冷卻面板I的接觸部lb、lc中任意一個(gè)接觸的接觸位置，冷卻面板I通過來自冷卻頭21的熱傳遞而冷卻。
[0029]接著，以下面的情況為例說明本第一實(shí)施方式的冷卻裝置的使用方法:將上述冷卻裝置RU1組裝到作為真空處理裝置的濺鍍裝置(未圖示)中，通過濺射法在玻璃基板S的一側(cè)的面F上成膜。在冷卻面板I采取第二姿勢的狀態(tài)下，通過傳送機(jī)器人水平傳送玻璃基板，圖1中，如雙點(diǎn)劃線所示，使作為處理面的一側(cè)面F在上側(cè)，通過支撐板3的爪部31來保持玻璃基板 S。此時(shí)，也可使冷卻頭21接觸冷卻面板I的第二接觸部Ic預(yù)先冷卻冷卻面板I。而且，將濺鍍裝置的真空室內(nèi)抽真空，冷卻頭21依靠氣缸23移動到回縮位置后，驅(qū)動馬達(dá)5朝一個(gè)方向旋轉(zhuǎn)使冷卻面板I擺動，成為第一姿勢。之后，一旦使冷卻頭21依靠氣缸23移動到與第一接觸部Ib接觸的接觸位置，則濺鍍成膜的準(zhǔn)備完成。
[0030]按公知的方法濺鍍靶，所述靶在第一姿勢的狀態(tài)下與玻璃基板S的一側(cè)面F相對地設(shè)置在真空室內(nèi)，以此在一側(cè)面F上形成規(guī)定的薄膜。此時(shí)，濺射粒子或撞擊玻璃基板S的一側(cè)面F，或接收等離子體發(fā)出的輻射熱，向玻璃基板S輸入熱量，玻璃基板S被加熱，但由于玻璃基板S的另一側(cè)面(圖1中是左側(cè)的面)與冷卻面板I的主面Ia接近，所以玻璃基板S的熱量被冷卻面板I的主面Ia輻射吸熱而冷卻。成膜后通過與上述相反的操作返回第二姿勢，已處理的玻璃基板S被傳送機(jī)器人搬出。
[0031]采用上述實(shí)施方式，通過由冷卻面板I和冷凍機(jī)2構(gòu)成，使冷卻面板I自由擺動，根據(jù)玻璃基板S的姿勢，即在上述實(shí)施方式中，使玻璃基板S與冷卻面板I 一同擺動，可改變其姿勢，通用性高。而且，由于只要具有僅在至少冷卻面板I改變姿勢時(shí)使冷凍機(jī)2的冷卻頭21回縮的結(jié)構(gòu)即可，所以無需像如上述以往例那樣，設(shè)置用于防止冷卻水泄漏的復(fù)雜結(jié)構(gòu)，可簡化冷卻裝置自身的結(jié)構(gòu)。此外，由于在旋轉(zhuǎn)軸4的軸方向上存在間隔地配置多臺冷凍機(jī)2，所以冷卻面板I被軸向的多處同時(shí)冷卻，以此抑制冷卻面板I自身產(chǎn)生溫度變化，進(jìn)而即便處理對象是大面積的玻璃基板S，也可對其整個(gè)面進(jìn)行均勻冷卻。
[0032]以上，對本發(fā)明的第一實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但本發(fā)明并不受上述限定。在上述實(shí)施方式中。以使玻璃基板S的一側(cè)面F和冷卻面板I的主面Ia接近相向配置，使玻璃基板S與冷卻面板I 一同擺動并改變其姿勢為例進(jìn)行了說明，但并不僅限于此，也可使玻璃基板S和冷卻面板I面接觸，再有，例如直到使用公知的載體等將玻璃基板S傳送到真空處理裝置內(nèi)為止，冷卻面板I采用不阻礙玻璃基板S的順暢傳送的姿勢(例如第二姿勢)，直接采用傳送時(shí)的姿勢在玻璃基板S裝入真空處理裝置內(nèi)后，只讓冷卻面板I擺動變?yōu)槠渲髅鍵a與玻璃基板S接近或接觸的姿勢。
