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操作元件操作檢測(cè)裝置的制作方法

文檔序號(hào):11142439閱讀:757來(lái)源:國(guó)知局
操作元件操作檢測(cè)裝置的制造方法

本發(fā)明涉及操作元件操作檢測(cè)裝置。詳細(xì)地,涉及能夠?qū)τ糜跈z測(cè)操作元件的操作的信號(hào)進(jìn)行傳遞的操作元件操作檢測(cè)裝置。



背景技術(shù):

以往,已知有如下操作元件操作檢測(cè)裝置,即在對(duì)由于操作者的按壓操作而轉(zhuǎn)動(dòng)的操作元件進(jìn)行操作時(shí),相對(duì)于操作元件產(chǎn)生反作用力,同時(shí)能夠?qū)z測(cè)操作元件的操作的信號(hào)進(jìn)行傳遞。在操作元件操作檢測(cè)裝置中設(shè)有使橡膠等彈性部件鼓出的拱起部、和固定側(cè)觸點(diǎn)部及可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部。操作元件操作檢測(cè)裝置構(gòu)成為,拱起部由于被操作元件按壓而變形,相對(duì)于操作元件產(chǎn)生變形引起的反作用力。除此以外,操作元件操作檢測(cè)裝置構(gòu)成為,可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部由于被操作元件按壓而與固定側(cè)觸點(diǎn)部接觸,并且能夠?qū)z測(cè)操作元件的操作的信號(hào)進(jìn)行傳遞。例如,如專利文獻(xiàn)1所記載。

在專利文獻(xiàn)1中記載的鍵操作檢測(cè)裝置(操作元件操作檢測(cè)裝置)中,由固定側(cè)觸點(diǎn)部和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部構(gòu)成的多個(gè)鍵開關(guān)設(shè)置在彈性鼓出部(拱起部)的內(nèi)部。在鍵開關(guān)中,與設(shè)置在機(jī)臺(tái)上的固定側(cè)觸點(diǎn)部相對(duì)地,在彈性鼓出部設(shè)有可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部。在鍵操作檢測(cè)裝置中,當(dāng)操作元件即鍵被按壓時(shí),產(chǎn)生彈性鼓出部的頂部向內(nèi)側(cè)彎折的壓曲現(xiàn)象,可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部與固定側(cè)觸點(diǎn)部接觸。此時(shí),在鍵操作檢測(cè)裝置中,彈性鼓出部在鍵的轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)的近側(cè)和遠(yuǎn)側(cè)的變形量的比例不同。因此,在鍵操作檢測(cè)裝置中,固定側(cè)觸點(diǎn)部的接觸面與可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部的接觸面不均勻接觸,會(huì)產(chǎn)生與彈性鼓出部的按壓方向垂直的方向的作用力即按壓力的剪切方向的分力。由此,鍵操作檢測(cè)裝置容易產(chǎn)生由于在固定側(cè)觸點(diǎn)部的接觸面和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部的接觸面之間滑動(dòng)或浮動(dòng)而引起的顫動(dòng),從而存在觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)不穩(wěn)定的問(wèn)題。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1:(日本)特開2007-25576號(hào)公報(bào)



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

發(fā)明所要解決的課題

本發(fā)明是鑒于以上情況而完成的,目的在于提供操作元件操作檢測(cè)裝置,其能夠抑制由于在固定側(cè)觸點(diǎn)和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)間滑動(dòng)或浮動(dòng)而引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

用于解決課題的手段

即,在本發(fā)明中,操作元件操作檢測(cè)裝置具備:固定側(cè)觸點(diǎn)部,其設(shè)置在機(jī)臺(tái)上,具有固定側(cè)接觸面,該機(jī)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)自如地支承以轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)為中心轉(zhuǎn)動(dòng)的操作元件;基部,其直接或間接地設(shè)置于所述機(jī)臺(tái);拱起部,其從所述基部鼓出;頂部,其設(shè)置在所述拱起部的鼓出側(cè)前端,被所述操作元件向接近所述固定側(cè)觸點(diǎn)部的一側(cè)按壓;可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部,其設(shè)置在所述頂部,能夠與所述固定側(cè)觸點(diǎn)部接觸;在所述頂部被所述操作元件按壓時(shí)所述拱起部彈性變形,所述固定側(cè)觸點(diǎn)部與所述可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部接觸,由此檢測(cè)所述操作元件的操作,包含相互鄰接的所述基部和所述拱起部的交線在內(nèi)的基端側(cè)平面和包含相互鄰接的所述拱起部和所述頂部的交線在內(nèi)的前端側(cè)平面在接近所述操作元件的轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)的一側(cè)相交,所述基端側(cè)平面和包含形成于所述固定側(cè)觸點(diǎn)部的所述固定側(cè)接觸面在內(nèi)的觸點(diǎn)側(cè)平面在接近所述操作元件的轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)的一側(cè)相交。

另外,在本發(fā)明中,在所述固定側(cè)觸點(diǎn)部和所述可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部接觸時(shí)相對(duì)于所述固定側(cè)接觸面平行的可動(dòng)側(cè)接觸面形成于所述可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部。

另外,在本發(fā)明中,所述操作元件以通過(guò)所述轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸為中心轉(zhuǎn)動(dòng),所述基端側(cè)平面和所述前端側(cè)平面的交線構(gòu)成為與所述操作元件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸大致一致。

另外,在本發(fā)明中,所述操作元件以通過(guò)所述轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸為中心轉(zhuǎn)動(dòng),所述觸點(diǎn)側(cè)平面和所述基端側(cè)平面的交線構(gòu)成為與所述操作元件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸大致一致。

在本發(fā)明中,與所述基端側(cè)平面和所述前端側(cè)平面的交線平行且相對(duì)于所述基端側(cè)平面垂直的面上的所述拱起部和所述頂部的截面形狀的長(zhǎng)度構(gòu)成為隨著到所述基端側(cè)平面和所述前端側(cè)平面的交線的距離變大而增大。

在本發(fā)明中,所述拱起部的與所述操作元件的轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)相反的一側(cè)的側(cè)面構(gòu)成為以所述基端側(cè)平面和所述前端側(cè)平面的交線為中心的圓弧狀。

