專利名稱：一種陶瓷磚拋光加工冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種陶瓷磚拋光加工冷卻裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種陶瓷拋光加工設(shè)備，特別是一種干法拋光的陶瓷磚加工冷卻直O(jiān)背景技術(shù)[0002]在陶瓷瓷磚的拋光加工中，瓷磚需要拋光和納米液覆膜。納米液覆膜是在無水冷卻的條件下工作的，拋磨工藝也可向無水方向發(fā)展，這即可降低污染，又能節(jié)約成本。但干法工藝因無水冷卻，磨頭工作時齒輪、軸承等摩擦，工作溫度有升高的趨勢。納米覆膜機(jī)在使用中，有時磨頭中潤滑油溫度達(dá)到80度以上，精拋機(jī)磨頭因其旋轉(zhuǎn)速度快，無水工作溫度將更高。在這嚴(yán)酷的工作環(huán)境下，勢必嚴(yán)重影響軸承、齒輪和油封等零部件的使用壽命。 因此，為了延長軸承、齒輪和油封等零部件的使用壽命，在陶瓷磚拋光加工冷卻過程，在磨頭上增加具有冷卻作用的冷卻裝置具有積極作用。實(shí)用新型內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種陶瓷磚拋光冷卻加工裝置，該陶瓷磚拋光冷卻加工裝置能有效解決無水冷卻的磨頭在加工中極易出現(xiàn)的工作溫度超溫現(xiàn)象，有效地延長了軸承、齒輪和油封等零部件的使用壽命。[0004]為了達(dá)到上述技術(shù)目的，本實(shí)用新型是按以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的[0005]本實(shí)用新型所述一種陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，包括與瓷磚拋光用磨頭拆卸連接的帶動磨頭轉(zhuǎn)動的主軸，所述主軸為空心軸，所述主軸的中間空腔內(nèi)設(shè)有供冷卻介質(zhì)流進(jìn)入至磨頭箱體內(nèi)的中間套管，該中間套管為具有絕熱保溫性能，所述中間套管內(nèi)的空腔以及中間套管與主軸之間的環(huán)形空腔形成冷卻介質(zhì)進(jìn)入和導(dǎo)出的回路，所述主軸頂端部設(shè)有一上部分流管架，所述主軸的下部設(shè)有一下部對中管架。所述下部對中管架連接有一置于磨頭箱體內(nèi)的對中分流凸臺，該下部對中管架保證中間套管與對中分流凸臺連接時滿足同軸度要求。所述對中分流凸臺與磨頭箱體的內(nèi)壁面之間設(shè)有一將冷卻介質(zhì)輸送至磨頭換熱器的冷卻介質(zhì)通道，換熱器置于該冷卻介質(zhì)通道的出口處，換熱器浸在磨頭潤滑油中以使?jié)櫥途S持在適宜的穩(wěn)定溫度范圍內(nèi)。[0006]作為上述技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，所述中心套管的底部與對中分流凸臺之間設(shè)有用于密封中心套管底部的靜密封裝置。[0007]作為上述技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述對中分流凸臺與主軸的底部之間設(shè)有用于密封對中分流凸臺的靜密封裝置。[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是[0009]本實(shí)用新型由于將與磨頭連接的主軸做成空心軸，然后在空心軸內(nèi)套有一中間套管，通過在中間管內(nèi)外形成冷卻介質(zhì)的流入流出回路，能及時地將受熱后的介質(zhì)流出主軸外，此外，通過換熱器的及時散熱，延長軸承、齒輪和油封等一些零部件的使用壽命，極大提高其拋光效果。
[0010]
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型做詳細(xì)的說明[0011]圖1是本實(shí)用新型所述的陶瓷磚拋光加工冷卻裝置結(jié)構(gòu)示意圖；[0012]圖2是采用本實(shí)用新型所述的加工冷卻裝置的精拋磨頭工作示意圖；[0013]圖3是采用本實(shí)用新型所述的加工冷卻裝置的涂覆制膜機(jī)工作示意圖。
具體實(shí)施方式
[0014]如圖1所示，本實(shí)用新型所述的陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，包括與瓷磚拋光用磨頭1拆卸連接的主軸2，所述主軸2為空心軸，所述主軸2的中間空腔內(nèi)設(shè)有供冷卻介質(zhì)流進(jìn)入至磨頭箱體11內(nèi)的中間套管3，該中間套管3內(nèi)的空腔以及中間套管3與主軸2之間的環(huán)形空腔形成冷卻介質(zhì)進(jìn)入和導(dǎo)出的回路。[0015]此外，為了方便冷卻介質(zhì)的進(jìn)入，所述主軸2頂端部設(shè)有一上部分流管架4，所述主軸2的下部設(shè)有一下部對中管架5，所述下部對中管架5連接有一置于磨頭1的箱體11 內(nèi)的對中分流凸臺6，該對中分流凸臺6與磨頭箱體11的壁面之間設(shè)有一將冷卻介質(zhì)輸送至磨頭換熱器7的冷卻介質(zhì)通道I，換熱器7置于該冷卻介質(zhì)通道I的出口處。