一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器與流程

本發(fā)明涉及顯示器的加工領(lǐng)域，具體地，涉及一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器。

背景技術(shù)：

液晶顯示面板主要由彩膜基板、陣列基板和夾在兩基板之間的液晶組成，彩膜基板上還設(shè)有用以支撐液晶盒的柱隔墊物，為了防止產(chǎn)線波動(dòng)帶來的Bubble(氣泡)或重力Mura(指顯示器亮度不均勻，出現(xiàn)光斑)現(xiàn)象，需要在彩膜基板上設(shè)置兩種不同高度的柱狀隔墊物，從而降低產(chǎn)線波動(dòng)時(shí)固定液晶量對(duì)液晶顯示面板造成Bubble或重力Mura的風(fēng)險(xiǎn)。

在現(xiàn)有技術(shù)中，一般通過half tone mask(半色調(diào)掩膜)在彩膜基板形成兩種不同高度的柱狀隔墊物，但是在使用half tone mask(半色調(diào)掩膜)進(jìn)行曝光時(shí)，兩種不同高度的柱狀隔墊物對(duì)應(yīng)的曝光強(qiáng)度是不同的，由于曝光衍射，較高的曝光強(qiáng)度會(huì)對(duì)較低的曝光強(qiáng)度所對(duì)應(yīng)的柱狀隔墊物造成影響，使得較低的曝光強(qiáng)度所對(duì)應(yīng)的柱狀隔墊物出現(xiàn)火山口狀不良，從而導(dǎo)致柱狀隔墊物對(duì)液晶顯示面板的支撐強(qiáng)度變低，當(dāng)液晶顯示面板受到按壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)Gap性不良(受壓造成的顯示不均勻)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器，以降低顯示面板受到按壓時(shí)出現(xiàn)Gap性不良的風(fēng)險(xiǎn)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，在本發(fā)明中提供了一種彩膜基板，該彩膜基板包括襯底基板、黑矩陣、像素單元、平坦化層、凸塊和柱隔墊物；其中所述黑矩陣和像素單元形成在所述襯底基板上，所述黑矩陣填充在相鄰的彩色像素單元之間；所述平坦化層形成在所述黑矩陣和像素單元上；所述凸塊形成在所述平坦化層上、位于部分黑矩陣的上方；所述柱隔墊物包括第一柱隔墊物和第二柱隔墊物，所述第一柱隔墊物形成在所述凸塊上，所述第二柱隔墊物形成在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣上。

同時(shí)，在本發(fā)明中還提供了一種彩膜基板的制備方法，該制備方法包括：S1、在襯底基板上形成黑矩陣和像素單元，所述黑矩陣填充在相鄰的彩色像素單元之間；S2、在所述黑矩陣和像素單元上形成平坦化層、并在所述平坦化層上、位于部分黑矩陣的上方形成凸塊；S3、同時(shí)在所述凸塊的上方形成第一柱隔墊物，在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物。

另外，在本發(fā)明中還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置在兩者之間的液晶層，該彩膜基板為根據(jù)本發(fā)明所述的彩膜基板。

此外，在本發(fā)明中還提供了一種顯示器，該顯示器包括顯示面板，所述顯示面板為根據(jù)本發(fā)明的顯示面板。

應(yīng)用本發(fā)明所提供的上述彩膜基板及其制備方法以及顯示面板和顯示器，通過在彩膜基板的平坦化層上形成凸塊，使得后續(xù)形成隔墊物的步驟中，無需采用半色調(diào)掩膜就能夠在同一步驟中同時(shí)形成位于所述凸塊的上方形成第一柱隔墊物，以及在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物。通過設(shè)置所述凸塊，使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物頂部的相對(duì)高度不同，能夠降低產(chǎn)線波動(dòng)時(shí)固定液晶量對(duì)液晶顯示面板造成Bubble或重力Mura的風(fēng)險(xiǎn)；而通過相同工藝制備，使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物的頂面平整、強(qiáng)度相同，能夠降低顯示面板受到按壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)Gap性不良的風(fēng)險(xiǎn)。

本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。

附圖說明

附圖是用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一種實(shí)施例的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2-1至圖2-4示出了根據(jù)本發(fā)明一種實(shí)施例的制備彩膜基板的流程示意圖；