另外,本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置構(gòu)成為,所述基端側(cè)平面與所述前端側(cè)平面的交線、和所述基端側(cè)平面與所述觸點(diǎn)側(cè)平面的交線構(gòu)成為大致一致。

另外,在本發(fā)明中,所述固定側(cè)接觸部形成于第二平面,該第二平面形成于所述機(jī)臺(tái)且與形成于所述機(jī)臺(tái)的第一平面交叉。

另外,在本發(fā)明中,所述操作元件具備按壓所述頂部的接觸面的操作元件按壓面,在檢測(cè)到所述操作元件的所述操作時(shí),所述第二平面成為與所述操作元件按壓面大致平行的狀態(tài)。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明,通過(guò)由被轉(zhuǎn)動(dòng)操作的操作元件按壓時(shí)的拱起部的變形比例在整周接近均勻,而在與固定側(cè)觸點(diǎn)接觸的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)上施加的按壓力的剪切方向的分力變小。由此,能夠抑制由于在固定側(cè)觸點(diǎn)和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

附圖說(shuō)明

圖1(a)是對(duì)具備本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的鍵盤裝置的一個(gè)實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)進(jìn)行表示的局部俯視圖,(b)是對(duì)同一結(jié)構(gòu)進(jìn)行表示的側(cè)視剖視圖。

圖2(a)是本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式中的放大俯視圖,(b)是同一部分的放大主視圖,(c)是將同一部分的側(cè)面放大的局部剖視圖。

圖3(a)是對(duì)本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式中的基端側(cè)平面與前端側(cè)平面的基準(zhǔn)交線進(jìn)行表示的放大立體圖,(b)是對(duì)相同部分進(jìn)行表示的放大側(cè)視圖。

圖4(a)是對(duì)本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式中的觸點(diǎn)側(cè)平面與基端側(cè)平面的基準(zhǔn)交線進(jìn)行表示的放大立體圖,(b)是對(duì)相同部分進(jìn)行表示的放大側(cè)視圖。

圖5(a)是對(duì)本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式中的未產(chǎn)生壓曲現(xiàn)象的狀態(tài)下的拱起部的變形比例及可動(dòng)觸點(diǎn)部的移動(dòng)比例進(jìn)行表示的放大側(cè)視圖,(b)是對(duì)產(chǎn)生同一壓曲現(xiàn)象的狀態(tài)下的拱起部的變形比例進(jìn)行表示的放大側(cè)視圖,(c)是對(duì)持續(xù)同一壓曲現(xiàn)象的狀態(tài)下的可動(dòng)觸點(diǎn)部的移動(dòng)比例進(jìn)行表示的放大側(cè)視圖。

圖6(a)是將本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第二實(shí)施方式中的側(cè)面放大的局部剖視圖,(b)是對(duì)同一實(shí)施方式中可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)與固定側(cè)觸點(diǎn)接觸的狀態(tài)進(jìn)行表示側(cè)視剖視圖。

圖7(a)是本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第三實(shí)施方式中的放大俯視圖,(b)是同一實(shí)施方式中的放大側(cè)視圖,(c)是圖7(a)、圖7(b)中的X箭頭方向剖視圖、Y箭頭方向剖視圖、Z箭頭方向剖視圖。

圖8是本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第四實(shí)施方式中的放大側(cè)視圖。

圖9是在本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式至第四實(shí)施方式中,對(duì)觸點(diǎn)側(cè)平面、基端側(cè)平面及前端側(cè)平面間的基準(zhǔn)交線與轉(zhuǎn)動(dòng)軸一致的狀態(tài)進(jìn)行表示的側(cè)視圖。

圖10(a)是在本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式至第四實(shí)施方式中,觸點(diǎn)側(cè)平面和基端側(cè)平面的間隔比基部的下限值小的情況的側(cè)視局部剖視圖,(b)是在本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式至第四實(shí)施方式中,觸點(diǎn)側(cè)平面和基端側(cè)平面的間隔比基部的上限值大的情況的側(cè)視局部剖視圖,(c)是在本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第一實(shí)施方式至第四實(shí)施方式中,存在觸點(diǎn)側(cè)平面和基端側(cè)平面的間隔比基部的下限值小的部位及比基部的上限值大的部位的情況的側(cè)視局部剖視圖。

具體實(shí)施方式

<第一實(shí)施方式>

以下,利用圖1,對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的鍵盤裝置1進(jìn)行說(shuō)明。鍵盤裝置1在本實(shí)施方式中是電子鍵盤樂(lè)器的鍵盤裝置。

鍵盤裝置1具備:框架(機(jī)臺(tái))2、上限擋塊2a、鍵支點(diǎn)部3、鍵4、及操作元件操作檢測(cè)裝置即鍵操作檢測(cè)裝置5。在鍵盤裝置1中,多個(gè)鍵4(白鍵4a和黑鍵4b)相鄰地配置于機(jī)臺(tái)即框架2。各鍵4的一側(cè)經(jīng)由轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)即轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a轉(zhuǎn)動(dòng)自如地支承在設(shè)于框架2的鍵支點(diǎn)部3,在鍵4未被操作時(shí),其另一側(cè)與設(shè)于框架2的上限擋塊2a接觸。而且,在鍵盤裝置1中,以與各鍵4相對(duì)的方式設(shè)有與各鍵4對(duì)應(yīng)的多個(gè)鍵操作檢測(cè)裝置5,即在鍵盤裝置1中,鍵4和與鍵4對(duì)應(yīng)的鍵操作檢測(cè)裝置5在鍵4的排列方向上分別相鄰地設(shè)置于框架2。

鍵盤裝置1構(gòu)成為,當(dāng)鍵4被操作者按壓時(shí)(參照?qǐng)D1(b)的涂黑箭頭),與被操作的鍵4對(duì)應(yīng)的鍵操作檢測(cè)裝置5壓縮變形,由此產(chǎn)生相對(duì)于鍵4的操作的反作用力,同時(shí)傳遞相對(duì)于鍵4的操作的信號(hào)。

