支撐桿與應用此支撐桿的蝕刻設備的制作方法

本發(fā)明涉及一種支撐桿與應用此支撐桿的蝕刻設備，且特別涉及一種應用于較薄玻璃基板的支撐桿與應用此支撐桿的蝕刻設備。

背景技術：

近年來，由于顯示器制造技術的快速發(fā)展，各種攜帶式電子裝置，例如個人數(shù)字助理、智能型手機、平板電腦等等，越來越普遍地應用于人們的日常生活中。在各種顯示器中，由于液晶顯示器具有輕、薄且成本低廉等優(yōu)點，液晶顯示器廣泛地應用于各種攜帶式電子裝置中。

在液晶顯示器的制造過程中，通常需要利用蝕刻設備在玻璃基板上進行蝕刻來形成具有各種不同功能的層面。在一般的蝕刻工藝中，蝕刻設備會利用支撐桿來支撐待蝕刻的玻璃基板，使玻璃基板位在兩個電極之間。接著，引入蝕刻氣體并利用電極所提供的電場來離子化蝕刻氣體，以蝕刻玻璃基板。

為了滿足使用者的需求，玻璃基板的厚度變得越來越小，以利于制造出體積和重量更小的電子裝置。然而，當玻璃基板的厚度變小時，蝕刻設備便無法有效地支撐玻璃基板。

因此，需要一種支撐桿與應用此支撐桿的蝕刻設備來解決上述問題。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種支撐桿與應用此支撐桿的蝕刻設備，以提供優(yōu)選的支撐效果來支撐玻璃基板，并避免刮傷玻璃基板。

本發(fā)明的一實施例是在提供一種蝕刻設備的支撐桿。此支撐桿包含第一 部分、第二部分以及第三部分。第一部分連接至控制裝置，以使控制裝置控制支撐桿的移動。第二部分用以支撐玻璃基板。此第二部分的材質(zhì)為工程塑膠。第三部分位于第一部分與第二部分之間，其材質(zhì)為陶瓷材料。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的支撐桿中，工程塑膠為聚酰亞胺。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的支撐桿中，第一部分的材質(zhì)為金屬。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的支撐桿中，第三部分用以在支撐桿受到撞擊時提供潰縮機制。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的支撐桿中，第三部分的材質(zhì)為氧化鋯。

本發(fā)明的另一實施例是在提供一種蝕刻設備。此蝕刻設備用以蝕刻玻璃基板。此蝕刻設備包含蝕刻氣體供應裝置、電極裝置以及多個支撐桿。蝕刻氣體供應裝置用以提供蝕刻氣體。電極裝置用以離子化蝕刻氣體。電極裝置包含下電極部和上電極部。下電極部具有多個貫穿孔。上電極部對應設置于下電極部上方。支撐桿穿設于前述的貫穿孔中，以支撐玻璃基板，并使玻璃基板位于上電極部與下電極部之間，其中每個支撐桿包含第一部分、第二部分以及第三部分。第一部分連接至控制裝置，以使控制裝置控制支撐桿的移動。第二部分用以支撐玻璃基板。此第二部分的材質(zhì)為工程塑膠。第三部分位于第一部分與第二部分之間，其材質(zhì)為陶瓷材料。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的蝕刻設備中，工程塑膠為聚酰亞胺。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的蝕刻設備中，第一部分的材質(zhì)為金屬。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的蝕刻設備中，第三部分用以在支撐桿受到撞擊時提供潰縮機制。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，在前述的蝕刻設備中，玻璃基板具有可視區(qū)域，此可視區(qū)域?qū)料码姌O部的輔助支撐區(qū)域，貫穿孔的至少一個位于輔助支撐區(qū)域中。

由上述說明可知，本發(fā)明實施例的支撐桿具有三節(jié)式架構(gòu)，此三節(jié)式架 構(gòu)不但可提供潰縮機制來保護玻璃基板和支撐桿，也能夠避免刮傷玻璃基板并具有提供長效的抗腐蝕能力。另外，本發(fā)明實施例的蝕刻設備是在玻璃基板的可視區(qū)域內(nèi)設置至少一個支撐桿來支撐玻璃基板，如此可提供優(yōu)選的支撐效果來支撐玻璃基板。

附圖說明

為了更完整了解實施例及其優(yōu)點，現(xiàn)參照結(jié)合所附圖式所做的下列描述，其中：

圖1是繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的蝕刻設備的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的下電極部的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；以及

圖3是繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的支撐桿的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

