本發(fā)明涉及一種感光性樹(shù)脂組合物。更詳細(xì)而言，本發(fā)明涉及一種對(duì)于形成液晶顯示裝置、有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置、觸摸屏、集成電路元件、固體攝像元件等電子零件的平坦化膜、保護(hù)膜及層間絕緣膜等而言適宜的感光性樹(shù)脂組合物。另外，本發(fā)明涉及一種硬化膜的制造方法、使感光性樹(shù)脂組合物硬化而成的硬化膜、使用硬化膜的液晶顯示裝置、有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置等圖像顯示裝置、及觸摸屏等輸入裝置。
背景技術(shù)：
：：在液晶顯示裝置及有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置等圖像顯示裝置、以及觸摸屏等輸入裝置中，多數(shù)情況下設(shè)置有進(jìn)行了圖案形成的層間絕緣膜。在形成層間絕緣膜時(shí)，因必需的用以獲得圖案形狀的步驟數(shù)少，且可獲得充分的平坦性，故廣泛使用感光性樹(shù)脂組合物。近年來(lái)，為了實(shí)現(xiàn)制造的效率化或圖像顯示裝置的高性能化，嘗試以較從前高的溫度(例如300℃左右)進(jìn)行熱處理或制膜。作為耐熱性高的材料，已知的是聚苯并噁唑。正在進(jìn)行使用聚苯并噁唑前體來(lái)制備感光性樹(shù)脂組合物并形成各種微細(xì)圖案的嘗試(專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本專利特開(kāi)2008-224970號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2：日本專利特表2006-526812號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的問(wèn)題作為使用了聚苯并噁唑前體的感光性樹(shù)脂組合物的要求特性，要求聚苯并噁唑前體的溶劑溶解性優(yōu)異、制成硬化膜時(shí)的耐化學(xué)品性及耐光性優(yōu)異等。專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2中記載的發(fā)明在制成硬化膜時(shí)的耐光性并不充分。由此，本發(fā)明的目的在于提供一種耐化學(xué)品性、耐光性及溶劑溶解性優(yōu)異的感光性樹(shù)脂組合物。另外，本發(fā)明的目的在于提供一種硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置及觸摸屏。解決問(wèn)題的技術(shù)手段發(fā)明人進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)使用以既定的比例含有后述的通式(1)所表示的重復(fù)單元及通式(2)所表示的重復(fù)單元的聚苯并噁唑前體可解決所述課題。即，本發(fā)明提供以下內(nèi)容。＜1＞一種感光性樹(shù)脂組合物，其含有：聚苯并噁唑前體；選自產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑及醌二疊氮化合物中的至少一種；以及溶劑，且聚苯并噁唑前體以合計(jì)為聚苯并噁唑前體中的所有重復(fù)單元的70mol％以上的比例含有下述通式(1)所表示的重復(fù)單元及下述通式(2)所表示的重復(fù)單元，通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)為9:1～3:7；[化1]在通式(1)及通式(2)中，X1及X2分別獨(dú)立地表示四價(jià)的有機(jī)基，R1～R4分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc所表示的基團(tuán)，且R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子或酸分解性基，Rc表示烷基或芳基，Y1表示碳數(shù)3～15的環(huán)狀的脂肪族基，Y2表示碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基。＜2＞根據(jù)＜1＞所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中感光性樹(shù)脂組合物含有產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑，聚苯并噁唑前體中，聚苯并噁唑前體的所有重復(fù)單元所具有的酸基的10％～60％經(jīng)酸分解性基保護(hù)。＜3＞根據(jù)＜1＞或＜2＞所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中聚苯并噁唑前體具有在末端由單官能酰氯封閉的結(jié)構(gòu)。＜4＞根據(jù)＜1＞至＜3＞中任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中通式(1)中的Y1為亞環(huán)己基或雙亞環(huán)己基。＜5＞根據(jù)＜1＞至＜4＞中任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中在聚苯并噁唑前體中，通式(1)中的X1及通式(2)中的X2分別獨(dú)立地為選自下述式(X-1)～式(X-4)中的一種；[化2]在式(X-1)～式(X-4)中，*1或*2的任一個(gè)表示與-OR1或-OR3的連結(jié)鍵，另一個(gè)表示與聚合物主鏈的連結(jié)鍵，*3或*4的任一個(gè)表示與-OR2或-OR4的連結(jié)鍵，另一個(gè)表示與聚合物主鏈的連結(jié)鍵。＜6＞一種硬化膜的制造方法，其包括：將根據(jù)＜1＞至＜5＞中任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物涂布于基板上的步驟；自所涂布的感光性樹(shù)脂組合物中去除溶劑的步驟；利用活性放射線對(duì)去除了溶劑的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行曝光的步驟；利用顯影液對(duì)經(jīng)曝光的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行顯影的步驟；以及對(duì)經(jīng)顯影的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行熱硬化的步驟。＜7＞根據(jù)＜6＞所述的硬化膜的制造方法，其中在顯影步驟后且熱硬化步驟前，包括對(duì)經(jīng)顯影的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行曝光的步驟。＜8＞一種硬化膜，其是使根據(jù)＜1＞至＜5＞中任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物硬化而成。＜9＞根據(jù)＜8＞所述的硬化膜，其為層間絕緣膜。＜10＞一種液晶顯示裝置，其具有根據(jù)＜8＞或＜9＞所述的硬化膜。＜11＞一種有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置，其具有根據(jù)＜8＞或＜9＞所述的硬化膜。＜12＞一種觸摸屏，其具有根據(jù)＜8＞或＜9＞所述的硬化膜。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，可提供一種耐化學(xué)品性、耐光性及溶劑溶解性優(yōu)異的感光性樹(shù)脂組合物。另外，可提供一種使用感光性樹(shù)脂組合物的硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置及觸摸屏。附圖說(shuō)明圖1表示液晶顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。圖2為液晶顯示裝置的另一例的構(gòu)成概念圖。圖3表示有機(jī)EL(Electroluminescence，電激發(fā)光)顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。圖4為表示靜電電容方式的觸摸屏的構(gòu)成例的剖面圖。圖5為表示前面板的一例的說(shuō)明圖。圖6為表示第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說(shuō)明圖。圖7為表示具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的一例的概略圖。圖8為表示具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的一例的概略圖。具體實(shí)施方式以下，對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容加以詳細(xì)說(shuō)明。以下記載的構(gòu)成要件的說(shuō)明有時(shí)是根據(jù)本發(fā)明的具代表性的實(shí)施方式來(lái)進(jìn)行，但本發(fā)明不限定于此種實(shí)施方式。再者，在本申請(qǐng)說(shuō)明書中，“～”是以包括其前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值的含義而使用。在本說(shuō)明書中的基團(tuán)(原子團(tuán))的表述中，未記載經(jīng)取代及未經(jīng)取代的表述包含不具有取代基的基團(tuán)(原子團(tuán))，并且也包含具有取代基的基團(tuán)(原子團(tuán))。