接著,利用圖1及圖2,對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置5進(jìn)行具體說(shuō)明。鍵操作檢測(cè)裝置5是產(chǎn)生相對(duì)于操作元件即鍵4的操作的反作用力(以下,僅記作“反作用力”),同時(shí)能夠?qū)z測(cè)鍵4的操作的信號(hào)進(jìn)行傳遞的裝置。如圖2所示,鍵操作檢測(cè)裝置5具備:由硅橡膠等彈性部件構(gòu)成的基部6、拱起部(外側(cè)拱起部)7、頂部8、內(nèi)側(cè)拱起部9、及由絕緣體基材構(gòu)成的基板10。

另外,框架2在其上表面具備第一平面部2b、第二平面部2c、第三平面部2d,其中,該第一平面部2b形成有鍵支點(diǎn)部3,該第二平面部2c形成在自鍵支點(diǎn)部3起比第一平面部2b遠(yuǎn)的位置,該第三平面部2d形成在自鍵支點(diǎn)部3起比第二平面部2c遠(yuǎn)的位置。在鍵4未被操作的狀態(tài)下,第一平面部2b及第三平面部2d為與后述鍵按壓面4c大致平行的狀態(tài),其中,該鍵按壓面4c是鍵4的下表面,用于按壓頂部8的與鍵4的接觸面即接觸面8a。另外,如后述的圖5(b)及(c)所示,在鍵4被操作(按壓)的狀態(tài)下,第二平面部2c成為與鍵按壓面4c大致平行的狀態(tài)。

基部6用于固定鍵操作檢測(cè)裝置5中由彈性部件構(gòu)成的拱起部7、頂部8及內(nèi)側(cè)拱起部9。基部6形成為板狀。在基部6的一側(cè)平面形成有未圖示的多個(gè)固定用的突出部?;?以一側(cè)平面與基板10緊密相接的方式通過(guò)突出部固定于基板10。在基部6的另一側(cè)平面形成有多個(gè)拱起部7。即,對(duì)于鍵操作檢測(cè)裝置5,多個(gè)鍵操作檢測(cè)裝置5的基部6一體形成。需要說(shuō)明的是,在本實(shí)施方式中,不限于多個(gè)鍵操作檢測(cè)裝置5的基部6一體構(gòu)成的結(jié)構(gòu),也可以是在一個(gè)基部6只形成有一個(gè)拱起部7的結(jié)構(gòu)。

拱起部7是支承頂部8的部件。拱起部7形成為從基部6的另一側(cè)平面朝向鍵盤裝置1的鍵4鼓出的中空拱狀。具體地,如圖2(a)所示,在俯視觀察基部6的另一側(cè)時(shí),拱起部7形成為,通過(guò)直線將一組分離的圓弧彼此連接而成的長(zhǎng)圓狀(長(zhǎng)孔狀)的側(cè)壁7a從基部6的另一側(cè)平面突出。而且,如圖2(b)和圖2(c)所示,在拱起部7的側(cè)壁7a的突出側(cè)以將由側(cè)壁7a包圍的空間覆蓋的方式形成有拱起頂7c。拱起部7的側(cè)壁7a和拱起頂7c經(jīng)由曲面7b平滑地連結(jié)并形成為一體。而且,在拱起部7的拱起頂7c的前端還形成有頂部8。即,拱起部7在其鼓出相反側(cè)即基端側(cè)與基部6鄰接并形成為一體,在鼓出側(cè)即前端側(cè)與頂部8鄰接并形成為一體。

頂部8是被鍵4按壓的部件。如圖2所示,頂部8從拱起部7的拱起頂7c朝向鍵盤裝置1的鍵4突出而形成。具體地,頂部8形成為,在俯視觀察基部6的另一側(cè)時(shí)實(shí)心長(zhǎng)圓狀的臺(tái)從拱起部7的拱起頂7c突出。頂部8形成為與拱起部7的拱起頂7c成一體,從而構(gòu)成拱起部7的拱起頂7c的一部分。另外,頂部8配置成其長(zhǎng)度方向中心線與拱起部7的長(zhǎng)度方向中心線一致。在頂部8的突出側(cè)的前端部分形成有其與鍵4的接觸面8a,在鍵4被操作者按壓時(shí),接觸面8a與鍵4的下表面即鍵按壓面4c接觸。

內(nèi)側(cè)拱起部9是對(duì)基板10的電路中檢測(cè)鍵4的操作的信號(hào)的傳遞狀態(tài)(接通狀態(tài)或斷開狀態(tài))進(jìn)行切換的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部。內(nèi)側(cè)拱起部9位于拱起部7的內(nèi)部,形成為從頂部8的基板10側(cè)朝向基板10鼓出的中空拱狀。內(nèi)側(cè)拱起部9的基端形成為與頂部8成一體,并且在頂部8形成有將內(nèi)側(cè)拱起部9的中空部分和外部連通的孔。在內(nèi)側(cè)拱起部9的前端沿著拱形狀設(shè)有由碳等導(dǎo)電體構(gòu)成的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a。內(nèi)側(cè)拱起部9構(gòu)成為通過(guò)鍵4對(duì)頂部8的按壓而可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與基板10的固定側(cè)觸點(diǎn)即固定側(cè)接觸面10a接觸。通過(guò)內(nèi)側(cè)拱起部9的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與固定側(cè)接觸面10a接觸,而將基板10的電路的信號(hào)傳遞狀態(tài)從不傳遞信號(hào)的狀態(tài)(斷開狀態(tài)、鍵4未被操作的狀態(tài))切換成傳遞信號(hào)的狀態(tài)(接通狀態(tài)、鍵4被操作的狀態(tài))。由此,能夠基于基板10的信號(hào)傳遞狀態(tài)來(lái)檢測(cè)鍵4的操作。需要說(shuō)明的是,在本實(shí)施方式中,不限于將可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a設(shè)為拱形狀,只要是能夠切換基板10的電路中的傳遞狀態(tài)(接通狀態(tài)或斷開狀態(tài))的形狀即可。另外,可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的數(shù)量也不限于單個(gè)。