使用時將磨頭1運(yùn)至機(jī)器上，主軸2通過花鍵配合對中后壓到位，上部分流管架4和下部對中管架5兩個管架保證中間套管3的對中精度。[0016]在本實(shí)用新型中，為了保證密封效果，所述中心套管3的底部與對中分流凸臺6之間設(shè)有用于密封中心套管3底部的靜密封裝置8 ；所述對中分流凸臺6與主軸2的底部之間設(shè)有用于密封對中分流凸臺6的靜密封裝置9。通過該兩個靜密封裝置，能有效地阻止換熱介質(zhì)泄露和串流，確保較好的密封性能。[0017]以下說明本實(shí)用新型所述的陶瓷磚拋光加工冷卻設(shè)備工作過程[0018]磨頭1及主軸2在工作旋轉(zhuǎn)條件下，換熱介質(zhì)經(jīng)上部分流管架4和中間套管3內(nèi)， 沿管內(nèi)向下流至磨頭箱體11內(nèi)的對中分流凸臺6 (如圖箭頭所示)，從右邊進(jìn)入換熱器7 中，經(jīng)換熱器7換熱后的介質(zhì)從左側(cè)進(jìn)入對中分流凸臺6內(nèi)，再沿中間套管3的管外環(huán)形空腔向上流至上部分流管架4，并從其中部流至其外，然后流出主軸2。[0019]如圖2、3所示，通過本實(shí)用新型所述的陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，即可對瓷磚輸送帶10上輸送過來的瓷磚20進(jìn)行拋光和納米液覆膜，其具有較好的降溫散熱效果，確保其各零部件的使用壽命。[0020]本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施方式，如果對本實(shí)用新型的各種改動或變型不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍，倘若這些改動和變型屬于本實(shí)用新型的權(quán)利要求和等同技術(shù)范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也包含這些改動和變型。
權(quán)利要求1.一種陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，包括與瓷磚拋光用磨頭拆卸連接的主軸，其特征在于所述主軸為空心軸，所述主軸的中間空腔內(nèi)設(shè)有供冷卻介質(zhì)流進(jìn)入至磨頭箱體內(nèi)的具有絕熱保溫性能的中間套管，所述中間套管內(nèi)的空腔以及中間套管與主軸之間的環(huán)形空腔形成冷卻介質(zhì)進(jìn)入和導(dǎo)出的回路，所述主軸頂端部設(shè)有一上部分流管架，所述主軸的下部設(shè)有一下部對中管架，所述下部對中管架連接有一置于磨頭箱體內(nèi)的對中分流凸臺，所述對中分流凸臺與磨頭箱體的壁面之間設(shè)有一將冷卻介質(zhì)輸送至磨頭換熱器的冷卻介質(zhì)通道，換熱器置于該冷卻介質(zhì)通道的出口處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，其特征在于所述中心套管的底部與對中分流凸臺之間設(shè)有用于密封中心套管底部的靜密封裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，其特征在于所述對中分流凸臺與主軸的底部之間設(shè)有用于密封對中分流凸臺的靜密封裝置。
專利摘要本實(shí)用新型屬于陶瓷磚產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域。具體公開陶瓷磚拋光加工冷卻裝置，包括與瓷磚拋光用磨頭拆卸連接的主軸，主軸為空心軸，主軸的中間空腔內(nèi)設(shè)有供冷卻介質(zhì)流進(jìn)入至磨頭箱體內(nèi)具有絕熱保溫性能的中間套管，中間套管內(nèi)的空腔以及中間套管與主軸之間的環(huán)形空腔形成冷卻介質(zhì)進(jìn)入和導(dǎo)出的回路，主軸頂端部設(shè)有上部分流管架，主軸的下部設(shè)有下部對中管架，下部對中管架連接有置于磨頭箱體內(nèi)的對中分流凸臺，該下部對中管架保證中間套管與對中分流凸臺連接時滿足同軸度要求，對中分流凸臺與磨頭箱體的壁面之間設(shè)有將冷卻介質(zhì)輸送至磨頭換熱器的冷卻介質(zhì)通道。該裝置能有效解決無水冷卻的磨頭在加工中極易出現(xiàn)的工作溫度超溫現(xiàn)象，有效地延長了軸承、齒輪和油封等零部件的使用壽命。
文檔編號B24B55/00GK202292413SQ201120442109
公開日2012年7月4日 申請日期2011年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月9日
發(fā)明者丘兆才, 馬俊衛(wèi) 申請人:廣東科達(dá)機(jī)電股份有限公司