例如所謂“烷基”，不僅包含不具有取代基的烷基(未經(jīng)取代的烷基)，而且也包含具有取代基的烷基(經(jīng)取代的烷基)。在本說(shuō)明書中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯?；北硎颈；凹谆；?。在本說(shuō)明書中，固體成分為25℃下的固體成分。在本說(shuō)明書中，聚合物的重量平均分子量及數(shù)量平均分子量定義為由凝膠滲透色譜儀(GelPermeationChromatograph，GPC)測(cè)定所得的聚苯乙烯換算值。聚合物的重量平均分子量及數(shù)量平均分子量例如可通過(guò)使用HLC-8120(東曹(股)制造)，使用TSK凝膠多孔HXL-M(TSKgelMultiporeHXL-M)(東曹(股)制造，7.8mmID×30.0cm)作為管柱，且使用四氫呋喃(Tetrahydrofuran，THF)作為洗脫液而求出。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物含有(A)聚苯并噁唑前體；(B1)產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑和/或(B2)醌二疊氮化合物；以及(C)溶劑。而且，(A)聚苯并噁唑前體含有合計(jì)為所有重復(fù)單元的70mol％以上的下述通式(1)所表示的重復(fù)單元及下述通式(2)所表示的重復(fù)單元，通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)為9:1～3:7。[化3]在通式(1)及通式(2)中，X1及X2分別獨(dú)立地表示四價(jià)的有機(jī)基，R1～R4分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc，且R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子或酸分解性基，Rc表示烷基或芳基，Y1表示碳數(shù)3～15的環(huán)狀的脂肪族基，Y2表示碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基。在聚苯并噁唑前體中，通過(guò)包含通式(1)所表示的重復(fù)單元，可使硬化膜的耐化學(xué)品性或耐光性提高。另外，通過(guò)包含通式(2)所表示的重復(fù)單元，可提高溶劑溶解性。而且，通過(guò)含有合計(jì)為所有重復(fù)單元的70mol％以上的通式(1)所表示的重復(fù)單元及通式(2)所表示的重復(fù)單元，且將通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率設(shè)為以摩爾比計(jì)為9:1～3:7，可兼顧耐化學(xué)品性、耐光性、溶劑溶解性，從而可形成這些特性優(yōu)異的感光性樹(shù)脂組合物。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物可優(yōu)選地用作正型感光性樹(shù)脂組合物，尤其可優(yōu)選地用作化學(xué)增幅型正型感光性樹(shù)脂組合物。以下對(duì)本發(fā)明加以詳細(xì)說(shuō)明。[本發(fā)明的第1形態(tài)]本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有(A1)聚苯并噁唑前體、(B1)產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑、以及(C)溶劑。以下對(duì)各成分加以說(shuō)明。＜(A1)聚苯并噁唑前體＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有聚苯并噁唑前體。聚苯并噁唑前體含有合計(jì)為所有重復(fù)單元的70mol％以上的下述通式(1)所表示的重復(fù)單元及下述通式(2)所表示的重復(fù)單元，通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)為9:1～3:7。[化4]在通式(1)及通式(2)中，X1及X2分別獨(dú)立地表示四價(jià)的有機(jī)基，R1～R4分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc，且R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子或酸分解性基，Rc表示烷基或芳基，Y1表示碳數(shù)3～15的環(huán)狀的脂肪族基，Y2表示碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基。X1及X2分別獨(dú)立地表示四價(jià)的有機(jī)基。四價(jià)的有機(jī)基并無(wú)特別限制，優(yōu)選為具有至少一個(gè)以上環(huán)狀結(jié)構(gòu)，更優(yōu)選為具有一個(gè)～十個(gè)環(huán)狀結(jié)構(gòu)，進(jìn)而優(yōu)選為具有一個(gè)～五個(gè)環(huán)狀結(jié)構(gòu)。環(huán)狀結(jié)構(gòu)可為芳香族環(huán)、雜環(huán)、脂肪族環(huán)的任一個(gè)，優(yōu)選為包含芳香族環(huán)或雜環(huán)，更優(yōu)選為包含芳香族環(huán)。通過(guò)四價(jià)的有機(jī)基具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)，容易形成耐光性或耐化學(xué)品性優(yōu)異的硬化膜。作為芳香族環(huán)，例如可列舉：苯環(huán)、萘環(huán)、蒽環(huán)、芴環(huán)等。作為雜環(huán)，可列舉：呋喃環(huán)、噻吩環(huán)、吡咯環(huán)、吡咯啉環(huán)、吡咯烷環(huán)、噁唑環(huán)、異噁唑環(huán)、噻唑環(huán)、異噻唑環(huán)、咪唑環(huán)、咪唑啉環(huán)、咪唑烷環(huán)、吡唑環(huán)、吡唑啉環(huán)、吡唑烷環(huán)、三唑環(huán)、呋咱環(huán)、四唑環(huán)、吡喃環(huán)、噻哌喃(thiine)環(huán)、吡啶環(huán)、哌啶環(huán)、噁嗪環(huán)、嗎啉環(huán)、噻嗪環(huán)、噠嗪環(huán)、嘧啶環(huán)、吡嗪環(huán)、哌嗪環(huán)及三嗪環(huán)等。作為脂肪族環(huán)，可列舉：環(huán)戊烷環(huán)、環(huán)己烷環(huán)、環(huán)庚烷環(huán)等。在四價(jià)的有機(jī)基具有多個(gè)環(huán)狀結(jié)構(gòu)的情況下，環(huán)可進(jìn)行縮環(huán)，多個(gè)環(huán)也可經(jīng)由單鍵、或連結(jié)基而連結(jié)。作為連結(jié)基，例如優(yōu)選為-O-、-S-、-C(CF3)2-、-CH2-、-SO2-、-NHCO-及包含這些的組合的基團(tuán)，更優(yōu)選為-SO2-、-CH2-、-C(CF3)2-及將這些組合而成的基團(tuán)，進(jìn)而優(yōu)選為-C(CF3)2-。四價(jià)的有機(jī)基優(yōu)選為具有多個(gè)環(huán)狀結(jié)構(gòu)的基團(tuán)，更優(yōu)選為2以上的芳香族環(huán)經(jīng)由單鍵、或連結(jié)基而連結(jié)。作為X1、X2的具體例，可列舉以下基團(tuán)。以下的式中，*1或*2的任一個(gè)表示與-OR1或-OR3的連結(jié)鍵，另一個(gè)表示與聚合物主鏈的連結(jié)鍵，*3或*4的任一個(gè)表示與-OR2或-OR4的連結(jié)鍵，另一個(gè)表示與聚合物主鏈的連結(jié)鍵。X1、X2優(yōu)選為(X-1)～(X-4)，更優(yōu)選為(X-1)、(x-3)、(X-4)，尤其優(yōu)選為(X-1)。若X1、X2為(X-1)，則容易獲得溶劑溶解性、感度優(yōu)異的感光性樹(shù)脂組合物。[化5]R1～R4分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc，且R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子或酸分解性基，Rc表示烷基或芳基。R1～R4的至少一個(gè)優(yōu)選為表示酸分解性基。R1～R4所表示的烷基可為直鏈、分支、環(huán)狀的任一種。當(dāng)為直鏈烷基時(shí)，碳數(shù)優(yōu)選為1～20，更優(yōu)選為1～15，進(jìn)而優(yōu)選為1～10。當(dāng)為分支烷基時(shí)，碳數(shù)優(yōu)選為3～20，更優(yōu)選為3～15，進(jìn)而優(yōu)選為3～10。當(dāng)為環(huán)狀烷基時(shí)，碳數(shù)優(yōu)選為3～15，更優(yōu)選為5～15，更優(yōu)選為5～10。作為具體的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、辛基、環(huán)戊基、環(huán)己基、降冰片基、金剛烷基等。烷基可具有取代基，也可未經(jīng)取代。作為取代基的例子，例如可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等鹵素原子，氰基，酰胺基，磺?；０坊1～R4所表示的酸分解性基只要為因酸的作用而分解并產(chǎn)生羥基、羧基等堿可溶性基的基團(tuán)，則均可優(yōu)選地使用。