專利名稱：濕式鍍膜系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜技術(shù)，尤其涉及一種濕式鍍膜系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
薄膜制備技術(shù)一般可分為干式鍍膜與濕式鍍膜兩種，其中，濕式鍍膜由于具有鍍膜設(shè)備簡單、便宜、沉積速率快、易于控制鍍膜厚度、鍍膜溫度低、不受限于鍍膜基材的形狀及材料(甚至可在軟性基材鍍膜)等優(yōu)點，近年來廣泛應(yīng)用于陶瓷、高分子及金屬基材的薄膜制備。一般地，濕式鍍膜時，基材需在不同的設(shè)備中流轉(zhuǎn)，進行清洗、風(fēng)干、鍍膜、退火等工序，流轉(zhuǎn)過程中，基板或鍍在基材上的膜層暴露在空氣中，容易被氧化，導(dǎo)致所鍍的膜層品質(zhì)不佳，良率下降。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能提升鍍膜品質(zhì)良率的濕式鍍膜系統(tǒng)。一種濕式鍍膜系統(tǒng)，其包括一個低溫腔室、一個加熱腔室、一個隔離腔室、一個傳輸裝置、一個清洗槽、一個鍍膜槽、一個熱風(fēng)噴槽及一個加熱槽。該隔離腔室連通該低溫腔室及加熱腔室以形成一個密閉的真空鍍膜腔。該傳輸裝置包括一個滑軌及一個升降手臂。 該滑軌跨設(shè)該低溫腔室、隔離腔室及加熱腔室。該升降手臂滑動設(shè)置于該滑軌上，用于夾持一個基材并帶動該基材沿垂直于該滑軌的方向伸縮。該清洗槽、鍍膜槽、熱風(fēng)噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設(shè)置于該滑軌下。該清洗槽及鍍膜槽位于該低溫腔室內(nèi)；該熱風(fēng)噴槽位于該隔離槽內(nèi)；該加熱槽位于該加熱腔室內(nèi)。利用本發(fā)明的濕式鍍膜系統(tǒng)，基材可在傳輸裝置的帶動下，在單一、密閉的環(huán)境內(nèi) (鍍膜腔)依次清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火，避免基板不同設(shè)備中流裝而被氧化，提升了良率。
圖1為本發(fā)明較佳實施方式提供的濕式鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。主要元件符號說明濕式鍍膜系統(tǒng)100鍍膜腔101入氣口103出氣口105低溫腔室10加熱腔室20隔離腔室30傳輸裝置40滑軌42升降手臂44
驅(qū)動馬 達46動子48清洗槽50第一漏液口52鍍膜槽60第二漏液口62熱風(fēng)噴槽70熱風(fēng)口72加熱槽80拿取閥門90基板200
具體實施例方式下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步的詳細說明。請參閱圖1，本發(fā)明較佳實施方式的濕式鍍膜系統(tǒng)100包括一個低溫腔室10、一個加熱腔室20、一個隔離腔室30、一個傳輸裝置40、一個清洗槽50、一個鍍膜槽60、一個熱風(fēng)噴槽70及一個加熱槽80。隔離腔室20連通低溫腔室10及加熱腔室30以形成一個密閉的真空鍍膜腔101。傳輸裝置40包括一個滑軌42及一個升降手臂44?；?2跨設(shè)低溫腔室10、隔離腔室20及加熱腔室30。升降手臂44滑動設(shè)置于滑軌42上，用于夾持一個基材 200并帶動基材200沿垂直于滑軌42的方向伸縮。清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70及加熱槽80順著滑軌42自低溫腔室10至加熱腔室30的滑向依次設(shè)置于滑軌42下。清洗槽 50及鍍膜槽60位于低溫腔室10內(nèi)；熱風(fēng)噴槽70位于隔離槽20內(nèi)；加熱槽80位于加熱腔室30內(nèi)。如此，基材200可在升降手臂44的夾持下，順著滑軌42在單一、密閉的鍍膜腔101 內(nèi)依次滑向清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70及加熱槽80。在滑動過程中，升降手臂44沿遠離清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70或加熱槽80的方向收縮，而在到達清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70或加熱槽80上方時，伸入清洗槽50、鍍膜槽60、熱風(fēng)噴槽70或加熱槽 80以對基板200進行清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火等工藝，避免基板200在不同設(shè)備中流轉(zhuǎn)而被氧化，提升了良率。鍍膜腔101用于提供一個單一、密閉的真空環(huán)境，以防止基板200或所鍍膜層(圖未示)被氧化。具體地，鍍膜腔101甚至可以有一個拿取閥門90，其在鍍膜過程中關(guān)閉以提供密閉的真空環(huán)境，而在鍍膜完成后打開，以供取下鍍完膜的基板200并裝載新的待鍍膜基板200。具體地，濕式鍍膜系統(tǒng)100還包括有一個入氣口 103及一個出氣口 105。入氣口 103用于為鍍膜腔101內(nèi)引入惰性氣體，如氮氣，以使基板200的清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火在惰性氣體環(huán)境中進行，避免化學(xué)反應(yīng)發(fā)生。出氣口 105用于排出使用過的惰性氣體，以保持鍍膜腔101內(nèi)氣壓平衡。根據(jù)氣體的流動及使用特性，本實施方式中，入氣口 103設(shè)置于低溫腔室10靠近清洗槽40處，出氣口 105設(shè)置于加熱腔室30的頂部?？梢岳斫猓綦x腔室20是為了連通低溫腔室10及加熱腔室30兩種不同的環(huán)境，其長度應(yīng)視需求而定。傳輸裝置40可以包括有一個驅(qū)動馬達46及一個動子48。