專利名稱：一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ito走線的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電容式觸摸屏表面鍍金的技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的電容式觸摸屏，采用化學(xué)鍍金的方法進(jìn)行鍍金，其化學(xué)鍍金方法參見(jiàn)申請(qǐng)?zhí)?01010188452. 9、申請(qǐng)日2010. 06. 01、名稱一種在電容式觸摸屏表面進(jìn)行化學(xué)鍍金的方法、公開(kāi)號(hào)CN101845625A的專利申請(qǐng)，在實(shí)際的化學(xué)鍍金過(guò)程中，ITO玻璃上面布置有各條需要鍍金的走線，現(xiàn)有技術(shù)在設(shè)計(jì)走線的時(shí)候，優(yōu)先考慮到避免發(fā)生短路而設(shè)計(jì)其走線，且盡可能地使得走線的總面積小，從而節(jié)約鍍金的原材料，進(jìn)而節(jié)約成本。然而在實(shí)際的化學(xué)鍍金過(guò)程中，鍍金析出時(shí)間會(huì)根據(jù)各條走線的面積的不同而產(chǎn)生時(shí)間差，導(dǎo)致鍍金析出時(shí)間比較慢的部分鍍金膜的厚度就比較薄，很容易產(chǎn)生鍍金脫落，最壞的情況可能導(dǎo)致走線鍍不上金，走線的鍍金厚度不一致的問(wèn)題，直接會(huì)導(dǎo)致觸摸屏產(chǎn)品的穩(wěn)定性、傳輸信號(hào)的能力差。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其使得ITO玻璃上面布置的各條需要鍍金的走線的鍍金厚度均勻，使得觸摸屏產(chǎn)品的穩(wěn)定性、傳輸信號(hào)的能力好。一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其技術(shù)方案是這樣的其包括ITO玻璃的待鍍金部分、不鍍金部分，所述待鍍金部分上蝕刻有走線，所述不鍍金部分覆蓋有鍍金保護(hù)膜，其中所述不鍍金部分內(nèi)均布的X/或Y方向感應(yīng)電極通過(guò)其對(duì)應(yīng)的走線連接外部結(jié)構(gòu)，之后通過(guò)化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝對(duì)所述每塊觸控玻璃的走線進(jìn)行鍍金，其特征在于相互連接的所述待鍍金部分的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/ 或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。其進(jìn)一步特征在于
擴(kuò)大所述待鍍金部分的單根走線的走線面積，確保所述待鍍金部分的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1% ；
將待鍍金部分的走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的走線與ITO玻璃上其他待鍍金區(qū)域相連，確保相互連接后所述待鍍金部分的走線總面積與其對(duì)應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1% ； 其更進(jìn)一步特征在于
加粗所述待鍍金部分的單根走線，確保其每根走線的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1% ；
延長(zhǎng)所述待鍍金部分的單根走線的走線長(zhǎng)度，確保其每根走線的走線面積與其對(duì)應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1% ；在ITO玻璃的非觸摸屏區(qū)域蝕刻出輔助走線，使待鍍金部分的走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的所有走線與所述輔助走線相連接，使相連接的走線和輔助走線的總面積大于其對(duì)應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積的1%，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切除輔助走線區(qū)域；
電容式觸摸屏上蝕刻有環(huán)形接地走線時(shí)，待鍍金部分的走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的所有走線均連接其相鄰的所述環(huán)形接地走線，在ITO玻璃的邊界處的非最終觸摸屏區(qū)域蝕刻出邊界輔助走線，位于ITO玻璃邊界處的電容式觸摸屏的待鍍金部分的走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的走線連通所述的邊界輔助走線，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切割I(lǐng)TO玻璃時(shí)，切斷環(huán)形接地走線與待鍍金部分的走線的連接，切除邊界輔助走線區(qū)域；