例如可列舉縮醛基、縮酮基、硅烷基、硅烷基醚基、三級(jí)烷基酯基等，就感度的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為縮醛基。作為酸分解性基的具體例，可列舉：叔丁氧基羰基、異丙氧基羰基、四氫吡喃基、四氫呋喃基、乙氧基乙基、甲氧基乙基、乙氧基甲基、三甲基硅烷基、叔丁氧基羰基甲基、三甲基硅烷基醚基等。就感度的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為乙氧基乙基、四氫呋喃基。Rc表示烷基或芳基。Rc所表示的烷基的含義與R1～R4中所說(shuō)明的烷基相同，優(yōu)選范圍也相同。烷基可具有取代基，也可未經(jīng)取代。作為取代基，可列舉所述取代基。作為Rc所表示的芳基，優(yōu)選為碳數(shù)6～20的芳基，更優(yōu)選為碳數(shù)6～14的芳基，進(jìn)而優(yōu)選為碳數(shù)6～10的芳基。具體而言，作為芳基，可列舉：苯基、甲苯基、均三甲苯基、萘基等。芳基可具有取代基，也可未經(jīng)取代。作為取代基，可列舉所述取代基。在本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物中，聚苯并噁唑前體優(yōu)選為包含酸分解性基，且優(yōu)選為聚苯并噁唑前體的所有重復(fù)單元所具有的酸基的5％～80％經(jīng)酸分解性基保護(hù)，更優(yōu)選為10％～60％經(jīng)酸分解性基保護(hù)。下限進(jìn)而優(yōu)選為15％以上。上限進(jìn)而優(yōu)選為50％以下，尤其優(yōu)選為45％以下。根據(jù)所述形態(tài)，可形成高感度的感光性樹(shù)脂組合物。尤其若酸分解性基的含有率為所述范圍，則感度進(jìn)而更優(yōu)異。再者，此處所謂聚苯并噁唑前體的所有重復(fù)單元所具有的酸基，是指利用酸分解性基進(jìn)行保護(hù)之前的狀態(tài)下的、聚苯并噁唑前體的所有重復(fù)單元所具有的酸基。作為酸基，優(yōu)選為直接鍵結(jié)于芳香環(huán)的羥基，更優(yōu)選為酚性羥基。在通式(1)中，Y1表示碳數(shù)3～15的環(huán)狀的脂肪族基。通過(guò)Y1為碳數(shù)3～15的環(huán)狀的脂肪族基，可獲得耐光性、耐化學(xué)品性優(yōu)異的硬化膜。作為環(huán)狀的脂肪族基，可列舉：環(huán)狀亞烷基、環(huán)狀亞烯基、環(huán)狀亞炔基等。環(huán)狀的脂肪族的碳數(shù)為3～15，優(yōu)選為6～12。若碳數(shù)為所述范圍，則可獲得耐光性、耐化學(xué)品性優(yōu)異的硬化膜。環(huán)狀的脂肪族基優(yōu)選為6元環(huán)。Y1所表示的環(huán)狀的脂肪族基可具有取代基，也可未經(jīng)取代。優(yōu)選為未經(jīng)取代。作為取代基，可列舉：烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、鹵素原子等。再者，在環(huán)狀的脂肪族基具有取代基的情況下，將環(huán)狀的脂肪族基的碳數(shù)設(shè)為除去取代基的碳數(shù)之后的數(shù)。作為Y1的具體例，可列舉環(huán)狀脂肪族二羧酸去除羧基之后所殘存的殘基(環(huán)狀的脂肪族基)。具體而言，可列舉以下所示的基團(tuán)，優(yōu)選為亞環(huán)丙基、亞環(huán)丁基、亞環(huán)戊基、亞環(huán)己基、雙亞環(huán)己基、亞金剛烷基，更優(yōu)選為亞環(huán)己基或雙亞環(huán)己基。[化6]在通式(2)中，Y2表示碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基。優(yōu)選為直鏈的未經(jīng)取代的脂肪族基。通過(guò)Y2為碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基，可獲得優(yōu)異的溶劑溶解性。作為直鏈或分支的脂肪族基，可列舉亞烷基、亞烯基、亞炔基、聚氧亞烷基等，優(yōu)選為亞烷基、亞烯基、亞炔基，更優(yōu)選為亞烷基。直鏈或分支的脂肪族基的碳數(shù)為4～20，優(yōu)選為4～15，進(jìn)而優(yōu)選為4～12。若碳數(shù)為所述范圍，則溶劑溶解性良好。作為Y2的具體例，可列舉直鏈的脂肪族二羧酸或分支的脂肪族二羧酸去除羧基之后所殘存的殘基(脂肪族基)。作為直鏈的脂肪族二羧酸，例如可列舉：己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十一烷二酸、十二烷二酸、十三烷二酸、十四烷二酸、十五烷二酸、十六烷二酸、十七烷二酸、十八烷二酸、十九烷二酸、二十烷二酸、二十二烷二酸等。作為分支的脂肪族二羧酸，例如可列舉：3-甲基戊二酸、3,3-二甲基戊二酸、2-甲基己二酸、2-乙基己二酸、2-丙基己二酸、2-丁基己二酸、3-甲基己二酸、3-叔丁基己二酸、2,3-二甲基己二酸、2,4-二甲基己二酸、3,3-二甲基己二酸、3,4-二甲基己二酸、2,4,4-三甲基己二酸、2,2,5,5-四甲基己二酸、2-甲基庚二酸、3-甲基庚二酸、3-甲基辛二酸、2-甲基癸二酸、壬烷-2,5-二羧酸等。在本發(fā)明中，(A)聚苯并噁唑前體含有合計(jì)為所有重復(fù)單元的70mol％以上的通式(1)及通式(2)所表示的重復(fù)單元，優(yōu)選為70mol％～100mol％，進(jìn)而優(yōu)選為80mol％～100mol％，尤其優(yōu)選為實(shí)質(zhì)上僅由通式(1)所表示的重復(fù)單元及通式(2)所表示的重復(fù)單元構(gòu)成。根據(jù)所述形態(tài)，容易獲得耐光性優(yōu)異的硬化膜。再者，在本發(fā)明中，所謂“實(shí)質(zhì)上僅由通式(1)所表示的重復(fù)單元及通式(2)所表示的重復(fù)單元構(gòu)成”，是指除通式(1)及通式(2)所表示的重復(fù)單元以外的重復(fù)單元的含量例如優(yōu)選為5mol％以下，更優(yōu)選為1mol％以下，進(jìn)而優(yōu)選為不含有除通式(1)及通式(2)所表示的重復(fù)單元以外的重復(fù)單元。在本發(fā)明中，(A)聚苯并噁唑前體的通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)優(yōu)選為9:1～3:7，更優(yōu)選為8.5:1.5～3.5:6.5，進(jìn)而優(yōu)選為8:2～4:6。另外，例如在通式(1)中的Y1為亞環(huán)己基或雙亞環(huán)己基且通式(2)中的Y2為碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基的情況下，通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)優(yōu)選為8.5:1.5～4:6，更優(yōu)選為7.5:2.5～4:6，進(jìn)而優(yōu)選為7.5:2.5～5:5，進(jìn)而更優(yōu)選為7.5:2.5～5.5:4.5，尤其優(yōu)選為7.5:2.5～6:4。另外，例如在通式(1)中的Y1為亞金剛烷基且通式(2)中的Y2為碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基的情況下，通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)優(yōu)選為6.5:3.5～4:6，更優(yōu)選為6:4～5:5。《其他重復(fù)單元》聚苯并噁唑前體也可包含除通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元以外的重復(fù)單元(也稱為其他重復(fù)單元)。作為其他重復(fù)單元，例如可例示通式(a1)所表示的重復(fù)單元、通式(a2)所表示的重復(fù)單元。[化7]通式(a1)中，X10表示四價(jià)的有機(jī)基，Y10表示芳香族環(huán)基，R11及R12分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc。通式(a1)中，X10、R11、R12的范圍與通式(1)、通式(2)中所說(shuō)明的X1、X2、R1～R4相同，優(yōu)選范圍也相同。通式(a1)中，Y10表示芳香族環(huán)基。作為芳香族環(huán)基，可為單環(huán)，也可為多環(huán)。芳香族環(huán)基也可為包含雜原子的雜芳香族環(huán)基。作為芳香族環(huán)的具體例，可列舉：苯環(huán)、萘環(huán)、并環(huán)戊二烯(pentalene)環(huán)、茚(indene)環(huán)、薁環(huán)、并環(huán)庚三烯(heptalene)環(huán)、苯并二茚(indecene)環(huán)、苝環(huán)、并五苯(pentacene)環(huán)、苊環(huán)、菲環(huán)、蒽環(huán)、并四苯環(huán)、1,2-苯并菲(chrysene)環(huán)、三亞苯(triphenylene)環(huán)、芴環(huán)、聯(lián)苯環(huán)、吡咯環(huán)、呋喃環(huán)、噻吩環(huán)、咪唑環(huán)、噁唑環(huán)、噻唑環(huán)、吡啶環(huán)、吡嗪環(huán)、嘧啶環(huán)、噠嗪環(huán)、吲哚嗪環(huán)、吲哚環(huán)、苯并呋喃環(huán)、苯并噻吩環(huán)、異苯并呋喃環(huán)、喹嗪環(huán)、喹啉環(huán)、酞嗪環(huán)、萘啶環(huán)、喹喔啉環(huán)、喹唑啉環(huán)、異喹啉環(huán)、咔唑環(huán)、菲啶(phenanthridine)環(huán)、吖啶環(huán)、菲咯啉環(huán)、噻蒽(thianthrene)環(huán)、苯并吡喃(chromene)環(huán)、氧雜蒽(xanthene)環(huán)、吩噁噻(phenoxathiin)環(huán)、吩噻嗪(phenothiazine)環(huán)、及吩嗪環(huán)。