基板10是構(gòu)成有將檢測(cè)鍵4的操作的信號(hào)進(jìn)行傳遞的電路的固定側(cè)觸點(diǎn)部?;?0設(shè)置于框架2。另外,在基板10上形成有未圖示的多個(gè)固定用的孔。基部6的未圖示的突出部插入孔從而基部6以與基板10緊密相接的方式固定在基板10上。即,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,基部6、拱起部7、頂部8及內(nèi)側(cè)拱起部9借助基板10設(shè)置于框架2。在基板10的電路的一部分設(shè)有固定側(cè)觸點(diǎn)即固定側(cè)接觸面10a?;?0構(gòu)成為通過(guò)鍵4對(duì)頂部8的按壓而可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與固定側(cè)接觸面10a接觸。在基板10中,通過(guò)可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與固定側(cè)接觸面10a接觸,而信號(hào)的傳遞狀態(tài)被切換成傳遞信號(hào)的狀態(tài)(接通狀態(tài))。需要說(shuō)明的是,在本實(shí)施方式中,固定側(cè)接觸面10a的數(shù)量不限于單個(gè)。

如圖1(a)所示,鍵操作檢測(cè)裝置5配置成拱起部7的長(zhǎng)圓狀的長(zhǎng)度方向中心線相對(duì)于鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a垂直。另外,如圖1(b)所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為頂部8的整個(gè)接觸面8a與未操作狀態(tài)的鍵盤裝置1的鍵4接觸。即,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,在鍵4的操作范圍內(nèi),頂部8的整個(gè)接觸面8a始終與鍵4接觸。

以下,利用圖1、圖3及圖4,對(duì)鍵操作檢測(cè)裝置5的基部6及拱起部7的形狀進(jìn)行更具體說(shuō)明。如圖1(b)和圖3所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,包含由相互鄰接且形成為一體的基部6和拱起部7的連接部分的交線BL規(guī)定的平面在內(nèi)的假想平面即基端側(cè)平面BP、及包含由相互鄰接且形成為一體的拱起部7和頂部8的連接部分的交線TL規(guī)定的平面在內(nèi)的假想平面即前端側(cè)平面TP,在鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a側(cè)(靠近鍵操作檢測(cè)裝置5的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的一側(cè))的任意位置相交。即,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,基端側(cè)平面BP和前端側(cè)平面TP在轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a側(cè)相交,基端側(cè)平面BP和前端側(cè)平面TP構(gòu)成不平行的位置關(guān)系。在本實(shí)施方式中,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,基端側(cè)平面BP和前端側(cè)平面TP在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a不同的同一線上(以下,僅記作“基準(zhǔn)交線SL”)相交。鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為拱起部7的突出高度與自基準(zhǔn)交線SL起的垂直距離呈比例地增加。另外,基部6的厚度構(gòu)成為與自轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a起的垂直距離呈比例地減少。

另外,如圖1(b)和圖4所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,基端側(cè)平面BP、和包含由形成于基板10的固定側(cè)接觸面10a規(guī)定的平面在內(nèi)的假想平面即觸點(diǎn)側(cè)平面CP,在鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a側(cè)的任意位置相交。即,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,基端側(cè)平面BP和觸點(diǎn)側(cè)平面CP在轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a側(cè)相交,構(gòu)成不平行的位置關(guān)系。在本實(shí)施方式中,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,基部6的一側(cè)平面包含在觸點(diǎn)側(cè)平面CP內(nèi),其另一側(cè)平面包含在基端側(cè)平面BP內(nèi),基部6的厚度與自基準(zhǔn)交線SL起的垂直距離呈比例地增加。另外,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為觸點(diǎn)側(cè)平面CP通過(guò)基準(zhǔn)交線SL。即,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,觸點(diǎn)側(cè)平面CP、基端側(cè)平面BP和前端側(cè)平面TP相交于基準(zhǔn)交線SL。需要說(shuō)明的是,鍵操作檢測(cè)裝置5也可以構(gòu)成為基端側(cè)平面BP和前端側(cè)平面TP在基準(zhǔn)交線SL以外的位置相交。

接著,利用圖2、圖3、圖4及圖5,對(duì)關(guān)于本發(fā)明的第一實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置5的在操作鍵4時(shí)的拱起部7及內(nèi)側(cè)拱起部9的動(dòng)作方式進(jìn)行具體說(shuō)明。如圖2所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,頂部8的整個(gè)接觸面8a始終與鍵盤裝置1的鍵4接觸,因此頂部8追隨鍵4的操作而以與鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)角度相同的角度被按壓。即,鍵4的操作產(chǎn)生的鍵操作檢測(cè)裝置5的變形量與自轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a起的垂直距離呈比例地增加。

在鍵盤裝置1的鍵4未被操作的情況下,頂部8的接觸面8a在拱起部7不變形的狀態(tài)下與鍵4接觸。即,由于沒(méi)有產(chǎn)生鍵4的操作引起的拱起部7的變形,故而鍵操作檢測(cè)裝置5不產(chǎn)生反作用力。另外,設(shè)于頂部8的內(nèi)側(cè)拱起部9的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a不與基板10的固定側(cè)接觸面10a接觸。因此,基板10的電路成為不傳遞信號(hào)的狀態(tài)(斷開狀態(tài))。

如圖5(a)所示,在鍵盤裝置1的鍵4被操作的情況下,鍵操作檢測(cè)裝置5開始追隨鍵4的操作并且頂部8被按壓。由此,在拱起部7主要存在拱起頂7c朝向拱起部7的內(nèi)部(基部6)的變形、和側(cè)壁7a朝向拱起部7的外側(cè)的變形。即,在拱起部7中,拱起頂7c和曲面7b沿按壓方向變形,并且側(cè)壁7a受到拱起頂7c和曲面7b的變形產(chǎn)生的反作用力而沿相對(duì)于按壓方向正交的方向變形。在拱起部7中,隨著鍵4的操作量增加而側(cè)壁7a和拱起頂7c和曲面7b的變形例增加。內(nèi)側(cè)拱起部9的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a不與基板10的固定側(cè)接觸面10a接觸。因此,基板10的電路為不能傳遞信號(hào)的狀態(tài)(斷開狀態(tài))。