[0033]再有，在上述第一實(shí)施方式中，以冷卻面板I由具有大于等于作為處理對象的玻璃基板S的面積的板狀部件構(gòu)成為例進(jìn)行了說明，但并不僅限于此。參照圖3，變形例涉及的冷卻面板10也可設(shè)置壁面IOb作為垂直于冷卻面板10的主面IOa豎直設(shè)立的圍繞部，以使其周緣部與玻璃基板S的外周面SI接近圍繞其周圍。在該情況下，壁面IOb的上端例如設(shè)置為與基板S的處理面(上面)在一個(gè)面上即可，再有，也可設(shè)置為高于處理面，但其高度要在不導(dǎo)致裝置尺寸大型化或?qū)е赂骺蓜硬康尿?qū)動發(fā)生故障的范圍內(nèi)適當(dāng)設(shè)置。另外，一旦壁面IOb的上端低于基板S的處理面，則存在無法均勻冷卻玻璃基板S的可能。再有，在圖3所示的裝置中，壁面IOb在玻璃基板S的外周面SI的整個(gè)面上設(shè)置，但也可存在沒有壁面IOb的部分。由此，即使處理對象是平板顯示器面板用的大面積的玻璃基板S的情況下，也可可靠地冷卻到玻璃基板S的外周緣部。
[0034]然而，在處理對象是平板顯示器面板用的大面積的玻璃基板S的情況下，冷卻面板I自身也使用具有與玻璃基板S相等面積的大型產(chǎn)品，但如上述實(shí)施方式那樣，在冷卻面板I由一個(gè)單獨(dú)的器件構(gòu)成的情況下，根據(jù)與冷卻面板I接觸的冷凍機(jī)2的位置和數(shù)量，存在冷卻面板I自身發(fā)生溫度變化的可能，這樣無法均勻冷卻玻璃基板S。
[0035]因此，在第二實(shí)施方式中，如圖4所示，冷卻裝置RU2的冷卻面板100構(gòu)成為將多塊面積小于作 為處理對象的玻璃基板S的與該冷卻面板100相向面的面積的面板體101并列設(shè)置在同一平面內(nèi)，以使其大于等于該相對面的面積。在該情況下，在圖4中，以構(gòu)成為以三列三行等間隔并列設(shè)置與主面102的面積同等的面板體101來例示了第二實(shí)施方式的冷卻面板100，但根據(jù)處理時(shí)給玻璃基板S的熱輸入量也可設(shè)置為彼此不同的面積。再有，各面板體101與上述第一實(shí)施方式一樣，由熱傳導(dǎo)良好的材質(zhì)制成的板狀部件構(gòu)成。
[0036]進(jìn)而，各面板體101分別由形成為網(wǎng)格狀的支撐框30保持，分別與各面板體101對應(yīng)地設(shè)置冷凍機(jī)2。另外，可以使用與上述第一實(shí)施方式結(jié)構(gòu)相同的產(chǎn)品作為冷凍機(jī)2，再有，冷凍機(jī)2的冷卻部與各冷卻面板100的選擇性接觸可使用與上述第一實(shí)施方式相同的方法進(jìn)行。進(jìn)而，設(shè)置接觸或非接觸地測量冷卻面板100的溫度的傳感器(未圖示)，設(shè)置為根據(jù)傳感器得到的檢測溫度控制來自各冷凍機(jī)2的熱傳遞量，也可設(shè)置為根據(jù)各面板體101而改變冷卻溫度。由此，可將玻璃基板S在其整個(gè)面上均勻冷卻。
[0037]接著，為確認(rèn)本發(fā)明的效果而進(jìn)行以下實(shí)驗(yàn)。在未圖示的真空室內(nèi)，設(shè)置如圖4所示的第二實(shí)施方式那樣的九塊面板體101,在真空氣氛下冷卻1500mmX 1850mmX (厚度)
0.7mm的玻璃基板。在該情況下，在試驗(yàn)I中，采用設(shè)置了九塊面板體101以使并列設(shè)置了面板體101時(shí)的外直徑尺寸變?yōu)?500mmX 1850mm(即冷卻面板的主面的面積與玻璃基板的面積相同)，在試驗(yàn)2中，采用設(shè)置了九塊面板體101以使外直徑尺寸變?yōu)?730mmX2080mm(即冷卻面板的主面的面積變得大于玻璃基板的面積)，在試驗(yàn)3中，如圖3所示，面板體100設(shè)置為在試驗(yàn)I的產(chǎn)品上形成有圍繞玻璃基板的外周面的壁面IOb的產(chǎn)品。