圖3-1至圖3-6示出了根據(jù)本發(fā)明另一種實(shí)施例的制備彩膜基板的流程示意圖。

附圖標(biāo)記說明

1為襯底基板、2為黑矩陣、3為像素單元、31為紅色像素單元、32為綠色像素單元、33為藍(lán)色像素單元、4為平坦化層、4′為平坦化層預(yù)備體、5為凸塊、61為第一柱隔墊物、62為第二柱隔墊物、7為凸塊光刻膠層、8為犧牲光刻膠層、8′為掩膜塊。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。

在本發(fā)明中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上”和“下為本領(lǐng)域通常意義下的相對(duì)位置關(guān)系，例如附圖1所示結(jié)構(gòu)下的相對(duì)位置關(guān)系。

在本發(fā)明中提供了一種彩膜基板，如圖1所示，該彩膜基板包括襯底基板1、黑矩陣2、像素單元3、平坦化層4、凸塊5和柱隔墊物6；其中所述黑矩陣2和像素單元3形成在所述襯底基板1上，所述黑矩陣2填充在相鄰的彩色像素單元3之間；所述平坦化層形成在所述黑矩陣2和像素單元3上；所述凸塊5形成在所述平坦化層4上、位于部分黑矩陣2的上方；所述柱隔墊物6包括第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62，所述第一柱隔墊物61形成在所述凸塊5上，所述第二柱隔墊物62形成在所述平坦化層4上、位于未形成凸塊5的部分黑矩陣2上。

根據(jù)本發(fā)明的彩膜基板，其重點(diǎn)在于在平坦化層上形成凸塊，以使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物頂部的相對(duì)高度不同，其對(duì)于襯底基板、黑矩陣、像素單元、平坦化層、凸塊、第一柱隔墊物、第二柱隔墊物所采用的具體材料并沒有特殊要求，參照本領(lǐng)域所熟知的常規(guī)材料即可，例如所述襯底基板1可以為透明基板，其具體可以是采用玻璃、石英、透明樹脂等具有一定堅(jiān)固性的導(dǎo)光且非金屬材料制成的基板。其中對(duì)于第一柱隔墊物和第二柱隔墊物的設(shè)置位置和設(shè)置數(shù)量并沒有特殊要求，可以參照本領(lǐng)域的常規(guī)設(shè)置方式。

根據(jù)本發(fā)明的彩膜基板，對(duì)于所述第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62的高度并沒有特殊要求，可以參照本領(lǐng)域的常規(guī)厚度要求，優(yōu)選情況下，所述第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62的高度相同，分別為3-4μm。

根據(jù)本發(fā)明的彩膜基板，對(duì)于凸塊5的高度并沒有特殊要求，參照本領(lǐng)域在制備兩種不同高度的柱隔墊物時(shí)，兩者的高度差即可。優(yōu)選情況下，所述凸塊5的高度為0.3-0.6μm，優(yōu)選0.4-0.5μm。

根據(jù)本發(fā)明的彩膜基板，優(yōu)選情況下，所述凸塊5與所述平坦化層4為通過同一材料，同一工序一體成型而得。

根據(jù)本發(fā)明的彩膜基板，其中對(duì)于所述像素單元3的選擇并沒有特殊要求，可以參照本領(lǐng)域的常規(guī)選擇；該像素單元可以包括多種不同顏色的像素單元，只要這多種不同顏色的像素單元組合形成白色光即可。優(yōu)選情況下，所述像素單元3包括兩兩相鄰的紅色像素單元31、綠色像素單元32和藍(lán)色像素單元33。

同時(shí)，在本發(fā)明中還提供了一種彩膜基板的制備方法，該制備方法包括：S1、在襯底基板1上形成黑矩陣2和像素單元3，所述黑矩陣2填充在相鄰的彩色像素單元3之間；S2、在所述黑矩陣2和像素單元3上形成平坦化層4、并在所述平坦化層4上、位于部分黑矩陣2的上方形成凸塊5；S3、同時(shí)在所述凸塊5的上方形成第一柱隔墊物61，在所述平坦化層4上、位于未形成凸塊5的部分黑矩陣2的上方形成第二柱隔墊物62。

