專利名稱：一種新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及到覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆的供氣系統(tǒng)，尤其涉及到多段供氣集成系統(tǒng)和向反應室輸入氣體或在反應室中改性氣流的方法。
背景技術：
作為當今被廣泛采用的物理氣相沉積技術的蒸發(fā)鍍膜，離子鍍膜和磁控濺射鍍膜，其工作環(huán)境要求在極為苛刻的真空狀態(tài)下，并需要往真空腔體中充入配比適當?shù)墓に嚉怏w，同時，真空腔體內(nèi)氣體的均勻性也要求非?？量蹋渲校淤|(zhì)量及鍍膜工藝調(diào)整控制與充入氣體流量有著直接聯(lián)系，所以，工藝供氣系統(tǒng)是鍍膜生產(chǎn)工藝中核心的部分。目前，國內(nèi)的鍍膜生產(chǎn)線采用的供氣系統(tǒng)存在著布局復雜，裝配繁瑣等現(xiàn)象，其雖然也能達到控制氣體種類和氣量的目的，但在實際使用過程中存在的缺點有
1、工藝氣體的流量控制需要依靠經(jīng)驗豐富的工藝工程師根據(jù)經(jīng)驗來判斷
輸入氣量，很難做到精確控制。2、供氣管道接入混亂和接口過多，給工藝氣體的配比以及檢漏造成很大難度，加大了設備的維修和保養(yǎng)的難度。另外，由于市場上單個真空閥門造價很高，接口過多，無形中也增加了設備的制造成本。公開號為CN101497990A的中國專利披露了一種濺射鍍膜裝置，其介紹了一種通過氣體流量控制器來控制進氣通道的氣體種類和流量，并達到調(diào)整工藝氣體的分布狀況來實現(xiàn)對膜厚的均勻性進行在線調(diào)整的目的，該專利中，只對進氣通道的控制裝置做了改進，未對進氣管道的復雜性和繁瑣性進行改造。濺射鍍膜設備的安裝和日常維護保養(yǎng)的繁瑣性和復雜性，以及真空檢漏的難度都未得到解決。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術問題是，針對現(xiàn)有技術中進氣管道復雜性和繁瑣性的缺點，提供一種新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術方案是，一種新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)， 包括電磁閥、電磁閥板、通道管，其中，電磁閥設置在電磁閥板的上部，以管螺紋與電磁閥板密封連接，通道管設置在電磁閥板內(nèi)，所述電磁閥板的側面設有入氣口，與入氣口所在側面相交的另一側面設有出氣口。進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其中，所述入氣口可設為多段入氣口，所述出氣口可設為多段出氣口。進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其中，所述的通管道，分為入氣通道管和出氣通道管，所述入氣通道管在入氣口和電磁閥之間起連接作用，所述出氣通道管在出氣口和電磁閥之間起連接作用。進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其中，所述出氣口又分為主氣體出氣口和輔助氣體出氣口。
進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其中，所述出氣通道管又分為主氣體出氣通道管和輔助氣體出氣通道管，主氣體出氣通道管與主氣體出氣口相通，輔助氣體出氣通道管與輔助氣體出氣口相通。進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其中，每個出氣口還通過軟管與氣質(zhì)量流量控制器相連。進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其中，所述質(zhì)量流量控制器設置在真空手閥集成板上，所述真空手閥集成板內(nèi)還設置有真空手閥，所述真空手閥集成板固定設置在真空腔體內(nèi)。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的技術效果是，當需要對進氣通道進行檢測時，只需要關閉真空手閥來切斷真空腔體與外界的通道，來達到檢修通道的目的。由于采用電磁閥和電磁閥板，可以簡化進氣通道的管路，從而降低真空檢漏的難度，以及減少設備的安裝及日常維護保養(yǎng)的繁瑣性和復雜性。下面結合附圖及實施例對本發(fā)明做進一步的說明。
圖1為本發(fā)明多段工藝供氣集成系統(tǒng)的整體布局示意圖； 圖2為本發(fā)明多段工藝供氣集成系統(tǒng)的電磁閥板內(nèi)部布局圖； 圖3為本發(fā)明多段工藝供氣集成系統(tǒng)的電磁閥板外部示意圖； 圖4為本發(fā)明多段工藝供氣集成系統(tǒng)的電磁閥板側面示意圖； 圖5為本發(fā)明真空手閥的結構示意圖。1-電磁閥板；2-電磁閥；3-質(zhì)量流量控制器；4-真空手閥集成板；5-真空手閥； 6-軟管；8-入氣通道管；9-主氣體出氣通道管；10-輔助氣體出氣通道管；11-入氣口 ； 12-出氣口 ； 120-主氣體出氣口，121-輔助氣體出氣口。