如圖5(b)所示,在對(duì)鍵盤裝置1的鍵4進(jìn)一步按動(dòng)操作的情況下,鍵操作檢測(cè)裝置5的拱起部7的變形方式轉(zhuǎn)換成伴隨著大的變形的曲面7b的壓曲現(xiàn)象。具體地,拱起部7的曲面7b沿著向拱起部7的內(nèi)部折入的方向變形。拱起部7利用面7b的壓曲現(xiàn)象吸收頂部8的大部分按壓量。然后,在拱起部7,拱起部7的曲面7b完全折入拱起部7內(nèi)部,并且拱起部7的側(cè)壁7a沿著向拱起部7的內(nèi)部折入的方向變形。通過(guò)壓曲現(xiàn)象,拱起部7利用側(cè)壁7a和曲面7b的壓曲現(xiàn)象吸收頂部8的大部分按壓量。由此,在拱起部7中,側(cè)壁7a的變形量和拱起頂7c的變形量減少。在內(nèi)側(cè)拱起部9中,由于拱起部7的變形而可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與基板10的固定側(cè)接觸面10a接觸。因此,基板10的電路切換成能夠傳遞信號(hào)的狀態(tài)(接通狀態(tài))。

這樣,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,通過(guò)按壓頂部8而拱起部7的拱起頂7c被壓入由側(cè)壁7a包圍的中空的內(nèi)部,并且側(cè)壁7a及曲面7b一邊向中空的內(nèi)部折疊一邊變形。同時(shí),鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,設(shè)于頂部8上的內(nèi)側(cè)拱起部9的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與基板10的固定側(cè)接觸面10a接觸。由此,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,由于拱起部7的變形而產(chǎn)生相對(duì)于頂部8的按壓的反作用力,并且將基板10的電路切換成能夠傳遞信號(hào)的狀態(tài)(接通狀態(tài))。

鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,除基板10以外的部分由彈性部件構(gòu)成,因而由于操作者對(duì)鍵4的按壓操作而彈性變形從而產(chǎn)生反作用力,并且由于按壓力的解除而恢復(fù)到原來(lái)的拱形狀。雖然需要通過(guò)按壓操作的解除而使鍵4恢復(fù)到初始狀態(tài)(鍵4未被操作的狀態(tài)),但可以另外設(shè)置用于使鍵4復(fù)原的未圖示的彈簧或錘,利用該彈簧或錘的作用使鍵4恢復(fù)到初始狀態(tài),也可以利用鍵操縱檢測(cè)裝置5自身的復(fù)原力使鍵4的位置恢復(fù)到初始狀態(tài)(鍵4未被操作的狀態(tài))。

如圖3所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為拱起部7的突出高度與自基準(zhǔn)交線SL起的垂直距離呈比例地增加,因而雖然頂部8的按壓量與到鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加,但仍能夠抑制與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相遠(yuǎn)側(cè)和相近側(cè)的拱起部7的變形比例的變動(dòng)。因此,拱起部7整體上以均勻的比例產(chǎn)生變形。例如,如圖5(a)和圖5(b)所示,在拱起部7中,頂部8的按壓量最大部位即遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a一側(cè)的相對(duì)于突出高度H1的變形后的突出高度h1的比例、和頂部8的按壓量最小部位即靠近轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a一側(cè)的相對(duì)于突出高度H2的變形后的突出高度h2(壓曲量)的比例近似。

在以往的鍵操作檢測(cè)裝置中,基端側(cè)平面BP與前端側(cè)平面TP構(gòu)成為平行,故而拱起部7的與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè)的變形的比例不同。即,對(duì)于拱起部7,在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),在產(chǎn)生壓曲現(xiàn)象期間產(chǎn)生偏差,壓曲量的比例的差異大。因此,在以往的鍵操作檢測(cè)裝置中,由于拱起部7不均勻比例的變形而容易產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力。

另一方面,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,即使鍵盤裝置1的鍵4的操作引起的頂部8的按壓量與到轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加,也能夠使拱起部7的變形量的比例在整周接近均勻。即,對(duì)于拱起部7,在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),在產(chǎn)生壓曲現(xiàn)象期間難產(chǎn)生偏差,在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè)的壓曲量的比例近似。因此,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,由于拱起部7在整周均勻地變形而難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力(參照?qǐng)D5(b)中涂黑的箭頭)。

進(jìn)一步地,如圖4所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為基部6的厚度與自基準(zhǔn)交線SL起的垂直距離呈比例地增加,故而雖然頂部8的按壓量與到鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加,但仍能夠抑制內(nèi)側(cè)拱起部9在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相遠(yuǎn)側(cè)或相近側(cè)的移動(dòng)量的比例的變動(dòng)。因此,內(nèi)側(cè)拱起部9在整體上以均勻的比例移動(dòng)。例如,如圖5(a)和圖5(c)所示,在內(nèi)側(cè)拱起部9中,頂部8的按壓量最大部位即遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a一側(cè)的相對(duì)于到固定側(cè)接觸面10a的距離S1的移動(dòng)后的距離s1的比例、和頂部8的按壓量最小部位即靠近轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a一側(cè)的相對(duì)于到固定側(cè)接觸面10a的距離S2的移動(dòng)后的距離s2的比例近似。

在以往的鍵操作檢測(cè)裝置中,觸點(diǎn)側(cè)平面CP和基端側(cè)平面BP構(gòu)成為平行,故而可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a相對(duì)于內(nèi)側(cè)拱起部9的與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和遠(yuǎn)離側(cè)到固定側(cè)接觸面10a的距離的移動(dòng)比例不同。即,在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),內(nèi)側(cè)拱起部9在與固定側(cè)接觸面10a接觸期間產(chǎn)生偏差。因此,在以往的鍵操作檢測(cè)裝置,在內(nèi)側(cè)拱起部9施加有不均勻的按壓力,容易產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力。

另一方面,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,即使鍵盤裝置1的鍵4的操作引起的頂部8的按壓量與到轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加,可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a相對(duì)于內(nèi)側(cè)拱起部9的與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè)到固定側(cè)接觸面10a的距離的移動(dòng)比例也接近均勻。即,在內(nèi)側(cè)拱起部9的與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),內(nèi)側(cè)拱起部9在可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與固定側(cè)接觸面10a接觸期間難以產(chǎn)生偏差。因此,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,在內(nèi)側(cè)拱起部9施加有均勻的按壓力,難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力(參照?qǐng)D5(c)中涂黑箭頭)。

這樣,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,拱起部7變形的比例和內(nèi)側(cè)拱起部9的移動(dòng)比例接近均勻,從而難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力。由此,鍵操作檢測(cè)裝置5能夠抑制由于在固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