其再進(jìn)一步特征在于延長(zhǎng)所述待鍍金部分的單根走線的倒角過(guò)渡區(qū)的長(zhǎng)度。采用本發(fā)明的方法后，其不滿足原有設(shè)計(jì)方法中盡可能地使得走線的總面積小的設(shè)計(jì)原則，是一種新的設(shè)計(jì)方法，由于相互連接的待鍍金部分的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%，其使得鍍金析出時(shí)間基本一致， 從而ITO玻璃上面布置的各條需要鍍金的走線的鍍金厚度均勻，使得觸摸屏產(chǎn)品的穩(wěn)定性、傳輸信號(hào)的能力好。
圖1為原有的電容式觸摸屏化學(xué)鍍金的細(xì)走線結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明具體實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖3為原有電容式觸摸屏化學(xué)鍍金的走線圓角過(guò)渡的結(jié)構(gòu)示意圖4為圖3的A處結(jié)構(gòu)示意放大圖5為本發(fā)明具體實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖6為圖5的B處結(jié)構(gòu)示意放大圖7為本發(fā)明具體實(shí)施例三的結(jié)構(gòu)示意圖8為圖7的C處結(jié)構(gòu)示意放大圖9為本發(fā)明具體實(shí)施例四的結(jié)構(gòu)示意圖10為圖9的D處結(jié)構(gòu)示意放大圖11為圖9的E處結(jié)構(gòu)示意放大圖。
具體實(shí)施例方式其包括ITO玻璃的待鍍金部分1、不鍍金部分2，待鍍金部分1上蝕刻有走線3，不鍍金部分2覆蓋有鍍金保護(hù)膜(圖中未畫出，屬于現(xiàn)有成熟技術(shù))，其中不鍍金部分2內(nèi)均布的X/或Y方向感應(yīng)電極4通過(guò)其對(duì)應(yīng)的走線3連接外部結(jié)構(gòu)(圖中未畫出，屬于現(xiàn)有成熟結(jié)構(gòu))，其中相互連接的待鍍金部分3的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或 Y方向感應(yīng)電極1的面積比大于1%，之后通過(guò)化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝對(duì)每塊觸控玻璃的走線3進(jìn)行鍍金。具體實(shí)施例一，見(jiàn)圖1、圖2 原有的待鍍金部分1 (見(jiàn)圖1)的單根走線3的長(zhǎng)度細(xì)，現(xiàn)加粗待鍍金部分(1見(jiàn)圖2)的單根走線3，確保每根走線的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分2連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4的面積比大于1% ；之后通過(guò)化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝對(duì)每塊觸控玻璃的待鍍金部分1的走線進(jìn)行鍍金，其中加粗的部分位于單根走線3 與單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4的連接端子線部分7。具體實(shí)施例二，見(jiàn)圖3、圖4、圖5、圖6 延長(zhǎng)待鍍金部分1的單根走線3的走線長(zhǎng)度，確保每根走線3的走線面積與其對(duì)應(yīng)不鍍金部分2連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4 的面積比大于1% ；具體為延長(zhǎng)待鍍金部分1的單根走線3的倒角過(guò)渡區(qū)的長(zhǎng)度，將圖4中的圓角過(guò)渡5變?yōu)閳D6中的斜角斜線過(guò)渡6。具體實(shí)施例三，見(jiàn)圖7、圖8 在ITO玻璃的非觸摸屏區(qū)域蝕刻出輔助走線8，待鍍金部分1的走線3與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分2連接單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4的面積比不超過(guò)1%的所有走線3與輔助走線8相連接，相連接的走線3和輔助走線8的總面積大于其對(duì)應(yīng)不鍍金部分2連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4的面積的1%，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切除輔助走線8區(qū)域。具體實(shí)施例四，見(jiàn)圖9、圖10、圖11 電容式觸摸屏上蝕刻有環(huán)形接地走線9時(shí)，待鍍金部分1的走線3與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分2連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4的面積比不超過(guò)1%的所有走線3均連接其相鄰的環(huán)形接地走線9，在ITO玻璃的邊界處的非觸摸屏區(qū)域蝕刻出邊界輔助走線10，位于ITO玻璃邊界處的電容式觸摸屏的待鍍金部分1的走線3與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分2連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極4的面積比不超過(guò)1%的走線3連通的邊界輔助走線10，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切割I(lǐng)TO玻璃時(shí)，切斷環(huán)形接地走線9與待鍍金部分1的走線3的連接，切除邊界輔助走線10區(qū)域。