具體實施例方式本發(fā)明保護的是一種新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)，只要是本領域技術人員了解本發(fā)明實施例，不經(jīng)過創(chuàng)造性的勞動，僅是同等技術的替換，都屬于本發(fā)明的保護范圍。結合圖1、圖2所示，在電磁閥板1的側面，設有入氣口 11，其中，入氣口 11可設為多段，即在電磁閥板1的任一側面，開鑿更多的內(nèi)孔作為入氣口，以接入更多的工藝氣體。 每個入氣口 11有與之一一對應的入氣通道管8，在本實施例中，設有三段入氣口 11，每段入氣口 11外接一種氣體，其可接入Ar，N2和O2，在電磁閥板1與入氣口 11所在側面正交的另一窄側面，設有六個出氣口 12，分為一個主氣體出氣口 120和五個輔助氣體出氣口 121，所述電磁閥2設置在電磁閥板1上半部，以管螺紋與電磁閥板1密封連接。入氣管道8在入氣口 11與電磁閥2之間起連接作用。主氣體出氣通道管9在主氣體出氣口 120與電磁閥 2之間起連接作用，輔助氣體出氣通道管10在輔助氣體出氣口 121與電磁閥2之間起連接作用，出氣口 12通過軟管6與質(zhì)量流量控制器3密封連接，質(zhì)量流量控制器3設置在真空手閥集成板4上，并與之密封連接，真空手閥集成板4內(nèi)還設置有真空手閥5。真空手閥集成板4固定設置在真空腔體內(nèi)(在圖中不顯示出來)。外接的工藝氣體經(jīng)入氣口 11、入氣
4通道管8、對應的電磁閥2，一部分通過主氣體出氣通道管9、主氣體出氣口 120、軟管6、質(zhì)量流量控制器3，真空手閥集成板4及真空手閥5、最后輸入到真空腔體內(nèi)，另一部分外接的工藝氣體經(jīng)入氣口 11、入氣通道管8、對應的電磁閥2，輔助氣體出氣通道管12、輔助氣體出氣口 121、軟管6、質(zhì)量流量控制器3、真空手閥5，最后輸入到真空腔體內(nèi)，其中，在本實施例中，主氣體出氣口 120設置有一個，輔助氣體出氣口 121設置有五個，質(zhì)量流量控制器3在這里起調(diào)節(jié)和控制作用。如圖3所示，所述電磁閥板1為集成板，在電磁閥板1的頂端固定設置有電磁閥2，所述電磁閥可選直動式，分布直動式或先導式的電磁閥，所述直動式電磁閥的工作原理為，其通電時，電磁線圈產(chǎn)生電磁力把關閉件從閥座上提起，閥門打開；斷電時，電磁力消失，彈簧把關閉件壓在閥座上，關閉。先導式電磁閥的工作原理為，其通電時，電磁力把先導孔打開，上腔室壓力迅速下降，在關閉件周圍形成上低下高的壓差，流體壓力推動關閉件向上移動，打開；斷電時，彈簧力把先導孔關閉，入口壓力通過旁通孔迅速腔室在關閥件周圍形成下低上高的壓差，流體壓力推動關閉件向下移動，關閉。所述分布直動式的工作原理為，它是一種直動和先導式相結合的原理，當入口與出口沒有壓差時，通電后，電磁力直接把先導小閥和主閥關閉件依次向上提起，閥門打開。當入口與出口達到啟動壓差時，通電后，電磁力先導小閥，主閥下腔壓力上升，上腔壓力下降，從而利用壓差把主閥向上推開；斷電時，先導閥利用彈簧力或介質(zhì)壓力推動關閉件，向下移動，使關閉。如圖3所示，在電磁閥板1的側面，設置有三個入氣口 11，在其主側面設置有六個出氣口，分為一個主出氣口 120和五個輔助出氣口 121。其上端內(nèi)置有六個電磁閥2。如圖4所示，對電磁閥板1的集成有了一個更直觀的表述，電磁閥2設置在電磁閥板一端的寬側面上。在本實施例的圖5中，給出了一種真空手閥的結構示意圖。
權利要求
1.一種新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其包括電磁閥、電磁閥板、通道管，其特征在于， 所述電磁閥固定設置在電磁閥板的上部，以管螺紋與電磁閥板密封連接，通道管設置在電磁閥板內(nèi)，所述電磁閥板的側面還設有入氣口，所述與入氣口所在面相交的另一側面設有出氣口。
2.根據(jù)權利要求1所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其特征在于，所述入氣口設有至少一段以上的入氣口，所述出氣口設有至少一段以上的出氣口。
3.根據(jù)權利要求1所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其特征在于，所述通管道，分為入氣通道管，出氣通道管，所述入氣通道管在入氣口和電磁閥之間起連接作用，所述出氣通道管在出氣口和電磁閥之間起連接作用。
4.根據(jù)權利要求1所述新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其特征在于，所述出氣口分為主氣體出氣口和輔助氣體出氣口。
5.根據(jù)權利要求3或4所述多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其特征在于，所述出氣通道管又分為主氣體出氣通道管和輔助氣體出氣通道管，主氣體出氣通道管與主氣體出氣口相通，輔助氣體出氣通道管與輔助氣體出氣口相通。
6.根據(jù)權利要求1所述新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其特征在于，每個出氣口還通過軟管與氣質(zhì)量流量控制器相連。
7.根據(jù)權利要求6所述新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)，其特征在于，所述質(zhì)量流量控制器設置在真空手閥集成板上，所述真空手閥集成板內(nèi)還設置有真空手閥，所述真空手閥集成板固定設置在真空腔體內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明涉及到覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆的供氣系統(tǒng),尤其涉及到多段供氣集成系統(tǒng)和向反應室輸入氣體或在反應室中改性氣流的方法。其技術方案是提供一種新型的多段工藝供氣集成系統(tǒng)，包括電磁閥、電磁閥板、通道管，其中，電磁閥固定設置在電磁閥板的上部，以管螺紋與電磁閥板密封連接，通道管設置在電磁閥板內(nèi)，所述電磁閥板的側面設有入氣口，與入氣口側面相交的另一側面設有出氣口。
文檔編號C23C14/00GK102168245SQ201110056108
公開日2011年8月31日 申請日期2011年3月9日 優(yōu)先權日2011年3月9日
發(fā)明者李惠, 李躍華, 靳偉 申請人:上海子創(chuàng)鍍膜技術有限公司