1.一種浸沒式光刻設(shè)備，包括：
襯底臺，被配置用以支撐具有多個目標(biāo)部分的襯底；
投影系統(tǒng)，被配置用以將圖案化的束投影至所述襯底上；
定位器，被配置用以相對于所述投影系統(tǒng)移動所述襯底臺；
液體限制結(jié)構(gòu)，被配置用以將液體限制于介于所述投影系統(tǒng)與所述襯底和/或所述襯底臺的表面之間的浸沒空間；和
控制器，被配置用以控制所述定位器以移動所述襯底臺來遵循曝光路線，所述曝光路線按次序包括：
進(jìn)入運(yùn)動，其中所述襯底臺從所述浸沒空間不與所述襯底重疊的襯底外位置移動至所述浸沒空間與所述襯底至少部分地重疊的襯底上位置；
轉(zhuǎn)移運(yùn)動，其中所述襯底臺在所述襯底移動至所述襯底上位置之后改變速度和/或方向且移動至少某一轉(zhuǎn)移時間；和
曝光運(yùn)動，其中掃描所述襯底且使所述圖案化的束投影至所述襯底上，
其中所述圖案化的束在所述進(jìn)入運(yùn)動及所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動期間沒有被投影至所述襯底上，且
其中貫穿所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動，所述浸沒空間的至少一部分與所述襯底重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸沒式光刻設(shè)備，其中所述進(jìn)入運(yùn)動發(fā)生于所述襯底上的一位置處，所述位置被選擇成使得在該位置所述襯底的邊緣的切線與所述浸沒空間的前邊緣成銳角。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的浸沒式光刻設(shè)備，其中所述進(jìn)入運(yùn)動發(fā)生于所述襯底上的一位置處，所述位置被選擇成使得介于所述襯底的所述邊緣的所述切線與所述浸沒空間的所述前邊緣之間的角度在從20°至70°的范圍中，期望地在從30°至60°的范圍中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的浸沒式光刻設(shè)備，其中所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動包括所述襯底臺的移動方向的改變。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的浸沒式光刻設(shè)備，其中所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動包括S形運(yùn)動。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的浸沒式光刻設(shè)備，其中所述轉(zhuǎn)移時間為至少50毫秒，期望地為至少100毫秒。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的浸沒式光刻設(shè)備，其中所述曝光路線包括被布置用以曝光所述襯底的所有目標(biāo)部分的多個曝光運(yùn)動，且所述曝光路線被布置成使得貫穿所述曝光路線，在所述進(jìn)入運(yùn)動之后，所述浸沒空間的至少一部分與所述襯底重疊。
8.一種使用浸沒式光刻設(shè)備來將圖案化的束投影至具有多個目標(biāo)部分的襯底上的器件制造方法，所述方法包括：
將液體限制于介于投影系統(tǒng)與面向表面之間的浸沒空間；和
沿著曝光路線移動保持所述襯底的襯底臺，所述曝光路線按次序包括：
進(jìn)入運(yùn)動，其中所述襯底從所述浸沒空間不與所述襯底重疊的襯底外位置移動至所述浸沒空間與所述襯底至少部分地重疊的襯底上位置；
轉(zhuǎn)移運(yùn)動，其中所述襯底臺在所述襯底移動至所述襯底上位置之后改變速度和/或方向且移動至少某一轉(zhuǎn)移時間；及
曝光運(yùn)動，其中掃描所述襯底且使所述投影束投影至所述襯底上，
其中所述圖案化的束在所述進(jìn)入運(yùn)動和所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動期間沒有被投影至所述襯底上，且
其中貫穿所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動，所述浸沒空間的至少一部分與所述襯底重疊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述進(jìn)入運(yùn)動發(fā)生于所述襯底上的一位置處，所述位置被選擇成使得在該位置處所述襯底的邊緣的切線與所述浸沒空間的前邊緣成銳角。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述進(jìn)入運(yùn)動發(fā)生于所述襯底上的一位置處，所述位置被選擇成使得所述襯底的所述切線邊緣與所述浸沒空間的所述前邊緣之間的所述角度在從20°至70°的范圍中，期望地從30°至60°的范圍中。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動包括所述襯底臺的移動方向的改變。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述轉(zhuǎn)移運(yùn)動包括S形運(yùn)動。
13.根據(jù)權(quán)利要求8至12中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述轉(zhuǎn)移時間為至少50毫秒，期望地為至少100毫秒。
14.根據(jù)權(quán)利要求8至13中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述曝光路線包括被布置用以曝光所述襯底的所有目標(biāo)部分的多個曝光運(yùn)動，且所述曝光路線被布置使得貫穿所述曝光路線，在所述進(jìn)入運(yùn)動之后，所述浸沒空間的至少一部分與所述襯底重疊。
15.一種使用浸沒式光刻設(shè)備來將圖案化的束投影至具有多個目標(biāo)部分的襯底上的器件制造方法，所述方法包括：
接收表示所述目標(biāo)部分將由所述圖案化的束的投影而曝光的次序的路線指令；
預(yù)測所述襯底上的在根據(jù)所述路線指令而曝光所述目標(biāo)部分的情況下存在液體被遺留的風(fēng)險(xiǎn)的部位；
產(chǎn)生包括額外移動以減小在所述目標(biāo)部分的曝光期間液體被遺留的所述風(fēng)險(xiǎn)的經(jīng)修改的路線指令；
使用液體限制結(jié)構(gòu)將液體限制于介于投影系統(tǒng)與面向表面之間的浸沒空間；和
沿著由所述經(jīng)修改的路線指令所限定的曝光路線來移動保持所述襯底的襯底臺。