權(quán)利要求
1.一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其包括ITO玻璃的待鍍金部分、不鍍金部分，所述待鍍金部分上蝕刻有走線，所述不鍍金部分覆蓋有鍍金保護(hù)膜，其中所述不鍍金部分內(nèi)均布的X/或Y方向感應(yīng)電極通過(guò)其對(duì)應(yīng)的走線連接外部結(jié)構(gòu)，之后通過(guò)化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝對(duì)所述每塊觸控玻璃的走線進(jìn)行鍍金，其特征在于相互連接的所述待鍍金部分的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于擴(kuò)大所述待鍍金部分的單根走線的走線面積，確保所述待鍍金部分的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于將待鍍金部分的走線與其對(duì)應(yīng)的連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò) 1%的待鍍金部分走線與ITO玻璃上其他待鍍金區(qū)域相連，確保相互連接后所述待鍍金部分的走線總面積與其對(duì)應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于加粗所述待鍍金部分的單根走線，確保每根走線的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于延長(zhǎng)所述待鍍金部分的單根走線的走線長(zhǎng)度，確保每根走線的走線面積與其對(duì)應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于在ITO玻璃的非觸摸屏區(qū)域蝕刻出輔助走線，其走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的所有待鍍金部分的走線與所述輔助走線相連接，相連接的走線、輔助走線的總面積大于其對(duì)應(yīng)不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積的1%，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切除輔助走線區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其特征在于電容式觸摸屏上蝕刻有環(huán)形接地走線時(shí)，待鍍金部分的走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的所有走線均連接其相鄰的所述環(huán)形接地走線，在ITO玻璃的邊界處的非最終觸摸屏區(qū)域蝕刻出邊界輔助走線，位于ITO玻璃邊界蝕刻出的電容式觸摸屏的走線與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比不超過(guò)1%的走線連通所述的邊界輔助走線，待化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝鍍金完成后，切割I(lǐng)TO玻璃時(shí)，切斷環(huán)形接地走線與相鄰走線的連接，切除邊界輔助走線區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法， 其特征在于延長(zhǎng)所述待鍍金部分的單根走線的倒角過(guò)渡區(qū)的長(zhǎng)度。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種在電容式觸摸屏上均勻化學(xué)鍍金ITO走線的方法，其使得ITO玻璃上面布置的各條需要鍍金的走線的鍍金厚度均勻，使得觸摸屏產(chǎn)品的穩(wěn)定性、傳輸信號(hào)的能力好。其包括ITO玻璃的待鍍金部分、不鍍金部分，所述待鍍金部分上蝕刻有走線，所述不鍍金部分覆蓋有鍍金保護(hù)膜，其中所述不鍍金部分內(nèi)均布的X/或Y方向感應(yīng)電極通過(guò)其對(duì)應(yīng)的走線連接外部結(jié)構(gòu)，之后通過(guò)化學(xué)鍍鎳、化學(xué)鍍金工藝對(duì)所述每塊觸控玻璃的走線進(jìn)行鍍金，其特征在于相互連接的所述待鍍金部分的走線面積與其對(duì)應(yīng)的不鍍金部分連接的單塊X/或Y方向感應(yīng)電極的面積比大于1%。
文檔編號(hào)C23C18/42GK102207806SQ201110143428
公開(kāi)日2011年10月5日 申請(qǐng)日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
發(fā)明者西正秀 申請(qǐng)人:無(wú)錫阿爾法電子科技有限公司