本發(fā)明所提供的上述彩膜基板的制備方法，工藝方法簡(jiǎn)單，易于實(shí)施，適用于大規(guī)模的生產(chǎn)。該方法通過在平坦化層4上形成凸塊5，以使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物頂部的相對(duì)高度不同，進(jìn)而降低產(chǎn)線波動(dòng)時(shí)固定液晶量對(duì)液晶顯示面板造成Bubble或重力Mura的風(fēng)險(xiǎn)；同時(shí)通過采用相同工藝制備第一柱隔墊物和第二柱隔墊物，使得兩者的頂部平整、強(qiáng)度相同，進(jìn)而能夠降低顯示面板受到按壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)Gap性不良的風(fēng)險(xiǎn)。

根據(jù)本發(fā)明上述方法，在S1中在襯底基板1上形成黑矩陣2和像素單元3的步驟包括：S11在襯底基板上形成所需圖案的黑矩陣2；S12、在所述黑矩陣的圖案開口處形成所需像素單元3。其中：

在S11形成黑矩陣的步驟中，對(duì)于黑矩陣的形成方法可以沒有特殊要求，參照本領(lǐng)域的常規(guī)方案即可。優(yōu)選情況下，所述步驟S11包括：(1)、在所述襯底基板涂覆黑矩陣光刻膠，形成黑矩陣光刻膠層；(2)、對(duì)所述黑矩陣光刻膠層進(jìn)行曝光顯影，形成具有黑矩陣圖案的黑矩陣前體；(3)、干燥所述黑矩陣前體形成所述黑矩陣。

優(yōu)選情況下，在形成黑矩陣的步驟中，所采用的曝光顯影的方法也可以為形成黑矩陣的常規(guī)方法，例如可以采用日本DNK公司RZ-1300IXF/C曝光設(shè)備，操作條件包括，在22-24℃、30-50MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光10-20s。

優(yōu)選情況下，在形成黑矩陣的步驟中，干燥所述黑矩陣前體形成所述黑矩陣的步驟中，干燥的條件包括：在溫度為200-250℃條件下，干燥25min以上，優(yōu)選25-50min。

在S12形成像素單元的步驟中，所形成像素單元可以沒有特殊要求，參照本領(lǐng)域的常規(guī)方法即可。其中所述像素單元可以包括多種不同顏色的像素單元，只要這多種不同顏色的像素單元組合形成白色光即可。優(yōu)選情況下，所述像素單元包括兩兩相鄰的紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。此時(shí)在形成所述像素單元的步驟中，分別按順序依次形成紅色像素單元、綠色像素單元和藍(lán)色像素單元。

在一種實(shí)施方式中，形成紅色像素單元31、綠色像素單元32或藍(lán)色像素單元33時(shí)，分別包括以下步驟：(1)在襯底基材形成有黑矩陣一側(cè)的表面上涂覆相應(yīng)顏色的像素單元光刻膠，形成相應(yīng)的像素單元光刻膠層；(2)對(duì)所形成的像素單元光刻膠層進(jìn)行曝光顯影，以在黑矩陣圖案的相應(yīng)開口處形成相應(yīng)的像素單元前體；(3)干燥所述像素單元前體形成所述像素單元。

優(yōu)選情況下，在形成像素單元的步驟中，對(duì)于所采用的光刻膠可以沒有特殊要求，可以采用本領(lǐng)域常規(guī)使用的原料。

優(yōu)選情況下，在形成像素單元的步驟中，所采用的曝光顯影的方法也可以為形成像素單元的常規(guī)方法，例如可以采用日本DNK公司RZ-1300IXF/C設(shè)備，操作條件包括，在22-24℃、30-50MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光10-20s。

優(yōu)選情況下，在形成像素單元的方法中，干燥所述像素單元前體形成所述像素單元的步驟中，干燥的條件包括：在溫度為200-250℃條件下，干燥25min以上，優(yōu)選25-50min。

根據(jù)本發(fā)明方法，在一種優(yōu)選實(shí)施方式中，所述S2包括：S21、如圖2-1所示，在所述黑矩陣2和像素單元3上形成平坦化層4；S22、如圖2-2所示，在所述平坦化層4上涂覆凸塊光刻膠，形成凸塊光刻膠層7；S23、如圖2-3所示，對(duì)所述凸塊光刻膠層7進(jìn)行曝光顯影，如圖2-4所示，在所述平坦化層4上、位于部分黑矩陣2的上方形成凸塊前體；S24、干燥所述凸塊前體形成所述凸塊5。

