專利名稱：改進(jìn)的等離子切割炬的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種等離子切割炬。
背景技術(shù)：
等離子割炬是等離子切割系統(tǒng)的核心部件，而割炬的冷卻系統(tǒng)是割炬 設(shè)計(jì)的重點(diǎn)。理想的冷卻系統(tǒng)應(yīng)該能盡快地將電極與噴嘴的熱量盡可能多地帶走，從而盡 量延長其使用壽命。電極與噴嘴及其冷卻水道的合理結(jié)構(gòu)對于保證等離子弧的性能和延 長電極與噴嘴的使用壽命具有決定性作用?，F(xiàn)有的噴嘴結(jié)構(gòu)不夠合理，影響等離子弧的性 能；電極與噴嘴通常采用一個冷卻系統(tǒng)，不能對電極和噴嘴很好地冷卻，縮短電極和噴嘴的 使用壽命，增加生產(chǎn)成本。其次，傳統(tǒng)的等離子割炬的進(jìn)氣方式通常是通過氣體配流環(huán)控制的，更換不同結(jié) 構(gòu)的氣體配流環(huán)就可以在同一割炬上實(shí)現(xiàn)切向或者軸向進(jìn)氣。傳統(tǒng)等離子割炬存在氣流分 布不均勻的問題，而且割炬的結(jié)構(gòu)也較復(fù)雜，割炬的穩(wěn)定性難以保證。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是，克服上述已有產(chǎn)品之不足， 而提供一種改進(jìn)的等離子切割炬，加強(qiáng)電極及噴嘴的冷卻效果，延長其使用壽命，同時降低 割炬結(jié)構(gòu)的復(fù)雜程度，保證氣流分布就均勻，提高割炬的可靠性。本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下一種改進(jìn)的等離子切割炬，包括槍體、安裝在槍體中的電極、與槍體卡接的噴嘴， 其特征在于還包括一體式絕緣體配流環(huán)，其與槍體螺紋連接；電極與噴嘴采用兩只獨(dú)立 的冷卻水道，其中，電極冷卻水道穿過一體式絕緣體配流環(huán)與槍體，下部與電極螺紋連接， 電極內(nèi)腔與電極冷卻水道相通；噴嘴內(nèi)腔開設(shè)有環(huán)形噴嘴冷卻水道，其與槍體內(nèi)的冷卻水 道相通；噴嘴下部與噴嘴壓帽卡接，噴嘴壓帽上部與槍體螺紋連接。所述的一體式絕緣體配流環(huán)上均布有四個進(jìn)氣孔，相鄰兩個進(jìn)氣孔的開孔方向相 互垂直。所述的噴嘴上部壁面有一彎折結(jié)構(gòu)，電極的底面形狀與彎折結(jié)構(gòu)相配合。所述的噴嘴冷卻水道的內(nèi)壁為弧形。本實(shí)用新型的積極效果在于(1)、電極和噴嘴都采用水冷卻，并為兩只獨(dú)立的冷 卻水流，加強(qiáng)電機(jī)與噴嘴的冷卻效果，延長其使用壽命。且噴嘴及電極冷卻水道的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 保障了冷卻水流速的均勻，盡可能多地帶走電極與噴嘴的熱量，防止或盡量減小死水區(qū)，更 加有利于電極與噴嘴的冷卻。(2)、氣體配流環(huán)和絕緣體合為一體，并設(shè)計(jì)了 4個均布的進(jìn)氣孔以使氣流分布均 勻，降低割炬結(jié)構(gòu)的復(fù)雜程度，提高割炬的可靠性。(3)、噴嘴壁面有一彎折結(jié)構(gòu)，優(yōu)點(diǎn)是電極有足夠的尺寸設(shè)計(jì)余量，并且割炬整體 結(jié)構(gòu)緊湊。
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的一體式絕緣體配流環(huán)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為圖2的A-A剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方法，進(jìn)一步說明本實(shí)用新型。如圖1所示，本實(shí)例包括槍體5，安裝在槍體5中的電極16、與槍體5卡接的噴嘴
