本發(fā)明涉及用于700納米-2000納米的波長范圍的光的薄膜型減光濾波器及其制造方法。
背景技術(shù)：
1、作為用于700納米-2000納米的波長范圍的光的減光濾波器，已知使用添加了炭黑、鈦系顏料等衰減劑的樹脂的減光濾波器。但是，為了制造添加有衰減劑的樹脂，需要用于樹脂材料與衰減劑的混煉的設(shè)備，另外，在制造工藝中不容易調(diào)整添加有衰減劑的樹脂的衰減率。另外，為了防止由樹脂表面的反射引起的雜散光，需要防反射涂層。這樣，為了制造使用添加有衰減劑的樹脂的減光濾波器，需要特殊的設(shè)備，調(diào)整花費工夫，因此制造成本也變高。
2、另一方面，還開發(fā)了近紅外用的薄膜型減光濾波器(例如專利文獻1)。但是，從光學(xué)特性和耐環(huán)境性的方面出發(fā)，包含專利文獻1中記載的近紅外用的薄膜型減光濾波器在內(nèi)的現(xiàn)有的近紅外用的薄膜型減光濾波器不能充分令人滿意。進而，尚未開發(fā)出能夠穩(wěn)定地制造從光學(xué)特性和耐環(huán)境性的方面出發(fā)能夠充分令人滿意的近紅外用的薄膜型減光濾波器。
3、因此，存在對于從光學(xué)特性和耐環(huán)境性的方面出發(fā)能夠充分令人滿意的近紅外用的薄膜型減光濾波器、和能夠穩(wěn)定地制造從光學(xué)特性和耐環(huán)境性的方面出發(fā)能夠充分令人滿意的近紅外用的薄膜型減光濾波器的制造方法的需求。
4、現(xiàn)有技術(shù)文獻
5、專利文獻
6、專利文獻1：日本特開2000-352612號公報
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、發(fā)明所要解決的課題
2、本發(fā)明的課題在于提供一種從光學(xué)特性和耐環(huán)境性的方面出發(fā)能夠充分令人滿意的近紅外用的薄膜型減光濾波器、和一種能夠穩(wěn)定地制造從光學(xué)特性和耐環(huán)境性的方面出發(fā)能夠充分令人滿意的近紅外用的薄膜型減光濾波器的制造方法。
3、用于解決課題的手段
4、本發(fā)明的第1方式的薄膜型減光濾波器具備多層膜，該多層膜包含：一個或多個氧化鐵層；和一個或多個低折射率層，該低折射率層具有比該一個或多個氧化鐵層低的折射率。在該多層膜中，各氧化鐵層和各低折射率層交替地層積，各氧化鐵層的氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比為4/3以上且小于3/2，各氧化鐵層的消光系數(shù)對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光為0.1以上。
5、本方式的薄膜型減光濾波器通過具備各氧化鐵層的氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比為4/3以上且小于3/2、各氧化鐵層的消光系數(shù)對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光為0.1以上的多層膜，能夠?qū)τ?00納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光實現(xiàn)高精度的透射率和高耐環(huán)境性。
6、本發(fā)明的第1方式的第1實施方式的薄膜型減光濾波器中，對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光，多個氧化鐵層的消光系數(shù)的最大值與最小值之差為0.1以上。
7、本實施方式的薄膜型減光濾波器通過具備對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光而多個氧化鐵層的消光系數(shù)的最大值與最小值之差為0.1以上的多層膜，能夠?qū)崿F(xiàn)10％-90％的范圍的任意的透射率。
8、本發(fā)明的第1方式的第2實施方式的薄膜型減光濾波器中，該氧化鐵層的厚度的合計值小于500納米。
9、本發(fā)明的第1方式的第3實施方式的薄膜型減光濾波器中，在塑料基板上具備該多層膜。
10、本發(fā)明的第2方式的薄膜型減光濾波器的制造方法中，該薄膜型減光濾波器具備多層膜，該多層膜包含：一個或多個氧化鐵層；和一個或多個低折射率層，該低折射率層具有比該一個或多個氧化鐵層低的折射率，該薄膜型減光濾波器的制造方法中，包括在基板上交替地層積氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比為4/3以上且小于3/2的氧化鐵層和低折射率層的步驟，通過各氧化鐵層的氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比和氧化鐵層的厚度的合計值來調(diào)節(jié)該多層膜的光線的吸收。