通式(a2)中，Y11表示芳香族環(huán)基，環(huán)狀的脂肪族基，直鏈的脂肪族基，分支的脂肪族基，或者包含這些與-CH2-、-O-、-S-、-SO2-、-CO-、-NHCO-、及-C(CF3)2-的至少一種的組合的基團(tuán)，X11表示芳香族環(huán)基，環(huán)狀的脂肪族基，或者包含這些與-CH2-、-O-、-S-、-SO2-、-CO-、-NHCO-、及-C(CF3)2-的組合的基團(tuán)。芳香族環(huán)基、環(huán)狀的脂肪族基、直鏈的脂肪族基、分支的脂肪族基可列舉上文所述者，優(yōu)選范圍也相同。通式(a3)，Y12表示芳香族環(huán)基，環(huán)狀的脂肪族基，直鏈的脂肪族基，分支的脂肪族基，或者包含這些與-CH2-、-O-、-S-、-SO2-、-CO-、-NHCO-、及-C(CF3)2-的至少一種的組合的基團(tuán)，X12表示包含硅原子的基團(tuán)。芳香族環(huán)基、環(huán)狀的脂肪族基、直鏈的脂肪族基、分支的脂肪族基可列舉上文所述者，優(yōu)選范圍也相同。X12所表示的包含硅原子的基團(tuán)優(yōu)選為下述所表示的基團(tuán)。[化8]R20及R21分別獨(dú)立地表示二價(jià)的有機(jī)基，R22及R23分別獨(dú)立地表示一價(jià)的有機(jī)基。R20及R21所表示的二價(jià)的有機(jī)基并無(wú)特別限制，具體可列舉：碳數(shù)1～20的直鏈或分支的亞烷基、碳數(shù)6～20的亞芳基、碳數(shù)3～20的二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基、或者將這些組合而成的基團(tuán)。直鏈或分支的亞烷基的碳數(shù)優(yōu)選為1～20，更優(yōu)選為1～10，進(jìn)而優(yōu)選為1～6。具體而言，可列舉：亞甲基、亞乙基、亞丙基、異亞丙基、亞丁基、叔亞丁基等。亞芳基的碳數(shù)優(yōu)選為6～20，更優(yōu)選為6～14，進(jìn)而優(yōu)選為6～10。作為具體的亞芳基，可列舉：1,4-亞苯基、1,3-亞苯基、1,2-亞苯基、亞萘基、亞蒽基等。二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基的碳數(shù)優(yōu)選為3～20，更優(yōu)選為3～10，進(jìn)而優(yōu)選為5～6。作為二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基，可列舉：1,4-亞環(huán)己基、1,3-亞環(huán)己基、1,2-亞環(huán)己基等。碳數(shù)1～20的直鏈或分支的亞烷基、碳數(shù)6～20的亞芳基、及碳數(shù)3～20的二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基可具有取代基。作為取代基，可列舉：碳數(shù)1～6的烷基、鹵素原子、氰基、酰胺基、磺?；０坊取⑻紨?shù)1～20的直鏈或分支的亞烷基、碳數(shù)6～20的亞芳基、或碳數(shù)3～20的二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基組合而成的基團(tuán)并無(wú)特別限制，優(yōu)選為碳數(shù)3～20的二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基組合而成的基團(tuán)所組合成的基團(tuán)。以下，作為將碳數(shù)1～20的直鏈或分支的亞烷基、碳數(shù)6～20的亞芳基、或碳數(shù)3～20的二價(jià)的環(huán)狀脂肪族基組合而成的基團(tuán)的具體例而列舉以下者，但并不限定于這些具體例。[化9]作為R22及R23所表示的一價(jià)的有機(jī)基，可列舉碳數(shù)1～20的直鏈或分支的烷基或碳數(shù)6～20的芳基。直鏈或分支的烷基的碳數(shù)優(yōu)選為1～20，更優(yōu)選為1～10，進(jìn)而優(yōu)選為1～6。具體而言，作為烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、叔丁基等。芳基的碳數(shù)優(yōu)選為6～20，更優(yōu)選為碳數(shù)6～14，進(jìn)而優(yōu)選為6～10。具體而言，作為芳基，可列舉：苯基、甲苯基、均三甲苯基、萘基等。碳數(shù)1～20的直鏈或分支的烷基、芳基可具有取代基。作為取代基，可列舉：碳數(shù)1～6的烷基、鹵素原子、氰基、酰胺基、磺?；０坊取１景l(fā)明中的聚苯并噁唑前體優(yōu)選為具有末端由單官能酰氯封閉的結(jié)構(gòu)。根據(jù)所述形態(tài)，容易獲得透過(guò)率良好的硬化膜。作為單官能酰氯，例如可列舉：乙酰氯、丁酰氯、丙酰氯、2-乙基己酰氯、環(huán)己甲酰氯、苯甲酰氯、萘酰氯、丙烯酰氯、庚酰氯、異丁酰氯、異壬酰氯、新癸酰氯、辛酰氯、特戊酰氯、戊酰氯、甲氧基乙酰氯、乙酰氧基乙酰氯、苯基乙酰氯、桂皮酰氯、甲基丙烯酰氯、2-呋喃甲酰氯、3-氯丙酰氯、4-氯丁酰氯、5-氯戊酰氯、二乙基氨甲酰氯、氯甲酸甲酯、氯甲酸乙酯、氯甲酸丙酯、氯甲酸正丁酯、氯甲酸仲丁酯、氯甲酸戊酯、氯甲酸正己酯、氯甲酸正辛酯、氯甲酸-2-乙基己酯、氯甲酸環(huán)己酯、氯甲酸-4-叔丁基環(huán)己酯、氯甲酸鯨蠟酯、氯甲酸芐酯、氯甲酸-2-氯乙酯等。就溶劑溶解性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為碳數(shù)3以上的酰氯。就耐溶劑性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為碳數(shù)12以下的酰氯。就熱穩(wěn)定性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為甲酰氯。本發(fā)明中的聚苯并噁唑前體優(yōu)選為單側(cè)末端或兩末端為通式(b1)所表示的基，更優(yōu)選為兩末端為通式(b1)所表示的基。通式(b1)[化10]通式(b1)中，Z表示單鍵、碳原子或硫原子，R30表示一價(jià)的有機(jī)基，n表示0或1，當(dāng)Z為單鍵時(shí)，a為0，當(dāng)Z為碳原子時(shí)，a為1，當(dāng)Z為硫原子時(shí)，a為2，當(dāng)n為0時(shí)，兩個(gè)R30可彼此鍵結(jié)而形成環(huán)。Z表示單鍵、碳原子或硫原子，優(yōu)選為單鍵、或碳原子。R30表示一價(jià)的有機(jī)基。一價(jià)的有機(jī)基并無(wú)特別限制，可例示每一分子的式量為20～500者。另外，構(gòu)成一價(jià)的有機(jī)基的原子優(yōu)選為選自碳原子、氧原子、氮原子、氫原子、硫原子中，更優(yōu)選為選自碳原子、氧原子、氮原子、氫原子中。具體而言，更優(yōu)選為烷基(優(yōu)選為碳數(shù)1～10，更優(yōu)選為碳數(shù)1～6)、烯基(優(yōu)選為碳數(shù)2～10，更優(yōu)選為碳數(shù)2～6)、炔基(優(yōu)選為碳數(shù)2～10，更優(yōu)選為碳數(shù)2～6)、芳基(優(yōu)選為碳數(shù)6～20，更優(yōu)選為碳數(shù)6～10)、烷氧基(優(yōu)選為碳數(shù)1～10，更優(yōu)選為碳數(shù)1～6)、羧基、交聯(lián)性基、以及包含氧原子、羰基、磺酰基、亞芳基(優(yōu)選為碳數(shù)6～20，更優(yōu)選為碳數(shù)6～10)、亞烷基(優(yōu)選為碳數(shù)1～10，更優(yōu)選為碳數(shù)1～6)、亞烯基(優(yōu)選為碳數(shù)2～10，更優(yōu)選為碳數(shù)2～6)、及亞炔基(優(yōu)選為碳數(shù)2～10，更優(yōu)選為碳數(shù)2～6)與烯基、炔基、芳基、羰基、羧基、氧原子、亞烷基、亞炔基或亞芳基的組合的基團(tuán)。這些基團(tuán)可具有取代基，作為取代基，可列舉：羥基、烷基、鹵素原子、氰基、酰胺基、磺?；０坊取Ｗ鳛橥ㄊ?b1)所表示的基團(tuán)的具體例，可列舉以下者，但并不限定于這些具體例。式中，Ph表示苯基，n-Pr表示正亞丙基。[化11][化12][化13][化14][化15]-NH-SO2-C4H9-NH-SO2-C16H33[化16]聚苯并噁唑前體的重量平均分子量(Mw)優(yōu)選為3,000～200,000。下限更優(yōu)選為4,000以上，進(jìn)而優(yōu)選為5,000以上。上限更優(yōu)選為100,000以下，進(jìn)而優(yōu)選為50,000以下。另外，數(shù)量平均分子量(Mn)優(yōu)選為1,000～50,000。下限更優(yōu)選為2,000以上，進(jìn)而優(yōu)選為3,000以上。上限更優(yōu)選為40,000以下，進(jìn)而優(yōu)選為30,000以下。另外，分散度(Mw/Mn)優(yōu)選為1.0～5.0，更優(yōu)選為1.5～3.0。通過(guò)設(shè)為所述范圍，可使微影性能與硬化膜物性優(yōu)異。