優(yōu)選情況下，在形成平坦化層4的步驟中，所采用的材料可以為本領(lǐng)域常規(guī)用于形成平坦化層的材料，例如商購(gòu)自JNC公司的PIG-7414材料，所形成的平坦化層的厚度可以為本領(lǐng)域的常規(guī)厚度，例如厚度為2-3μm。

優(yōu)選情況下，在形成凸塊5的步驟中，對(duì)于凸塊光刻膠的材料并沒有特殊要求，可以采用與現(xiàn)有平坦化層相同的材料，例如商購(gòu)自JNC公司的PIG-7414

優(yōu)選情況下，在形成凸塊5的步驟中，所采用的曝光顯影的方法也可以為本領(lǐng)域所公知的常規(guī)方法，例如可以采用日本DNK公司RZ-1300IXF/C曝光設(shè)備，操作條件包括，在22-24℃、10-20MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光10-20s。

優(yōu)選情況下，在形成凸塊5的步驟中，干燥的條件包括：在溫度為200-250℃條件下，干燥25min以上，優(yōu)選25-50min。

根據(jù)本發(fā)明方法，在另一種優(yōu)選實(shí)施方式中，所述S2包括：S21、如圖3-1所示，在所述黑矩陣2和像素單元3上形成平坦化層預(yù)備體4′；S22、如圖3-2所示，在所述平坦化層預(yù)備體4′上涂覆犧牲光刻膠，形成犧牲光刻膠層8；S23、如圖3-3和圖3-4所示，對(duì)所述犧牲光刻膠層8進(jìn)行曝光顯影，在所述平坦化層預(yù)備體4′上、位于部分黑矩陣2的上方形成掩膜塊8′；S24、如圖3-5所示，沿所述掩膜塊8′向下干法刻蝕所述平坦化層預(yù)備體4′，形成平坦化層4和在所述平坦化層4上、位于部分黑矩陣2的上方形成凸塊5；S25、如圖3-6所示，去除所述掩膜塊8′。

優(yōu)選情況下，在形成平坦化層預(yù)備體4′的步驟中，該平坦化層預(yù)備體4′的材料采用本領(lǐng)域常規(guī)的平坦化層的材料即可，例如采用商購(gòu)自JNC公司的PIG-7414材料；該平坦化層預(yù)備體4′的厚度比本領(lǐng)域常規(guī)所形成的平坦化層的厚度大0.3-0.6μm，優(yōu)選0.4-0.5μm，以預(yù)留出凸塊5的厚度。

優(yōu)選情況下，所采用的犧牲光刻膠并沒有特殊要求，只要對(duì)平坦化層無副作用，且易于去除即可，例如商購(gòu)自AZ公司的AZ4620。對(duì)所述犧牲光刻膠層8進(jìn)行曝光顯影的步驟中，所采用的曝光顯影的方法也可以為本領(lǐng)域所公知的常規(guī)方法，例如可以采用日本DNK公司RZ-1300IXF/C曝光設(shè)備，操作條件包括，在22-24℃、20-40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光20-30s。

優(yōu)選情況下，在沿所述掩膜塊8′向下干法刻蝕所述平坦化層預(yù)備體4′形成平坦化層和凸塊5的步驟中，干法刻蝕的方法采用等離子干法刻蝕工藝。

在本發(fā)明中，在平坦化層4上形成凸塊5的步驟中，對(duì)于凸塊5所設(shè)置的位置并沒有特殊要求，只要形成在黑矩陣上方即可，即可以隨機(jī)排布，也可以按照一定規(guī)則排布。

根據(jù)本發(fā)明的方法，所述S4包括：S31、在所述平坦化層4和所述凸塊5上涂覆柱隔墊物光刻膠，形成柱隔墊物光刻膠層；S32、在所述柱隔墊物光刻膠層進(jìn)行曝光顯影，在所述凸塊5的上方形成第一柱隔墊物前體，在所述平坦化層4上、位于未形成凸塊5的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物前體；S33、干燥所述第一柱隔墊物前體和所述第二柱隔墊物前體形成第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62。