11、本方式的薄膜型減光濾波器的制造方法通過包括在基板上交替地層積氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比為4/3以上且小于3/2的氧化鐵層和低折射率層的步驟，能夠制造對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光具備高精度的透射率和高耐環(huán)境性的薄膜型減光濾波器。另外，本方式的薄膜型減光濾波器的制造方法通過各氧化鐵層的氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比和氧化鐵層的厚度的合計值來調(diào)節(jié)該多層膜的光線的吸收，因此能夠容易地制造對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光具備高精度的10％-90％的范圍的任意透射率的薄膜型減光濾波器。
12、本發(fā)明的第2方式的第1實施方式的薄膜型減光濾波器的制造方法中，按照各氧化鐵層的消光系數(shù)對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光為0.1以上的方式來形成該多層膜。
13、本實施方式的薄膜型減光濾波器的制造方法中，按照各氧化鐵層的消光系數(shù)對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光為0.1～1的方式來形成該多層膜，因此能夠容易地制造對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光具備高精度的透射率的、由適當層數(shù)的多層膜構(gòu)成的薄膜型減光濾波器。
14、本發(fā)明的第2方式的第2實施方式的薄膜型減光濾波器的制造方法中，按照對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光而多個氧化鐵層的消光系數(shù)的最大值與最小值之差為0.1以上的方式來形成該多層膜。
15、本實施方式的薄膜型減光濾波器的制造方法中，按照對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光而多個氧化鐵層的消光系數(shù)的最大值與最小值之差為0.1以上的方式來形成該多層膜，因此能夠容易地制造具備10％-90％的范圍的任意的透射率的薄膜型減光濾波器。
16、本發(fā)明的第2方式的第3實施方式的薄膜型減光濾波器的制造方法中，通過真空蒸鍍法或濺射來形成該多層膜。
1.一種薄膜型減光濾波器，該薄膜型減光濾波器具備多層膜，該多層膜包含：一個或多個氧化鐵層；和一個或多個低折射率層，該低折射率層具有比該一個或多個氧化鐵層低的折射率，在該多層膜中，各氧化鐵層和各低折射率層交替地層積，各氧化鐵層的氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比為4/3以上且小于3/2，各氧化鐵層的消光系數(shù)對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光為0.1以上。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜型減光濾波器，其中，對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光，多個氧化鐵層的消光系數(shù)的最大值與最小值之差為0.1以上。
3.如權(quán)利要求1所述的薄膜型減光濾波器，其中，該氧化鐵層的厚度的合計值小于500納米。
4.如權(quán)利要求1所述的薄膜型減光濾波器，其中，在塑料基板上具備該多層膜。
5.一種薄膜型減光濾波器的制造方法，該薄膜型減光濾波器具備多層膜，該多層膜包含：一個或多個氧化鐵層；和一個或多個低折射率層，該低折射率層具有比該一個或多個氧化鐵層低的折射率，該薄膜型減光濾波器的制造方法中，包括在基板上交替地層積氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比為4/3以上且小于3/2的氧化鐵層和低折射率層的步驟，通過各氧化鐵層的氧原子數(shù)相對于鐵原子數(shù)之比和氧化鐵層的厚度的合計值來調(diào)節(jié)該多層膜的光線的吸收。
6.如權(quán)利要求5所述的薄膜型減光濾波器的制造方法，其中，按照各氧化鐵層的消光系數(shù)對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光為0.1以上的方式來形成該多層膜。
7.如權(quán)利要求5所述的薄膜型減光濾波器的制造方法，其中，按照對于700納米-2000納米的波長范圍中的任一波長的光而多個氧化鐵層的消光系數(shù)的最大值與最小值之差為0.1以上的方式來形成該多層膜。
8.如權(quán)利要求5所述的薄膜型減光濾波器的制造方法，其中，通過真空蒸鍍法或濺射來形成該多層膜。