驅(qū)動馬達46用于驅(qū)動動子48在滑軌42上滑動，而升降手臂44與動子48連接，如此，傳輸裝置40可自動控制升降手臂44在滑軌42上的滑動。當(dāng)然，在其他的實施方式中，也可以通過手動的方式驅(qū)動械手臂44在滑軌42上滑動。清洗槽50內(nèi)有清洗液(圖未示)，如水，并且包括有一個第一漏液口 52。第一漏液口 52伸出低溫腔室10外，用于向清洗槽50內(nèi)注入未使用的清洗液及漏出使用過的清洗液。本實施方式中，清洗槽50為一超聲波清洗槽。 鍍膜槽60內(nèi)有鍍膜溶液(圖未示)，并且包括有一個第二漏液口 62。第二漏液口 62伸出低溫腔室10外，用于向鍍膜槽50內(nèi)注入未使用的鍍膜溶液及漏出使用過的鍍膜溶液。熱風(fēng)噴槽70包括有一個熱風(fēng)口 72，熱風(fēng)口 72伸出隔離腔室10外并與一個熱風(fēng)源 (圖未示)連接，用于向熱風(fēng)噴槽50內(nèi)提供熱風(fēng)。加熱槽80用于加熱以對基板200進行退火工藝。一般地，加熱槽80可在短時間內(nèi)將基板200加熱至400-600°C，并在短時間內(nèi)停止加熱，以讓基板緩慢冷卻、退火。優(yōu)選地，濕式鍍膜系統(tǒng)100還包括另一個設(shè)置于清洗槽50與鍍膜槽60之間的熱風(fēng)噴槽70，用于風(fēng)干剛清洗完的基板200。雖然本發(fā)明已以較佳實施方式披露如上，但是，其并非用以限定本發(fā)明，另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化等。當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于包括一個低溫腔室、一個加熱腔室、一個隔離腔室、 一個傳輸裝置、一個清洗槽、一個鍍膜槽、一個熱風(fēng)噴槽及一個加熱槽；該隔離腔室連通該低溫腔室及加熱腔室以形成一個密閉的真空鍍膜腔；該傳輸裝置包括一個滑軌及一個升降手臂；該滑軌跨設(shè)該低溫腔室、隔離腔室及加熱腔室；該升降手臂滑動設(shè)置于該滑軌上，用于夾持一個基材并帶動該基材沿垂直于該滑軌的方向伸縮；該清洗槽、鍍膜槽、熱風(fēng)噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設(shè)置于該滑軌下；該清洗槽及鍍膜槽位于該低溫腔室內(nèi)；該熱風(fēng)噴槽位于該隔離槽內(nèi)；該加熱槽位于該加熱腔室內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該濕式鍍膜系統(tǒng)鍍還包括有一個入氣口及一個出氣口，該入氣口用于向該鍍膜腔內(nèi)引入惰性氣體，該出氣口用于排出該惰性氣體。
3.如權(quán)利要求2的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該入氣口設(shè)置于該低溫腔室靠近該清洗槽處。
4.如權(quán)利要求2的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該出氣口設(shè)置于該加熱腔室的頂部。
5.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該傳輸裝置還包括有一個驅(qū)動馬達及一個動子，該驅(qū)動馬達用于驅(qū)動該動子在該滑軌上滑動，該升降手臂與該動子連接以帶動該升降手臂滑動。
6.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該清洗槽包括有一個第一漏液口，該第一漏液口伸出該低溫腔室外，用于向該清洗槽內(nèi)注入及漏出清洗液。
7.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該清洗槽為一超聲波清洗槽。
8.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該鍍膜槽包括有一個第二漏液口，該第二漏液口伸出低溫腔室外，用于向該鍍膜槽內(nèi)注入及漏出鍍膜溶液。
9.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該熱風(fēng)噴槽包括有一個熱風(fēng)口，該熱風(fēng)口伸出該隔離腔室外，用于向該熱風(fēng)噴槽內(nèi)提供熱風(fēng)。
10.如權(quán)利要求1的濕式鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，該濕式鍍膜系統(tǒng)還包括另一個設(shè)置于該清洗槽與該鍍膜槽之間的熱風(fēng)噴槽。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種濕式鍍膜系統(tǒng)，其包括一個低溫腔室、一個加熱腔室、一個隔離腔室、一個傳輸裝置、一個清洗槽、一個鍍膜槽、一個熱風(fēng)噴槽及一個加熱槽。該隔離腔室連通該低溫腔室及加熱腔室以形成一個密閉的真空鍍膜腔。該傳輸裝置包括一個跨設(shè)該三個腔室的滑軌及一個滑動設(shè)置于該滑軌上、用于夾持一個基材的升降手臂。該清洗槽、鍍膜槽、熱風(fēng)噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設(shè)置于該滑軌下。該清洗槽及鍍膜槽位于該低溫腔室內(nèi)；該熱風(fēng)噴槽位于該隔離槽內(nèi)；該加熱槽位于該加熱腔室內(nèi)。如此，基材可在單一、密閉的環(huán)境內(nèi)依次清洗、鍍膜、風(fēng)干及退火，避免基板不同設(shè)備中流裝而被氧化，提升了良率。
文檔編號C23C18/00GK102220571SQ201010146840
公開日2011年10月19日 申請日期2010年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月15日
發(fā)明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司