相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分量100質(zhì)量份，本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物中的聚苯并噁唑前體的含量?jī)?yōu)選為50質(zhì)量份以上，更優(yōu)選為60質(zhì)量份以上，尤其優(yōu)選為70質(zhì)量份以上。上限例如優(yōu)選為99質(zhì)量份以下。在使用兩種以上的聚苯并噁唑前體的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。《聚苯并噁唑前體的制造方法》本發(fā)明所使用的聚苯并噁唑前體可參照日本專利特開(kāi)2008-224970號(hào)公報(bào)的記載來(lái)合成。另外，本發(fā)明中，優(yōu)選為利用單官能酰氯將末端封閉。利用單官能酰氯的末端封閉例如可通過(guò)在聚合反應(yīng)時(shí)預(yù)先混入單官能酰氯而一次性合成。＜(B1)光酸產(chǎn)生劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑。光酸產(chǎn)生劑優(yōu)選為產(chǎn)生pKa為2以下的酸的光酸產(chǎn)生劑。再者，在本發(fā)明中，pKa基本上是指在25℃的水中的pKa。無(wú)法在水中測(cè)定的pKa是指變更為適于進(jìn)行測(cè)定的溶劑并進(jìn)行測(cè)定而得者。具體而言，可將化學(xué)便覽等中記載的pKa作為參考。作為pKa為3以下的酸，優(yōu)選為磺酸或膦酸，更優(yōu)選為磺酸。光酸產(chǎn)生劑優(yōu)選為感應(yīng)波長(zhǎng)300nm以上、優(yōu)選為波長(zhǎng)300nm～450nm的光化射線而產(chǎn)生酸的化合物，其化學(xué)結(jié)構(gòu)并無(wú)限制。另外，關(guān)于不直接感應(yīng)波長(zhǎng)300nm以上的光化射線的光酸產(chǎn)生劑，只要為通過(guò)與增感劑并用而感應(yīng)波長(zhǎng)300nm以上的光化射線并產(chǎn)生酸的化合物，則也可與增感劑組合而優(yōu)選地使用。作為光酸產(chǎn)生劑的例子，可列舉：鎓鹽化合物、三氯甲基均三嗪類、锍鹽、錪鹽、四級(jí)銨鹽類、重氮甲烷化合物、酰亞胺磺酸酯化合物、及肟磺酸酯化合物等。這些中，優(yōu)選為鎓鹽化合物、酰亞胺磺酸酯化合物、肟磺酸酯化合物，尤其優(yōu)選為鎓鹽化合物、肟磺酸酯化合物。光酸產(chǎn)生劑可單獨(dú)使用一種或組合使用兩種以上。作為三氯甲基均三嗪類、二芳基錪鹽類、三芳基锍鹽類、四級(jí)銨鹽類、及重氮甲烷化合物的具體例，可例示日本專利特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0083～段落編號(hào)0088中記載的化合物、或日本專利特開(kāi)2011-105645號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0013～段落編號(hào)0049中記載的化合物，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。作為酰亞胺磺酸酯化合物的具體例，可例示W(wǎng)O2011/087011號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0065～段落編號(hào)0075中記載的化合物，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。作為鎓鹽化合物，例如可列舉：二苯基錪鹽、三芳基锍鹽、锍鹽、苯并噻唑鎓鹽、四氫噻吩鎓鹽等。作為二苯基錪鹽，例如可列舉：二苯基錪四氟硼酸鹽、二苯基錪六氟膦酸鹽、二苯基錪六氟砷酸鹽、二苯基錪三氟甲磺酸鹽、二苯基錪三氟乙酸鹽、二苯基錪對(duì)甲苯磺酸鹽、二苯基錪丁基三(2,6-二氟苯基)硼酸鹽、4-甲氧基苯基苯基錪四氟硼酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)錪四氟硼酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)錪六氟砷酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)錪三氟甲磺酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)錪三氟乙酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)錪對(duì)甲苯磺酸鹽、雙(4-叔丁基苯基)錪樟腦磺酸等。作為三芳基锍鹽，例如可列舉：三苯基锍甲苯磺酸鹽、三苯基锍三氟甲磺酸鹽、三苯基锍樟腦磺酸、三苯基锍四氟硼酸鹽、三苯基锍三氟乙酸鹽、三苯基锍對(duì)甲苯磺酸鹽、三苯基锍丁基三(2,6-二氟苯基)硼酸鹽等。另外，還優(yōu)選為使用下述結(jié)構(gòu)的三芳基锍鹽類。[化17]作為锍鹽，例如可列舉：烷基锍鹽、芐基锍鹽、二芐基锍鹽、取代芐基锍鹽等。作為烷基锍鹽，例如可列舉：4-乙酰氧基苯基二甲基锍六氟銻酸鹽、4-乙酰氧基苯基二甲基锍六氟砷酸鹽、二甲基-4-(芐基氧基羰基氧基)苯基锍六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟銻酸鹽、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基锍六氟砷酸鹽、二甲基-3-氯-4-乙酰氧基苯基锍六氟銻酸鹽等。作為芐基锍鹽，例如可列舉：芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟磷酸鹽、4-乙酰氧基苯基芐基甲基锍六氟銻酸鹽、芐基-4-甲氧基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、芐基-2-甲基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、芐基-3-氯-4-羥基苯基甲基锍六氟砷酸鹽、4-甲氧基芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟磷酸鹽等。作為二芐基锍鹽，例如可列舉：二芐基-4-羥基苯基锍六氟銻酸鹽、二芐基-4-羥基苯基锍六氟磷酸鹽、4-乙酰氧基苯基二芐基锍六氟銻酸鹽、二芐基-4-甲氧基苯基锍六氟銻酸鹽、二芐基-3-氯-4-羥基苯基锍六氟砷酸鹽、二芐基-3-甲基-4-羥基-5-叔丁基苯基锍六氟銻酸鹽、芐基-4-甲氧基芐基-4-羥基苯基锍六氟磷酸鹽等。作為取代芐基锍鹽，例如可列舉：對(duì)氯芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、對(duì)硝基芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、對(duì)氯芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟磷酸鹽、對(duì)硝基芐基-3-甲基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、3,5-二氯芐基-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽、鄰氯芐基-3-氯-4-羥基苯基甲基锍六氟銻酸鹽等。作為苯并噻唑鎓鹽，例如可列舉：3-芐基苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3-芐基苯并噻唑鎓六氟磷酸鹽、3-芐基苯并噻唑鎓四氟硼酸鹽、3-(對(duì)甲氧基芐基)苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3-芐基-2-甲基硫代苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽、3-芐基-5-氯苯并噻唑鎓六氟銻酸鹽等。作為四氫噻吩鎓鹽，例如可列舉：4,7-二正丁氧基-1-萘基四氫噻吩鎓三氟甲磺酸鹽、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎓三氟甲磺酸鹽、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎓九氟正丁磺酸鹽、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎓-1,1,2,2-四氟-2-(降冰片烷-2-基)乙磺酸鹽、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎓-2-(5-叔丁氧基羰基氧基雙環(huán)[2.2.1]庚烷-2-基)-1,1,2,2-四氟乙磺酸鹽、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氫噻吩鎓-2-(6-叔丁氧基羰基氧基雙環(huán)[2.2.1]庚烷-2-基)-1,1,2,2-四氟乙磺酸鹽等。作為肟磺酸酯化合物、即具有肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，可優(yōu)選地例示含有下述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物。通式(B1-1)[化18]通式(B1-1)中，R21表示烷基或芳基。波線表示與其他基團(tuán)的鍵。通式(B1-1)中，任一基團(tuán)可經(jīng)取代，R21的烷基可為直鏈狀也可為分支狀也可為環(huán)狀。以下將對(duì)容許的取代基加以說(shuō)明。作為R21的烷基，優(yōu)選為碳數(shù)1～10的直鏈狀或分支狀烷基。