優(yōu)選情況下，在形成第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62的步驟中，所采用的柱隔墊物光刻膠可以為本領(lǐng)域的常規(guī)材料，例如采用商購(gòu)自JSR公司的JNPC-933。形成第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62的高度為3-4μm。

優(yōu)選情況下，在形成第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62的步驟中，所采用的曝光顯影的方法也可以為形成像素單元的常規(guī)方法，例如可以采用日本DNK公司RZ-1300IXF/C設(shè)備，操作條件包括，在22-24℃、30-50MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光10-20s。

優(yōu)選情況下，在形成第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62的步驟中，干燥所述第一柱隔墊物前體和第二柱隔墊物前體的條件包括：在溫度為200-250℃條件下，干燥25min以上，優(yōu)選25-50min。

另外，根據(jù)本發(fā)明的第三個(gè)方面，還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置在兩者之間的液晶層，其中彩膜基板為根據(jù)本發(fā)明所述的彩膜基板。

此外，根據(jù)本發(fā)明的第四方面，還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括根據(jù)本發(fā)明的所述顯示面板。該顯示裝置可以為：手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。

以下將結(jié)合具體實(shí)施例以具體說明本發(fā)明的有益效果。

實(shí)施例1

彩膜基板的制備：

S1、以厚度為0.5mm的玻璃(商購(gòu)自AGC公司的AN100)作為襯底基板，對(duì)該襯底基板進(jìn)行超純水清洗使其表面無塵無雜質(zhì)離子；

S2、使用黑矩陣光刻膠(商購(gòu)自TOK公司的BK-6180SL)；將所述黑矩陣光刻膠涂覆在所述襯底基板上形成黑矩陣光刻膠層，將涂覆有黑矩陣光刻膠層的襯底基板置于曝光設(shè)備(商購(gòu)自日本DNK公司的RZ-1300IXF/C型號(hào))中，在23℃、40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光15s，形成具有黑矩陣圖案的黑矩陣前體，在230℃下干燥30分鐘，形成黑矩陣(；

S3、配制紅色像素單元光刻膠(商購(gòu)自DFC公司的IT-GR335SC-49A牌號(hào)的產(chǎn)品)、綠色像素單元光刻膠(商購(gòu)自DFC公司的IT-GG746SC-2牌號(hào)的產(chǎn)品)和藍(lán)色像素單元光刻膠(商購(gòu)自DFC公司的TDN-SC7002B牌號(hào)的產(chǎn)品)；

在襯底基板形成有黑矩陣圖案一側(cè)的表面上，涂覆紅色像素單元光刻膠，填充黑矩陣圖案開口、并覆蓋黑矩陣，形成紅色像素單元光刻膠層，將形成有紅色像素單元光刻膠層的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自日本DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，在23℃、40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光15s，在相應(yīng)的黑矩陣圖案開口處形成紅色像素單元前體，在230℃下干燥30分鐘，形成紅色像素單元；

在襯底基板形成有黑矩陣圖案一側(cè)的表面上，涂覆綠色像素單元光刻膠，填充剩余的黑矩陣圖案開口中、并覆蓋黑矩陣和紅色像素單元，形成綠色像素單元光刻膠層，將形成有綠色像素單元光刻膠層的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，在23℃、40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光15s，在相應(yīng)的黑矩陣圖案開口處形成綠色像素單元前體，在230℃下干燥30分鐘，形成綠色像素單元

在襯底基板形成有黑矩陣圖案一側(cè)的表面上，涂覆藍(lán)色像素單元光刻膠，填充剩余的黑矩陣圖案開口處、并覆蓋黑矩陣、紅色像素單元和綠色像素單元，形成藍(lán)色像素單元光刻膠層，將形成有藍(lán)色像素單元光刻膠層的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，在23℃、40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光15s，在相應(yīng)的黑矩陣圖案形成藍(lán)色像素單元前體，在230℃下干燥30分鐘，形成藍(lán)色像素單元；