<第二實(shí)施方式>

接著,利用圖6,對(duì)本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第二實(shí)施方式即鍵操作檢測(cè)裝置11進(jìn)行說(shuō)明。需要說(shuō)明的是,本實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置11為在圖1所示的鍵盤裝置1中替換鍵操作檢測(cè)裝置5而適用的裝置,通過(guò)使用圖1、圖2及其說(shuō)明中使用的名稱、附圖編號(hào)、附圖標(biāo)記而對(duì)相同部分進(jìn)行表示,在以下的實(shí)施方式中,對(duì)與已說(shuō)明的實(shí)施方式相同的點(diǎn)省略其具體說(shuō)明,以差異部分為中心進(jìn)行說(shuō)明。鍵操作檢測(cè)裝置11是產(chǎn)生相對(duì)于操作元件即鍵4的操作的反作用力,并且傳遞相對(duì)于鍵4的操作的信號(hào)的裝置,具備:由硅橡膠等彈性部件構(gòu)成的基部6、拱起部7、頂部8、內(nèi)側(cè)拱起部12、及由絕緣體基材構(gòu)成的基板10。

如圖6(a)所示,內(nèi)側(cè)拱起部12是對(duì)檢測(cè)鍵4的操作的信號(hào)改變基板10的電路中信號(hào)傳遞狀態(tài)(接通狀態(tài)或斷開狀態(tài))的部件。在可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)部即內(nèi)側(cè)拱起部12的前端形成有與基板10的固定側(cè)接觸面10a相對(duì)的平面,并設(shè)有其表面由碳等導(dǎo)電體覆蓋的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)即可動(dòng)側(cè)接觸面12a。如圖6(b)所示,可動(dòng)側(cè)接觸面12以其與固定側(cè)接觸面10a接觸時(shí)平行于固定側(cè)接觸面10a的方式形成在內(nèi)側(cè)拱起部12。內(nèi)側(cè)拱起部12的可動(dòng)側(cè)接觸面12a與固定側(cè)接觸面10a接觸,從而將基板10的電路的信號(hào)傳遞狀態(tài)切換成傳遞信號(hào)的狀態(tài)(接通狀態(tài))。

鍵操作檢測(cè)裝置11構(gòu)成為固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)接觸面12a以平行的狀態(tài)接觸,故而雖然頂部8的按壓量與到鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加,但整個(gè)可動(dòng)側(cè)接觸面12a也幾乎與固定側(cè)接觸面10a同時(shí)接觸。

在以往的鍵操作檢測(cè)裝置中,構(gòu)成為固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)接觸面12a以傾斜的狀態(tài)接觸,故而在可動(dòng)側(cè)接觸面12a的與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),在與固定側(cè)接觸面10a接觸期間容易產(chǎn)生偏差。因此,在以往的鍵操作檢測(cè)裝置中,在可動(dòng)側(cè)接觸面12a與固定側(cè)接觸面10a接觸時(shí),在內(nèi)部拱起部12施加有不均勻的按壓力,容易產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)接觸面12a的按壓力的剪切方向的分力。

另一方面,在鍵操作檢測(cè)裝置11中,在可動(dòng)側(cè)接觸面12a的與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),在與固定側(cè)接觸面10a接觸期間難以產(chǎn)生偏差。因此,在鍵操作檢測(cè)裝置11中,在內(nèi)側(cè)拱起部12施加有均勻的按壓力,難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)接觸面12a的按壓力的剪切方向的分力。

這樣構(gòu)成的鍵操作檢測(cè)裝置11的可動(dòng)側(cè)接觸面12a的移動(dòng)比例接近均勻,從而難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)接觸面12a的按壓力的剪切方向的分力。由此,鍵操作檢測(cè)裝置11能夠抑制由于在固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)接觸面12a之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

<第三實(shí)施方式>

接著,利用圖7,對(duì)本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第三實(shí)施方式即鍵操作檢測(cè)裝置13進(jìn)行說(shuō)明。需要說(shuō)明的是,本實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置13為在圖1所示的鍵盤裝置1中替換鍵操作檢測(cè)裝置13或鍵操作檢測(cè)裝置11而適用的裝置,使用圖1、圖2及其說(shuō)明中所使用的名稱、附圖編號(hào)、附圖標(biāo)記。鍵操作檢測(cè)裝置13是產(chǎn)生相對(duì)于操作元件即鍵4的操作的反作用力,并且傳遞相對(duì)于鍵4的操作的信號(hào)的裝置,具備:由硅橡膠等彈性部件構(gòu)成的基部6、內(nèi)側(cè)拱起部9、基板10、拱起部14、頂部15及由絕緣體基材構(gòu)成的基板10。

如圖7所示,拱起部14形成為從基部6的另一側(cè)平面朝向鍵盤裝置1的鍵4方向鼓出的中空的拱狀。具體地,拱起部14形成為,俯視觀察基部6的另一側(cè)時(shí),利用直線將一組分離的直徑不同的圓弧彼此連接而成的長(zhǎng)圓狀(長(zhǎng)孔狀)的側(cè)壁14a從另一側(cè)平面突出。而且,在拱起部14的側(cè)壁14a的突出側(cè)以將由側(cè)壁14a包圍的空間覆蓋的方式形成有拱起頂14c。拱起部14的側(cè)壁14a和拱起頂14c經(jīng)由曲面14b平滑地連結(jié)并形成為一體。

頂部15形成為從拱起部14的拱起頂14c朝向鍵盤裝置1的鍵4方向突出的實(shí)心的塊狀。具體地,頂部15形成為,俯視觀察基部6的另一側(cè)時(shí),利用直線將一組分離的直徑不同的圓弧彼此連接而成的長(zhǎng)圓狀的臺(tái)從拱起部14的拱起頂14c突出。另外,頂部15配置成小徑側(cè)朝向拱起部14的小徑側(cè)并且長(zhǎng)度方向中心線與拱起部14的長(zhǎng)度方向中心線一致。