請參照圖1，圖1是繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的蝕刻設備100的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。蝕刻設備100包含支撐座110，上電極部120以及蝕刻氣體供應裝置130。支撐座110包含下電極部112以及多個支撐桿114。支撐桿114貫穿下部電極112，以支撐待處理的玻璃基板lcp。蝕刻氣體供應裝置130用以提供蝕刻氣體。而上電極部120和下電極部112組成電極裝置，以離子化蝕刻氣體供應裝置130所提供的蝕刻氣體。

在本實施例中，上電極部120和下電極部112是提供垂直于玻璃基板lcp的電場，而蝕刻氣體供應裝置130則沿著垂直此電場的方向來提供蝕刻氣體至上電極部120和玻璃基板lcp之間，但本發(fā)明的實施例并不受限于此。在本發(fā)明的其他實施例中，蝕刻氣體供應裝置130可設置于上電極部120上方，以沿著平行此電場的方向來提供蝕刻氣體至上電極部120和玻璃基板lcp之間。

請參照圖2，圖2是繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的下電極部112的俯視結(jié)構(gòu)示 意圖。下電極部112具有輔助支撐區(qū)域aa，輔助支撐區(qū)域aa對應至玻璃基板lcp的可視區(qū)域。具體而言，玻璃基板lcp為液晶面板的半成品，其具有可視區(qū)域。當玻璃基板lcp設置于下電極部112上方時，玻璃基板lcp的可視區(qū)域可在下電極部112上相應地定義出輔助支撐區(qū)域aa。

下電極部112具有多個貫穿孔h1和h2，以供支撐桿114穿設于其中。在本發(fā)明的實施例中，輔助支撐區(qū)域aa內(nèi)具有至少一個貫穿孔。例如，貫穿孔h2設置于輔助支撐區(qū)域aa內(nèi)，而貫穿孔h1設置于輔助支撐區(qū)域aa外。在本實施例中，下電極部112具有八個貫穿孔h1，且每兩個貫穿孔h1為一組并對應設置于下電極部112的一個側(cè)邊。類似地，下電極部112具有八個貫穿孔h2，且每兩個貫穿孔h2為一組并對應設置于下電極部112的一個側(cè)邊。

請參照圖3，其是繪示根據(jù)本發(fā)明實施例的支撐桿114的結(jié)構(gòu)示意圖。支撐桿114包含第一部分114a、第二部分114c以及位于第一部分114a與第二部分114c之間的第三部分114b。第一部分114a連接至控制裝置(未繪示)，以供控制裝置控制支撐桿114的移動。例如，支撐桿114可上下移動，以調(diào)整玻璃基板lcp的高度。在本實施例中，第一部分114a的材質(zhì)為金屬，但本發(fā)明的實施例并不受限于此。

第二部分114c用以直接接觸玻璃基板lcp，以支撐玻璃基板lcp。如圖2所示，由于貫穿孔h2設置于輔助支撐區(qū)域aa中，因此穿設貫穿孔h2的支撐桿114會直接接觸玻璃基板lcp的可視區(qū)域。為了避免支撐桿114的第二部分114c被蝕刻氣體腐蝕，以及避免支撐桿114的第二部分114c刮傷玻璃基板lcp的可視區(qū)域，本發(fā)明實施例的第二部分114c利用硬度比玻璃低的工程塑膠來制作。在本實施例中，支撐桿114的第二部分114c是以聚酰亞胺(polyimide)來制作，但本發(fā)明的實施例并不受限于此。

第三部分114b用以在支撐桿114受到撞擊時提供潰縮機制。例如，當?shù)诙糠?14c受到撞擊時，第三部分114b會潰縮，進而避免產(chǎn)生更大的傷害。在本實施例中，第三部分114b的材質(zhì)為陶瓷材料，例如氧化鋯，但本發(fā)明的 實施例并不受限于此。

由以上說明可知，本發(fā)明實施例的蝕刻設備100是在玻璃基板lcp的可視區(qū)域內(nèi)設置至少一個支撐桿114來支撐玻璃基板lcp，如此本發(fā)明實施例的蝕刻設備100可提供優(yōu)選的支撐效果來支撐玻璃基板lcp。

另外，本發(fā)明實施例的支撐桿114具有三節(jié)式架構(gòu)(第一部分114a、第二部分114c以及第三部分114b)，此三節(jié)式架構(gòu)不但可提供潰縮機制來保護玻璃基板lcp和支撐桿114，也能夠避免刮傷玻璃基板lcp并具有提供長效的抗腐蝕能力。

雖然本發(fā)明已經(jīng)以實施方式公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領域技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作各種變動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視權利要求所界定者為準。