技術(shù)總結(jié)
一種浸沒(méi)式光刻設(shè)備具有控制器(500)，所述控制器(500)被配置用以控制襯底臺(tái)(WT)沿著曝光路線移動(dòng)，所述曝光路線按次序包括：進(jìn)入運(yùn)動(dòng)(R2)，其中襯底從浸沒(méi)空間(10)不與所述襯底重疊的襯底外位置移動(dòng)至所述浸沒(méi)空間與所述襯底至少部分地重疊的襯底上位置；轉(zhuǎn)移運(yùn)動(dòng)(R3，R4)，其中所述襯底臺(tái)在所述襯底移動(dòng)至所述襯底上位置之后改變速度和/或方向且移動(dòng)至少一轉(zhuǎn)移時(shí)間；和曝光運(yùn)動(dòng)，其中掃描所述襯底且使圖案化的束投影至所述襯底上，其中貫穿所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動(dòng)，所述浸沒(méi)空間的至少一部分與所述襯底重疊，且其中所述圖案化的束在所述進(jìn)入運(yùn)動(dòng)及所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動(dòng)期間沒(méi)有被投影至所述襯底上。
技術(shù)研發(fā)人員：N·J·M·范德紐維拉爾;V·M·布蘭科卡巴洛;C·R·德格魯特;R·H·J·屈斯泰;D·M·菲利普斯;F·A·范德桑德;P·L·J·崗特爾;E·H·E·C·尤姆麥倫;Y·J·G·范德維基沃爾;B·D·斯霍爾滕;M·武泰;R·F·科克斯;J·A·維埃拉薩拉斯
受保護(hù)的技術(shù)使用者：ASML荷蘭有限公司
文檔號(hào)碼：201580051801
技術(shù)研發(fā)日：2015.06.30
技術(shù)公布日：2017.05.24