與圖1相同地,俯視觀察基部6的另一側(cè)時(shí)形成為長(zhǎng)圓狀的鍵操作檢測(cè)裝置13的拱起部14配置為使小徑側(cè)朝向基準(zhǔn)交線SL側(cè)(鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a側(cè),參照?qǐng)D1)并且長(zhǎng)度方向中心線相對(duì)于基準(zhǔn)交線SL垂直。另外,鍵操作檢測(cè)裝置13構(gòu)成為,與基準(zhǔn)交線SL平行(參照?qǐng)D7(a))且相對(duì)于基端側(cè)平面BP(基部6的另一側(cè)平面)垂直的面(參照?qǐng)D7(b))上的拱起部14的截面形狀(拱起部14的截面形狀的長(zhǎng)度(寬度)或高度)隨著到基準(zhǔn)交線SL的垂直距離變大而擴(kuò)大(參照?qǐng)D7(c))。

即,關(guān)于拱起部14的截面形狀(截面形狀的長(zhǎng)度(寬度)或高度),以從任意規(guī)定的基準(zhǔn)位置(例如,圖7中的Y-Y截面位置)的截面形狀推定的拱起部14的形狀為基準(zhǔn),隨著從基準(zhǔn)交線SL到截面位置的垂直距離自基準(zhǔn)交線SL到基準(zhǔn)位置的垂直距離起變小而拱起部14的截面形狀縮小(參照?qǐng)D7(c)Z-Z剖視圖)。同樣地,隨著從基準(zhǔn)交線SL到截面位置的垂直距離自從基準(zhǔn)交線SL到基準(zhǔn)位置的垂直距離起變大而拱起部14的截面形狀擴(kuò)大(參照?qǐng)D7(c)X-X剖視圖)。

具體地,如圖7(a)和圖7(b)所示,拱起部14構(gòu)成為側(cè)壁14a的突出高度與到基準(zhǔn)交線SL的垂直距離呈比例地增加,并且與基準(zhǔn)交線SL平行的方向(拱起部14的短邊方向)的側(cè)壁14a的間距及曲面14b的曲率半徑與到基準(zhǔn)交線SL的垂直距離呈比例地增加。另外,頂部15構(gòu)成為與基準(zhǔn)交線SL平行的方向(頂部15的短邊方向)的寬度與到基準(zhǔn)交線SL的垂直距離呈比例地增加。

這樣構(gòu)成的鍵操作檢測(cè)裝置13構(gòu)成為,根據(jù)與到鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加的頂部15的按壓量,而拱起部14和頂部15的形狀變大。即,拱起部14和頂部15的形狀與到基準(zhǔn)交線SL(轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a)的垂直距離呈比例地變大,因而即使鍵盤裝置1的鍵4的操作引起的頂部8的按壓量與到轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的垂直距離呈比例地增加,拱起部14的變形量的比例也在整周進(jìn)一步接近均勻。因此,在與轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a相近側(cè)和相遠(yuǎn)側(cè),拱起部14在產(chǎn)生壓曲現(xiàn)象期間難以產(chǎn)生偏差,壓曲量的比例近似。因此,在鍵操作檢測(cè)裝置13中,由于遍及拱起部14整周的均勻的變形而難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力。由此,鍵操作檢測(cè)裝置13能夠抑制由于在固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

<第四實(shí)施方式>

接著,利用圖8,對(duì)本發(fā)明的操作元件操作檢測(cè)裝置的第四實(shí)施方式即鍵操作檢測(cè)裝置16進(jìn)行說(shuō)明。

需要說(shuō)明的是,本實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置16在俯視觀察(俯視觀察基部6的另一側(cè))時(shí),與第一實(shí)施方式的形狀、第二實(shí)施方式或第三實(shí)施方式的形狀相同;在側(cè)視觀察時(shí),如圖8所示,產(chǎn)生相對(duì)于操作元件即鍵4的操作的反作用力,并且傳遞相對(duì)于鍵4的操作的信號(hào);具備:由硅橡膠等彈性部件構(gòu)成的基部6、頂部8、內(nèi)側(cè)拱起部9、拱起部17、及由絕緣體基材構(gòu)成的基板10。

拱起部17形成為從基部6的另一側(cè)平面朝向鍵盤裝置1的鍵4的方向鼓出的中空的拱狀。具體地,在拱起部17中,側(cè)壁17a中的與基準(zhǔn)交線SL相反的一側(cè)的側(cè)壁17a、即長(zhǎng)度方向側(cè)的側(cè)壁17a中遠(yuǎn)離鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a(參照?qǐng)D1)的一個(gè)側(cè)壁,以成為以基準(zhǔn)交線SL為圓弧中心的半徑R的圓弧狀的方式從基部6突出。需要說(shuō)明的是,在本實(shí)施方式中,鍵操作檢測(cè)裝置16不限于如下結(jié)構(gòu),即與基準(zhǔn)交線SL相反的一側(cè)的側(cè)壁17a呈以基準(zhǔn)交線SL為中心的圓弧狀突出的結(jié)構(gòu),也可以是基準(zhǔn)交線SL側(cè)的側(cè)壁17a也呈以基準(zhǔn)交線SL為中心的圓弧狀突出的結(jié)構(gòu)。

這樣構(gòu)成的鍵操作檢測(cè)裝置16構(gòu)成為,拱起部17的長(zhǎng)度方向側(cè)的側(cè)面與鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡類似。即,鍵操作檢測(cè)裝置16構(gòu)成為,即使頂部8追隨鍵4的操作而被按壓,頂部8和側(cè)壁17a鍵的距離也不會(huì)增加。因此,鍵操作檢測(cè)裝置16的拱起部17在整周以均勻的比例變形,由此難以產(chǎn)生施加于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a的按壓力的剪切方向的分力。由此,鍵操作檢測(cè)裝置16能夠抑制由于在固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

<其他實(shí)施方式>

需要說(shuō)明的是,雖然對(duì)本發(fā)明的鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16適用于電子鍵盤樂(lè)器的鍵盤裝置的實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明,但不限于此,只要是具備被操作的操作元件的裝置即可。另外,作為從第一實(shí)施方式至第四實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16的其他實(shí)施方式,也可以構(gòu)成為基準(zhǔn)交線SL與鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的軸心相一致。