[0038]再有，分別設(shè)置冷凍機(jī)2與各面板體101對應(yīng)，在冷卻頭21中使從單一的熱交換機(jī)供給到冷凍機(jī)本體22中的制冷劑分別循環(huán)。而且，在將玻璃基板加熱到100°C之后，由冷卻面板100冷卻玻璃基板，測量其溫度變化。參照圖4，在該情況下，以玻璃基板S中與位于右上端的面板體101的中心對應(yīng)的點(diǎn)為Al、與位于其右下端的面板體101的中心對應(yīng)的點(diǎn)為A2、與位于其中央上端的面板體101的中心對應(yīng)的點(diǎn)為A3、與位于其中央下端的面板體101的中心對應(yīng)的點(diǎn)為A4、與位于其左上端的面板體101的中心對應(yīng)的點(diǎn)為A5、與位于其左下端的面板體101的中心對應(yīng)的點(diǎn)為A6，以這些點(diǎn)Al~A6為各測量點(diǎn)。
[0039]圖5(a)~(C)是示出實(shí)驗(yàn)I~實(shí)驗(yàn)3中各測量點(diǎn)Al~A6處的最終溫度的圖表。由此，試驗(yàn)I時(shí)從開始冷卻100°c的玻璃基板的最開始各測量點(diǎn)的冷卻速度不同，最終溫度在13.8°C~25.8°C的溫度范圍內(nèi)波動(參照圖5(a))。另一方面，在試驗(yàn)2中，可知各測量點(diǎn)的冷卻速度的差變小，最終溫度的波動也變小(13.8°C~14.2°C)(參照圖5(b))。進(jìn)而，在試驗(yàn)3中，可知各測量點(diǎn)的冷卻速度變得大致相同，最終溫度為13.8°C，其波動也幾乎不存在(參照圖5(c))。另外，作為追加試驗(yàn)4，已確知依靠冷凍機(jī)2控制各試驗(yàn)I中冷卻面板100的面板體101的溫度的情況下，最終溫度的波動可在±0.5°C的范圍內(nèi)。
[0040]接著，參照圖6及圖7，以垂直于圖外的真空處理裝置傳送玻璃基板S，在該狀態(tài)下通過保持裝置300來保持玻璃基板S，在該狀態(tài)下進(jìn)行規(guī)定處理的情況為例，說明本發(fā)明的冷凍裝置RU3的第三實(shí)施方式。冷凍裝置RU3具有冷卻面板1000，以及設(shè)置在真空室外的、具有冷卻頭210的冷凍機(jī)200。在該情況下，冷卻面板1000由固定面板部1001以及可動面板部1003構(gòu)成，所述固定面板部1001設(shè)置為貫通圖外的真空處理裝置的壁面，隨時(shí)與冷卻頭210接觸，所述可動面板部1003經(jīng)連接件1002從固定面板部1001連接設(shè)置，連接件1002變形使可動面板部1003相對于固定面板部1001擺動。固定面板部1001及可動面板部1003的面積小于玻璃基板S,與上述第一實(shí)施方式相同，由熱傳導(dǎo)良好的材質(zhì)制成的板狀部件構(gòu)成。作為連接件1002，可使用熱傳導(dǎo)良好的公知的橫編導(dǎo)線或銅板。
[0041]保持部件300在一面上保持玻璃基板S，在另一面上與可動面板部1003接觸，在該另一面上以第二姿勢向斜下方延伸，形成固定在旋轉(zhuǎn)軸4上的臂部300a，而且，一旦驅(qū)動馬達(dá)5向一個(gè)方向旋轉(zhuǎn)，則跟隨玻璃基板S改變姿勢，該玻璃基板S的負(fù)載作用于可動面板部1003在第一姿勢和第二姿勢之間擺動。由此，可省去使冷凍機(jī)200的冷卻頭210可相對于冷卻面板1000接近或離開地進(jìn)退的機(jī)構(gòu)，可簡化結(jié)構(gòu)。另外，可動面板部1003采取第一姿勢時(shí)，雖然可動面板部1003和保持部件300接觸，但也可設(shè)置為非接觸。
[0042]附圖標(biāo)記說明