R21的烷基可經(jīng)鹵素原子、碳數(shù)6～11的芳基、碳數(shù)1～10的烷氧基、或環(huán)烷基(包括7,7-二甲基-2-氧代降冰片基等橋聯(lián)式脂環(huán)基，優(yōu)選為雙環(huán)烷基等)取代。作為R21的芳基，優(yōu)選為碳數(shù)6～11的芳基，更優(yōu)選為苯基或萘基。R21的芳基可經(jīng)低級(jí)烷基、烷氧基或鹵素原子取代。含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物還優(yōu)選為日本專利特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0108～段落0133中記載的肟磺酸酯化合物。作為酰亞胺磺酸酯系化合物，優(yōu)選為萘酰亞胺系化合物，可參照國(guó)際公開(kāi)WO11/087011號(hào)手冊(cè)的記載，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。本發(fā)明中，尤其更優(yōu)選為下述式所表示的化合物。[化19]式中，R1及R2分別表示下述通式(A)所表示的基團(tuán)或氫原子。R3表示可經(jīng)鹵素原子、烷硫基及脂環(huán)式烴基的任一個(gè)以上取代的碳數(shù)1～18的脂肪族烴基；可經(jīng)鹵素原子、烷硫基、烷基及?；娜我粋€(gè)以上取代的碳數(shù)6～20的芳基；可經(jīng)鹵素原子和/或烷硫基取代的碳數(shù)7～20的芳烷基；10-樟腦基或下述通式(B)所表示的基團(tuán)。通式(A)[化20]通式(A)中，X1表示氧原子或硫原子，Y1表示單鍵或碳數(shù)1～4的亞烷基，R4表示碳數(shù)1～12的烴基，R5表示碳數(shù)1～4的亞烷基，R6表示氫原子、可分支的碳數(shù)1～4的烷基、碳數(shù)3～10的脂環(huán)式烴基、雜環(huán)基、或羥基。n表示0～5的整數(shù)，當(dāng)n為2～5時(shí)，多個(gè)R5可相同也可不同。通式(B)[化21]通式(B)中，Y2表示單鍵或碳數(shù)1～4的亞烷基，R7表示碳數(shù)2～6的亞烷基、碳數(shù)2～6的鹵化亞烷基、碳數(shù)6～20的亞芳基、或者碳數(shù)6～20的鹵化亞芳基，R8表示單鍵、碳數(shù)2～6的亞烷基、碳數(shù)2～6的鹵化亞烷基、碳數(shù)6～20的亞芳基或者碳數(shù)6～20的鹵化亞芳基，R9表示可分支的碳數(shù)1～18的烷基、可分支的碳數(shù)1～18的鹵化烷基、碳數(shù)6～20的芳基、碳數(shù)6～20的鹵化芳基、碳數(shù)7～20的芳烷基、或者碳數(shù)7～20的鹵化芳烷基。a及b分別獨(dú)立地表示0或1，a及b的至少一個(gè)為1。以下示出本發(fā)明中可優(yōu)選地使用的酰亞胺磺酸酯系化合物的例子，但本發(fā)明當(dāng)然并不限定于這些例子。[化22]在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，光酸產(chǎn)生劑的含量?jī)?yōu)選為0.1質(zhì)量份～20質(zhì)量份。下限例如更優(yōu)選為0.2質(zhì)量份以上，進(jìn)而優(yōu)選為0.5質(zhì)量份以上。上限例如更優(yōu)選為10質(zhì)量份以下，進(jìn)而優(yōu)選為5質(zhì)量份以下。光酸產(chǎn)生劑可僅使用一種，還可并用兩種以上。在使用兩種以上的光酸產(chǎn)生劑的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。＜(C)溶劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有溶劑。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物優(yōu)選為制備成將本發(fā)明的必需成分及進(jìn)一步的后述任意成分溶解于溶劑中而成的溶液。作為溶劑，優(yōu)選為將必需成分及任意成分溶解且不與各成分反應(yīng)的溶劑。在本發(fā)明中，可使用公知的溶劑作為溶劑。例如可例示：乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類(例如二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚等)、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、酯類、酮類、酰胺類、內(nèi)酯類等。另外，還可列舉日本專利特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0174～段落編號(hào)0178中記載的溶劑、日本專利特開(kāi)2012-194290公報(bào)的段落編號(hào)0167～段落編號(hào)0168中記載的溶劑，將這些內(nèi)容并入至本說(shuō)明書中。另外，這些溶劑中，視需要還可進(jìn)而添加芐基乙基醚、二己基醚、乙二醇單苯醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、芐醇、苯甲醚、乙酸芐酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來(lái)酸二乙酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯等溶劑。這些溶劑可單獨(dú)使用一種或混合使用兩種以上。溶劑可為單獨(dú)一種，也可使用兩種以上。在使用兩種以上的情況下，例如進(jìn)而優(yōu)選為并用丙二醇單烷基醚乙酸酯類與二烷基醚類、二乙酸酯類與二乙二醇二烷基醚類、或者酯類與丁二醇烷基醚乙酸酯類。溶劑優(yōu)選為沸點(diǎn)為130℃以上且小于160℃的溶劑、沸點(diǎn)為160℃以上的溶劑、或這些溶劑的混合物。作為沸點(diǎn)為130℃以上且小于160℃的溶劑，可例示：丙二醇單甲醚乙酸酯(沸點(diǎn)146℃)、丙二醇單乙醚乙酸酯(沸點(diǎn)158℃)、丙二醇甲基正丁基醚(沸點(diǎn)155℃)、丙二醇甲基正丙基醚(沸點(diǎn)131℃)。作為沸點(diǎn)為160℃以上的溶劑，可例示：3-乙氧基丙酸乙酯(沸點(diǎn)170℃)、二乙二醇甲基乙基醚(沸點(diǎn)176℃)、丙二醇單甲醚丙酸酯(沸點(diǎn)160℃)、二丙二醇甲醚乙酸酯(沸點(diǎn)213℃)、3-甲氧基丁基醚乙酸酯(沸點(diǎn)171℃)、二乙二醇二乙醚(沸點(diǎn)189℃)、二乙二醇二甲醚(沸點(diǎn)162℃)、丙二醇二乙酸酯(沸點(diǎn)190℃)、二乙二醇單乙醚乙酸酯(沸點(diǎn)220℃)、二丙二醇二甲醚(沸點(diǎn)175℃)、1,3-丁二醇二乙酸酯(沸點(diǎn)232℃)。相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物中的所有成分100質(zhì)量份，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中的溶劑的含量?jī)?yōu)選為50質(zhì)量份～95質(zhì)量份。下限更優(yōu)選為60質(zhì)量份以上。上限更優(yōu)選為90質(zhì)量份以下。溶劑可僅使用一種，也可使用兩種以上。在使用兩種以上的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。＜密接改良劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物也可含有密接改良劑。作為密接改良劑，可列舉烷氧基硅烷化合物等。烷氧基硅烷化合物優(yōu)選為使成為基材的無(wú)機(jī)物例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物；金、銅、鉬、鈦、鋁等金屬與絕緣膜的密接性提高的化合物。作為密接改良劑的具體例，例如可列舉：γ-氨基丙基三甲氧基硅烷，γ-氨基丙基三乙氧基硅烷，3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷等γ-縮水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷，γ-縮水甘油氧基丙基二烷氧基硅烷，3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷等γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷，γ-甲基丙烯酰氧基丙基二烷氧基硅烷，γ-氯丙基三烷氧基硅烷，γ-巰基丙基三烷氧基硅烷，β-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三烷氧基硅烷，乙烯基三烷氧基硅烷，2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷。這些中，優(yōu)選為γ-縮水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷或γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷，更優(yōu)選為γ-縮水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷，進(jìn)而優(yōu)選為3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷。這些可單獨(dú)使用一種或組合使用兩種以上。