例如,如圖9所示,在第一實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置5中,通過(guò)構(gòu)成為基準(zhǔn)交線SL與鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的軸線一致,而頂部7的側(cè)壁7a的突出高度相對(duì)于鍵4的操作引起的頂部8的按壓量的比例在整個(gè)拱起部7上均勻。即,拱起部7的由鍵4的操作引起的變形的比例在整體上均勻。因此,同基準(zhǔn)交線SL與鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的軸線不一致的情況相比,拱起部7中的變形量或變形方式更接近均勻。進(jìn)一步地,基部6的厚度相對(duì)于鍵4的操作引起的頂部8的按壓量的比例在整體上均勻。因此,在內(nèi)側(cè)拱起部9中,鍵4的操作引起的可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a相對(duì)于可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a到固定側(cè)接觸面10a的距離的移動(dòng)比例均勻。即,同基準(zhǔn)交線SL與鍵4的轉(zhuǎn)動(dòng)軸3a的軸線不一致的情況相比,可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a與固定側(cè)接觸面10a接觸的方式更接近均勻。由此,鍵操作檢測(cè)裝置5能夠抑制由于在可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a和固定側(cè)接觸面10a之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

另外,本發(fā)明的鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16設(shè)為,基部6的一側(cè)平面包含在觸點(diǎn)側(cè)平面CP內(nèi),基部6的另一側(cè)平面包含在基端側(cè)平面BP內(nèi),但不限于此。在觸點(diǎn)側(cè)平面CP和基端側(cè)平面BP間的間隔超過(guò)基部6厚度的允許范圍的情況下,作為鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16的變形例,也可以僅使基部6的交線BL的周圍部分包含在基端側(cè)平面BP內(nèi),將其他的部分設(shè)為適當(dāng)?shù)暮穸取?/p>

具體地,在觸點(diǎn)側(cè)平面CP和基端側(cè)平面BP間的間隔比基部6的厚度的下限值(例如,若更薄則基部容易撕裂或強(qiáng)度不能保證這樣的最薄值)小的情況下,如圖10(a)所示,鍵操作檢測(cè)裝置5構(gòu)成為,通過(guò)以只有交線BL的周圍部分包含在基端側(cè)平面BP內(nèi)的方式形成凹部6a,將其他的部分形成為適當(dāng)?shù)暮穸?,從而使基?的厚度在整體上處于適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。另外,如圖10(b)所示,在觸點(diǎn)側(cè)平面CP和基端側(cè)平面BP間的間隔比基部6厚度的上限值(例如,若更厚則由于其與其他部件的平衡而無(wú)法在空間上收納這樣的最厚值)大的情況下,鍵操作檢測(cè)裝置5可以構(gòu)成為,通過(guò)以只有交線BL的周圍部分包含在基端側(cè)平面BP內(nèi)的方式形成凸部6b,將其他的部分形成為適當(dāng)?shù)暮穸?,從而使基?的厚度在整體上處于適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。另外,如圖10(c)所示,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,若將基準(zhǔn)交線SL設(shè)定在鍵操作檢測(cè)裝置5附近,則有可能觸點(diǎn)側(cè)平面CP和基端側(cè)平面BP間的間隔在基準(zhǔn)交線SL側(cè)的基部6小于基部6厚度的下限值,在與基準(zhǔn)交線SL相反的一側(cè)的基部6大于基部6厚度的上限值。在該情況下,鍵操作檢測(cè)裝置5可以構(gòu)成為,通過(guò)以只有小于該厚度下限值的部分的交線BL的周圍部分包含在基端側(cè)平面BP內(nèi)的方式形成凹部6a,以只有大于該厚度上限值的部分的交線BL的周圍部分包含在基端側(cè)平面BP內(nèi)的方式形成凸部6b,從而使基部6的厚度在整體上處于適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)。

另外,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,俯視觀察基部6的另一側(cè)時(shí)的拱起部7的形狀為長(zhǎng)圓狀,但不限于此。例如,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,也可以將基部6構(gòu)成為俯視觀察另一側(cè)時(shí)呈圓形狀或橢圓狀。另外,在鍵操作檢測(cè)裝置5中,不僅是拱起部7的形狀,也可以通過(guò)對(duì)拱起部7的側(cè)壁7a、曲面7b及拱起頂7c的厚度進(jìn)行調(diào)整,而調(diào)整拱起部7的變形方式。由此,鍵操作檢測(cè)裝置5能夠抑制由于在固定側(cè)接觸面10a和可動(dòng)側(cè)觸點(diǎn)9a之間滑動(dòng)或浮動(dòng)引起的顫動(dòng)的產(chǎn)生,并且穩(wěn)定地維持觸點(diǎn)的接觸狀態(tài)。

需要說(shuō)明的是,在各實(shí)施方式中,鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16的頂部8、15不限于實(shí)心,也可以從拱起部7、14、17的拱起頂7c、14c、17c的周緣呈筒狀地突出。

雖然示出了從第一實(shí)施方式至第四實(shí)施方式的鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16的頂部8、15的接觸面和鍵4始終相接的例子,但也可以使鍵4從操作行程的中途開始相接。或者也可以形成為,即使鍵4處于未被操作的狀態(tài)下,也使拱起部7稍稍變形。

在各實(shí)施方式中,作為操作元件(鍵4)的轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)示出了軸狀的例子,但也可以適用于如下類型的操作元件,即通過(guò)在操作元件的轉(zhuǎn)動(dòng)端側(cè)設(shè)置薄板狀的鉸鏈部,并且該鉸鏈部撓曲,從而轉(zhuǎn)動(dòng)自如地支承操作元件。此時(shí)鉸鏈部相當(dāng)于轉(zhuǎn)動(dòng)支點(diǎn)。

作為將鍵操作檢測(cè)裝置5、11、13、16的基部6固定于基板10的方法,示出了在基部6的一側(cè)面形成固定用突出部來(lái)固定于基板10的例子,但也可以是在基部10設(shè)置固定用突出部并插入形成于基部6的孔來(lái)進(jìn)行固定的方法、通過(guò)粘接固定于基板10的方法,或者使用其他的方法,只要能夠固定于基板10即可。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

3a:轉(zhuǎn)動(dòng)軸;4:鍵;5:鍵操作檢測(cè)裝置;6:基部;7:拱起部;8:頂部;9:內(nèi)側(cè)拱起部;10:基板;10a:固定側(cè)接觸面;CP:觸點(diǎn)側(cè)平面;BP:基端側(cè)平面;TP:前端側(cè)平面。

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