[0043]RU1, RU2, RU3...冷卻裝置、 1、10、100、1000…冷卻面板、Ia…冷卻面板的主面、2，20，200…冷凍機(jī)、21，210…冷卻頭(冷卻部)、41a…冷卻板(冷卻部)、1001…固定面板、1002...連接件、1003...可動面板、4...旋轉(zhuǎn)軸、5...馬達(dá)(第一驅(qū)動裝置)、S...玻璃基板(處理對象)。
【權(quán)利要求】
1.一種冷卻裝置， 具有冷凍機(jī)和由該冷凍機(jī)冷卻的冷卻面板，使冷卻面板的主面接近或接觸處理對象從而冷卻處理對象， 其特征在于: 以冷卻面板的主面與處理對象接近或接觸時(shí)的冷卻面板的姿勢為第一姿勢，以冷卻面板的主面與處理對象分離時(shí)的冷卻面板的姿勢為第二姿勢， 冷卻面板設(shè)置為在第一姿勢和第二姿勢之間自由擺動，并且冷卻面板是第一姿勢和第二姿勢中的至少一種時(shí)，冷凍機(jī)的冷卻部與冷卻面板接觸，通過熱傳遞使冷卻面板冷卻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于: 具有安裝有所述冷卻面板的旋轉(zhuǎn)軸、驅(qū)動該旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的第一驅(qū)動裝置，以及驅(qū)動所述冷卻部相對于所述冷卻面板自由進(jìn)退的第二驅(qū)動裝置，采用由第一驅(qū)動裝置驅(qū)動旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，在冷卻面板分別采取第一姿勢和第二姿勢時(shí)由第二驅(qū)動裝置使冷卻部與冷卻面板接觸的結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的冷卻裝置，其特征在于: 在所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向存在間隔地配置多臺冷凍機(jī)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任意一項(xiàng)所述的冷卻裝置，其特征在于: 所述冷卻面板還具有圍繞處理對象外周面的圍繞部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中的任意一項(xiàng)所述的冷卻裝置，其特征在于: 所述冷卻面板由多塊面板體并列設(shè)置在同一平面內(nèi)構(gòu)成，所述冷卻面板的面積大于等于處理對象的與其相對面的面積，所述面板體的面積小于所述相對面的面積。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的冷卻裝置，其特征在于: 分別對應(yīng)所述冷卻面板的面板體設(shè)置冷凍機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于: 所述冷卻面板具有固定面板，其隨時(shí)與冷凍機(jī)接觸；可動面板；連接件，其以該固定面板為旋轉(zhuǎn)中心擺動可動面板。
【文檔編號】C23C14/34GK103898453SQ201310326007
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2013年7月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月26日
【發(fā)明者】安田淳一, 降矢新治, 森本秀敏, 増?zhí)镄心? 申請人:愛發(fā)科低溫泵株式會社