相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，密接改良劑的含量?jī)?yōu)選為0.001質(zhì)量份～15質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.005質(zhì)量份～10質(zhì)量份。密接改良劑可僅使用一種，也可使用兩種以上。在使用兩種以上的情況下，優(yōu)選為合計(jì)量成為所述范圍。＜增感劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物也可含有增感劑。增感劑吸收光化射線而成為電子激發(fā)狀態(tài)。成為電子激發(fā)狀態(tài)的增感劑與光酸產(chǎn)生劑接觸，產(chǎn)生電子遷移、能量移動(dòng)、發(fā)熱等作用。由此，光酸產(chǎn)生劑發(fā)生化學(xué)變化而分解并生成酸。因此，通過(guò)含有增感劑可促進(jìn)光酸產(chǎn)生劑的分解。作為優(yōu)選的增感劑的例子，可列舉屬于以下的化合物類且在350nm～450nm的波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有吸收波長(zhǎng)的化合物。多核芳香族類(例如芘、苝、三亞苯、蒽、9,10-二丁氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、3,7-二甲氧基蒽、9,10-二丙氧基蒽)、氧雜蒽類(例如熒光素、曙紅、赤蘚紅、羅丹明B、孟加拉玫瑰紅)、氧雜蒽酮類(例如氧雜蒽酮、硫雜蒽酮、二甲基硫雜蒽酮、二乙基硫雜蒽酮)、花青類(例如硫雜羰花青、氧雜羰花青)、部花青類(例如部花青、羰部花青)、若丹菁(rhodacyanine)類、氧雜菁類、噻嗪類(例如硫堇、亞甲藍(lán)、甲苯胺藍(lán))、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素、吖啶黃素)、吖啶酮類(例如吖啶酮、10-丁基-2-氯吖啶酮)、蒽醌類(例如蒽醌)、方酸化合物(Squarylium)類(例如方酸化合物)、苯乙烯基類、堿性苯乙烯基類(例如2-[2-[4-(二甲基氨基)苯基]乙烯基]苯并噁唑)、香豆素類(例如7-二乙基氨基4-甲基香豆素、7-羥基4-甲基香豆素、2,3,6,7-四氫-9-甲基-1H,5H,11H[1]苯并吡喃并[6,7,8-ij]喹嗪-11-酮)。這些增感劑中，優(yōu)選為多核芳香族類、吖啶酮類、苯乙烯基類、堿性苯乙烯基類、香豆素類，更優(yōu)選為多核芳香族類。多核芳香族類中，最優(yōu)選為蒽衍生物。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物含有增感劑的情況下，相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，增感劑的含量?jī)?yōu)選為0.001質(zhì)量份～100質(zhì)量份。下限例如更優(yōu)選為0.1質(zhì)量份以上，進(jìn)而優(yōu)選為0.5質(zhì)量份以上。下限例如更優(yōu)選為50質(zhì)量份以下，進(jìn)而優(yōu)選為20質(zhì)量份以下。增感劑也可并用兩種以上。在并用兩種以上增感劑的情況下，優(yōu)選為合計(jì)量成為所述范圍。＜交聯(lián)劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物也可含有交聯(lián)劑。通過(guò)含有交聯(lián)劑，可獲得更強(qiáng)固的硬化膜。交聯(lián)劑只要通過(guò)熱而引起交聯(lián)反應(yīng)，則并無(wú)限制。例如可列舉：分子內(nèi)具有兩個(gè)以上的環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁基的化合物、封閉異氰酸酯化合物、含烷氧基甲基的交聯(lián)劑、具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物等?！斗肿觾?nèi)具有兩個(gè)以上的環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁基的化合物》作為分子內(nèi)具有兩個(gè)以上的環(huán)氧基的化合物，可列舉：雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚F型環(huán)氧樹(shù)脂、苯酚酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂、甲酚酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂、脂肪族環(huán)氧樹(shù)脂等。這些可作為市售品而獲取。例如可列舉JER152、JER157S70、JER157S65、JER806、JER828、JER1007(三菱化學(xué)控股(MitsubishiChemicalHoldings)(股)制造)等，日本專利特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0189中記載的市售品等，除此以外，還可列舉：代那考爾(Denacol)EX-611、代那考爾(Denacol)EX-612、代那考爾(Denacol)EX-614、代那考爾(Denacol)EX-614B、代那考爾(Denacol)EX-622、代那考爾(Denacol)EX-512、代那考爾(Denacol)EX-521、代那考爾(Denacol)EX-411、代那考爾(Denacol)EX-421、代那考爾(Denacol)EX-313、代那考爾(Denacol)EX-314、代那考爾(Denacol)EX-321、代那考爾(Denacol)EX-211、代那考爾(Denacol)EX-212、代那考爾(Denacol)EX-810、代那考爾(Denacol)EX-811、代那考爾(Denacol)EX-850、代那考爾(Denacol)EX-851、代那考爾(Denacol)EX-821、代那考爾(Denacol)EX-830、代那考爾(Denacol)EX-832、代那考爾(Denacol)EX-841、代那考爾(Denacol)EX-911、代那考爾(Denacol)EX-941、代那考爾(Denacol)EX-920、代那考爾(Denacol)EX-931、代那考爾(Denacol)EX-212L、代那考爾(Denacol)EX-214L、代那考爾(Denacol)EX-216L、代那考爾(Denacol)EX-321L、代那考爾(Denacol)EX-850L、代那考爾(Denacol)DLC-201、代那考爾(Denacol)DLC-203、代那考爾(Denacol)DLC-204、代那考爾(Denacol)DLC-205、代那考爾(Denacol)DLC-206、代那考爾(Denacol)DLC-301、代那考爾(Denacol)DLC-402(以上為長(zhǎng)瀨化成(NagaseChemtex)制造)，YH-300、YH-301、YH-302、YH-315、YH-324、YH-325(以上為新日鐵化學(xué)制造)等。這些市售品可單獨(dú)使用一種或組合使用兩種以上。這些中，更優(yōu)選為雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚F型環(huán)氧樹(shù)脂、苯酚酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂及脂肪族環(huán)氧樹(shù)脂，尤其優(yōu)選為雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂。作為分子內(nèi)具有兩個(gè)以上的氧雜環(huán)丁基的化合物，可使用亞龍氧雜環(huán)丁烷(AronOxetane)OXT-121、亞龍氧雜環(huán)丁烷(AronOxetane)OXT-221、亞龍氧雜環(huán)丁烷(AronOxetane)OX-SQ、亞龍氧雜環(huán)丁烷(AronOxetane)PNOX(以上為東亞合成(股)制造)。含有氧雜環(huán)丁基的化合物可單獨(dú)使用，還可與含有環(huán)氧基的化合物混合使用?！斗忾]異氰酸酯化合物》本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，還可優(yōu)選地采用封閉異氰酸酯系化合物作為交聯(lián)劑。就硬化性的觀點(diǎn)而言，封閉異氰酸酯化合物優(yōu)選為一分子內(nèi)具有2以上的封閉異氰酸酯基的化合物。再者，本發(fā)明中的封閉異氰酸酯基是指可通過(guò)熱而生成異氰酸酯基的基團(tuán)，例如可優(yōu)選地例示使封閉劑與異氰酸酯基反應(yīng)而對(duì)異氰酸酯基進(jìn)行保護(hù)的基團(tuán)。另外，封閉異氰酸酯基優(yōu)選為可通過(guò)90℃～250℃下的加熱而生成異氰酸酯基的基團(tuán)。封閉異氰酸酯化合物的骨架并無(wú)特別限定，只要在一分子中具有兩個(gè)異氰酸酯基，則可為任意化合物。例如可列舉脂肪族、脂環(huán)族或芳香族的聚異氰酸酯。作為具體例，例如可列舉：2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、1,3-三亞甲基二異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,9-九亞甲基二異氰酸酯、1,10-十亞甲基二異氰酸酯、1,4-環(huán)己烷二異氰酸酯、2,2'-二乙基醚二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對(duì)二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙(環(huán)己基異氰酸酯)、環(huán)己烷-1,3-二亞甲基二異氰酸酯、環(huán)己烷-1,4-二亞甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、對(duì)苯二異氰酸酯、3,3'-亞甲基二甲苯-4,4'-二異氰酸酯、4,4'-二苯基醚二異氰酸酯、四氯苯二異氰酸酯、降冰片烷二異氰酸酯、氫化1,3-二甲苯二異氰酸酯、氫化1,4-二甲苯二異氰酸酯等異氰酸酯化合物及由這些化合物衍生的預(yù)聚物型的骨架的化合物。