技術(shù)總結(jié)
一種用于無(wú)掩模掃描光刻的大面積曝光方法，用于提高大面積光刻尤其是批量光刻中的圖像預(yù)處理速度。本發(fā)明采用N組（每組m個(gè)）數(shù)字微鏡DMD，在曝光圖像的預(yù)處理階段，只生成圖像中相似的N塊區(qū)域中的一份曝光幀數(shù)據(jù)；相應(yīng)地把N組數(shù)字微鏡DMD調(diào)整到N塊區(qū)域的相應(yīng)的起點(diǎn)，然后它們保持相對(duì)位置不變，連續(xù)掃描曝光同一份曝光幀數(shù)據(jù)。本發(fā)明可以大幅度提高圖像預(yù)處理速度，減少生成的曝光幀數(shù)據(jù)的冗余，從而提高無(wú)掩模掃描光刻系統(tǒng)的整體效率。
技術(shù)研發(fā)人員：楊剛;武洋;吳晨楓;石峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：西安電子科技大學(xué)
文檔號(hào)碼：201710103930
技術(shù)研發(fā)日：2017.02.24
技術(shù)公布日：2017.05.10