317。還包括一體式絕緣體配流環(huán)13，以電極16的軸線為基準(zhǔn)，一體式絕緣體配流環(huán)13、電 極16及噴嘴17同軸對中定位。一體式絕緣體配流環(huán)13下部與槍體5螺紋連接，上部通過 緊固螺母7、支撐塊8及彈簧9與電極冷卻水道12定位。一體式絕緣體配流環(huán)13 —側(cè)設(shè)置 有工作氣體進(jìn)口 6和與氣室相通的氣體通道。如圖2-3所示，一體式絕緣體配流環(huán)13上均 布有四個進(jìn)氣孔18，相鄰兩個進(jìn)氣孔18的開孔方向相互垂直。電極16為中空結(jié)構(gòu)，中空部分為冷卻水循環(huán)通道15，冷卻水循環(huán)通道15底端內(nèi)壁 為弧形。電極16由純銅基座和發(fā)射體組成，發(fā)射體選用鉿絲。電極16與噴嘴17采用兩只獨(dú)立的冷卻系統(tǒng)，電極16的冷卻系統(tǒng)包括電極冷卻水 道12，電極冷卻水道12的下部與電極16螺紋連接，上部一側(cè)連接電極冷卻出水管道10，電 極冷卻進(jìn)水管道11插入電極冷卻水道12中，并進(jìn)入電極的中空部分與冷卻水循環(huán)通道15 相通，冷卻水循環(huán)通道15的內(nèi)壁為弧形。噴嘴17的冷卻系統(tǒng)包括連接在槍體5 —側(cè)的噴嘴冷卻進(jìn)水管道14和另一側(cè)的噴 嘴冷卻出水管道4，噴嘴17內(nèi)腔開設(shè)有環(huán)形噴嘴冷卻水道1，噴嘴冷卻進(jìn)水管道14和噴嘴 冷卻出水管道4通過槍體5內(nèi)的冷卻水道與噴嘴冷卻水道1相通。噴嘴冷卻水道1的內(nèi)壁 為弧形。噴嘴17下部與噴嘴壓帽3卡接，噴嘴壓帽3上部與槍體5螺紋連接。噴嘴17上 部壁面有一彎折結(jié)構(gòu)2，電極16的底面形狀與彎折結(jié)構(gòu)2相配合。噴嘴17的壓縮角α = 60° 。
權(quán)利要求一種改進(jìn)的等離子切割炬，包括槍體(5)、安裝在槍體(5)中的電極(16)、與槍體(5)卡接的噴嘴(17)，其特征在于還包括一體式絕緣體配流環(huán)(13)，其與槍體(5)螺紋連接；電極(16)與噴嘴(17)采用兩只獨(dú)立的冷卻水道，其中，電極冷卻水道(12)穿過一體式絕緣體配流環(huán)(13)與槍體(5)，下部與電極(16)螺紋連接，電極(16)內(nèi)腔與電極冷卻水道(12)相通；噴嘴(17)內(nèi)腔開設(shè)有環(huán)形噴嘴冷卻水道(1)，其與槍體(5)內(nèi)的冷卻水道相通；噴嘴(17)下部與噴嘴壓帽(3)卡接，噴嘴壓帽(3)上部與槍體(5)螺紋連接。
2.如權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的等離子切割炬，其特征在于所述的一體式絕緣體配流 環(huán)(13)上均布有四個進(jìn)氣孔(18)，相鄰兩個進(jìn)氣孔(18)的開孔方向相互垂直。
3.如權(quán)利要求1或2所述的改進(jìn)的等離子切割炬，其特征在于噴嘴(17)上部壁面有 一彎折結(jié)構(gòu)(2)，電極(16)的底面形狀與彎折結(jié)構(gòu)(2)相配合。
4.如權(quán)利要求1或2所述的改進(jìn)的等離子切割炬，其特征在于噴嘴冷卻水道(1)的 內(nèi)壁為弧形。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種改進(jìn)的等離子切割炬，包括槍體(5)、安裝在槍體(5)中的電極(16)、與槍體(5)卡接的噴嘴(17)，還包括一體式絕緣體配流環(huán)(13)，其與槍體(5)螺紋連接；電極(16)與噴嘴(17)采用兩只獨(dú)立的冷卻水道，其中，電極冷卻水道(12)穿過一體式絕緣體配流環(huán)(13)與槍體(5)，下部與電極(16)螺紋連接，電極(16)內(nèi)腔與電極冷卻水道(12)相通；噴嘴(17)內(nèi)腔開設(shè)有環(huán)形噴嘴冷卻水道(1)，其與槍體(5)內(nèi)的冷卻水道相通；噴嘴(17)下部與噴嘴壓帽(3)卡接，噴嘴壓帽(3)上部與槍體(5)螺紋連接。加強(qiáng)電極及噴嘴的冷卻效果，延長其使用壽命。
文檔編號B23K10/00GK201645023SQ20102019488
公開日2010年11月24日 申請日期2010年5月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月8日
發(fā)明者代麗華, 王仲勛, 陳小平 申請人:王仲勛