S4、在所述黑矩陣2和像素單元3上形成厚度為2μm的平坦化層4(材料為商購(gòu)自JNC公司的PIG-7414)，形成如2-1所示結(jié)構(gòu)；

S5、在所述平坦化層4上涂覆凸塊光刻膠(商購(gòu)自JNC公司的PIG-7414)形成厚度為10μm的凸塊光刻膠層7，得到圖2-2所示結(jié)構(gòu)，將形成有凸塊光刻膠層7的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，如圖2-3所示，在23℃、15MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光10s，在部分黑矩陣的上方形成凸塊前體，在230℃下干燥30分鐘，形成凸塊(厚度為0.5μm)，得到圖2-4所示結(jié)構(gòu)；

S6、在所述平坦化層4上涂覆覆蓋所述凸塊的柱隔墊物光刻膠(商購(gòu)自JSR公司的JNPC-933)形成柱隔墊物光刻膠層，將形成有柱隔墊物光刻膠層的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，在23℃、40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光15s，在所述凸塊5的上方形成第一柱隔墊物前體，在所述平坦化層4上、位于未形成凸塊5的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物前體，在230℃下干燥30分鐘，形成厚度為3μm的第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62，得到圖1所示結(jié)構(gòu)的彩膜基板。

實(shí)施例2

S1-S3：參照實(shí)施例1中相應(yīng)步驟；

S4、在所述黑矩陣2和像素單元3上形成厚度為2.5μm的平坦化層預(yù)備體4′(材料為商購(gòu)自JNC公司的PIG-7414)，形成如3-1所示結(jié)構(gòu)；

S5、在所述平坦化層預(yù)備體4′上涂覆犧牲光刻膠(商購(gòu)自AZ公司的AZ4620)形成厚度為10μm的犧牲光刻膠層8，得到圖3-2所示結(jié)構(gòu)，將形成有犧牲光刻膠層8的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，如圖3-3所示，在23℃、30MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光25s，在部分黑矩陣的上方形成掩膜塊8′，得到圖3-4所示結(jié)構(gòu)；

S6、沿所述掩膜塊8′向下等離子干法刻蝕所述平坦化層預(yù)備體4′，形成厚度為2μm平坦化層4和在所述平坦化層4上、位于所述部分黑矩陣2的上方厚度為0.5μm的凸塊5，得到如圖3-5所示結(jié)構(gòu)，去除所述掩膜塊8′，得到如圖3-6所示的結(jié)構(gòu)；

S7在所述平坦化層4上涂覆覆蓋所述凸塊的柱隔墊物光刻膠(商購(gòu)自JSR公司的JNPC-933)形成柱隔墊物光刻膠層，將形成有柱隔墊物光刻膠層的襯底基板放入到曝光設(shè)備(商購(gòu)自DNK公司的RZ-1300IXF/C)中，在23℃、40MJ/cm²強(qiáng)度下，曝光15s，在所述凸塊5的上方形成第一柱隔墊物前體，在所述平坦化層4上、位于未形成凸塊5的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物前體，在230℃下干燥30分鐘，形成厚度為3μm第一柱隔墊物61和第二柱隔墊物62，得到圖1所示結(jié)構(gòu)的彩膜基板。

實(shí)施例3

顯示面板的制備：所述顯示面板包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置在兩者之間的液晶層，其中彩膜基板采用實(shí)施例1或2所制備的彩膜基板。

實(shí)施例4

顯示器的制備：所述顯示器中包括顯示面板，所述顯示面板采用實(shí)施例3中所制備的顯示面板。

應(yīng)用本發(fā)明技術(shù)方案的彩膜基板及其制備方法以及顯示面板，通過在彩膜基板中平坦化層上形成凸塊，使得后續(xù)形成隔墊物的步驟中，無需采用半色調(diào)掩膜就能夠在同一步驟中同時(shí)形成位于所述凸塊的上方形成第一柱隔墊物，以及在所述平坦化層上、位于未形成凸塊的部分黑矩陣的上方形成第二柱隔墊物。通過設(shè)置所述凸塊，使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物頂部的相對(duì)高度不同，能夠降低產(chǎn)線波動(dòng)時(shí)固定液晶量對(duì)液晶顯示面板造成Bubble或重力Mura的風(fēng)險(xiǎn)；而通過相同工藝制備，使得第一柱隔墊物和第二柱隔墊物的強(qiáng)度相同，能夠降低顯示面板受到按壓時(shí)會(huì)出現(xiàn)Gap性不良的風(fēng)險(xiǎn)。

以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型，這些簡(jiǎn)單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對(duì)各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本發(fā)明的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容。