這些中，尤其優(yōu)選為甲苯二異氰酸酯(tolylenediisocyanate，TDI)或二苯基甲烷二異氰酸酯(diphenylmethanediisocyanate，MDI)、六亞甲基二異氰酸酯(hexamethylenediisocyanate，HDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(isophoronediisocyanate，IPDI)。作為封閉異氰酸酯化合物的母結(jié)構(gòu)，可列舉：縮二脲型、異氰脲酸酯型、加合物型、二官能預(yù)聚物型等。作為形成封閉異氰酸酯化合物的封閉結(jié)構(gòu)的封閉劑，可列舉：肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、酰亞胺系化合物等。這些中，尤其優(yōu)選為選自肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物中的封閉劑。作為肟化合物，可列舉肟及酮肟，具體而言可例示：丙酮肟(acetoxime)、甲醛肟(formaldoxime)、環(huán)己烷肟、甲基乙基酮肟、環(huán)己酮肟、二苯甲酮肟等。作為內(nèi)酰胺化合物，可例示：ε-己內(nèi)酰胺、γ-丁內(nèi)酰胺等。作為酚化合物，可例示：苯酚、萘酚、甲酚、二甲苯酚、鹵素取代苯酚等。作為醇化合物，可例示：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、環(huán)己醇、乙二醇單烷基醚、丙二醇單烷基醚、乳酸烷基酯等。作為胺化合物，可舉起一級(jí)胺及二級(jí)胺，可為芳香族胺、脂肪族胺、脂環(huán)族胺的任一種，可例示：苯胺、二苯基胺、亞乙基亞胺、聚亞乙基亞胺等。作為活性亞甲基化合物，可例示：丙二酸二乙酯、丙二酸二甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸甲酯等。作為吡唑化合物，可例示：吡唑、甲基吡唑、二甲基吡唑等。作為硫醇化合物，可例示：烷基硫醇、芳基硫醇等。封閉異氰酸酯化合物可作為市售品而獲取，例如可優(yōu)選地使用克羅奈特(Coronate)AP穩(wěn)定(stable)M、克羅奈特(Coronate)2503、克羅奈特(Coronate)2515、克羅奈特(Coronate)2507、克羅奈特(Coronate)2513、克羅奈特(Coronate)2555、米利奧(Millionate)MS-50(以上為日本聚氨酯工業(yè)(股)制造)，塔克奈特(Takenate)B-830、塔克奈特(Takenate)B-815N、塔克奈特(Takenate)B-820NSU、塔克奈特(Takenate)B-842N、塔克奈特(Takenate)B-846N、塔克奈特(Takenate)B-870N、塔克奈特(Takenate)B-874N、塔克奈特(Takenate)B-882N(以上為三井化學(xué)(股)制造)，杜拉奈特(Duranate)17B-60PX、杜拉奈特(Duranate)17B-60P、杜拉奈特(Duranate)TPA-B80X、杜拉奈特(Duranate)TPA-B80E、杜拉奈特(Duranate)MF-B60X、杜拉奈特(Duranate)MF-B60B、杜拉奈特(Duranate)MF-K60X、杜拉奈特(Duranate)MF-K60B、杜拉奈特(Duranate)MFA-100、杜拉奈特(Duranate)E402-B80B、杜拉奈特(Duranate)SBN-70D、杜拉奈特(Duranate)SBB-70P、杜拉奈特(Duranate)K6000(以上為旭化成化學(xué)(股)制造)，德士模都(Desmodur)BL1100、德士模都(Desmodur)BL1265MPA/X、德士模都(Desmodur)BL3575/1、德士模都(Desmodur)BL3272MPA、德士模都(Desmodur)BL3370MPA、德士模都(Desmodur)BL3475BA/SN、德士模都(Desmodur)BL5375MPA、德士模都(Desmodur)VPLS2078/2、德士模都(Desmodur)BL4265SN、德士模都(Desmodur)PL340、德士模都(Desmodur)PL350、蘇米度(Sumidur)BL3175(以上為住化拜耳氨酯(股)制造)等?！镀渌宦?lián)劑》作為其他交聯(lián)劑，還可優(yōu)選地使用日本專利特開(kāi)2012-8223號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0107～段落編號(hào)0108中記載的含烷氧基甲基的交聯(lián)劑、具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物、或日本專利特開(kāi)2015-064526號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0040中記載的交聯(lián)劑等，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。作為具有乙烯性不飽和雙鍵的化合物，優(yōu)選為分子內(nèi)含有兩個(gè)以上的甲基丙烯?；虮；幕衔?。作為市售品，可列舉卡亞拉得(KAYARAD)DPHA(日本化藥公司制造)等。作為含烷氧基甲基的交聯(lián)劑，優(yōu)選為烷氧基甲基化甘脲。作為市售品，可列舉尼卡萊克(Nikalac)Mx-270(三和化學(xué)公司制造)等。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物具有交聯(lián)劑的情況下，相對(duì)于所述(A)聚合物成分的合計(jì)100質(zhì)量份，交聯(lián)劑的含量?jī)?yōu)選為0.01質(zhì)量份～50質(zhì)量份。下限例如更優(yōu)選為0.1質(zhì)量份以上，進(jìn)而優(yōu)選為0.5質(zhì)量份以上。上限例如更優(yōu)選為30質(zhì)量份以下，進(jìn)而優(yōu)選為20質(zhì)量份以下。若為所述范圍，則可獲得機(jī)械強(qiáng)度及耐溶劑性優(yōu)異的硬化膜。交聯(lián)劑可僅使用一種，也可使用兩種以上。在使用兩種以上的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍?！秹A性化合物》本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物也可含有堿性化合物。作為堿性化合物，可自化學(xué)增幅型正型抗蝕劑中所用者中任意選擇來(lái)使用。例如可列舉：脂肪族胺、芳香族胺、雜環(huán)式胺、氫氧化四級(jí)銨、羧酸的四級(jí)銨鹽等。作為這些的具體例，可列舉日本專利特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0204～段落編號(hào)0207中記載的化合物，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。具體而言，作為脂肪族胺，例如可列舉：三甲胺、二乙胺、三乙胺、二正丙胺、三正丙胺、二正戊胺、三正戊胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二環(huán)己胺、二環(huán)己基甲胺等。作為芳香族胺，例如可列舉：苯胺、芐胺、N,N-二甲基苯胺、二苯胺等。作為雜環(huán)式胺，例如可列舉：吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲基氨基吡啶、咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯并咪唑、2,4,5-三苯基咪唑、煙堿、煙酸、煙酰胺、喹啉、8-羥基喹啉、吡嗪、吡唑、噠嗪、嘌呤、吡咯烷、哌啶、哌嗪、嗎啉、4-甲基嗎啉、N-環(huán)己基-N'-[2-(4-嗎啉基)乙基]硫脲、1,5-二氮雜雙環(huán)[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雜雙環(huán)[5.3.0]-7-十一烯等。作為氫氧化四級(jí)銨，例如可列舉：氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化芐基三甲基銨、氫氧化四正丁基銨、氫氧化四正己基銨等。作為羧酸的四級(jí)銨鹽，例如可列舉：乙酸四甲基銨、苯甲酸四甲基銨、乙酸四正丁基銨、苯甲酸四正丁基銨等。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物具有堿性化合物的情況下，相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，堿性化合物的含量?jī)?yōu)選為0.001質(zhì)量份～3質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.005質(zhì)量份～1質(zhì)量份。堿性化合物可單獨(dú)使用一種，也可并用兩種以上。在并用兩種以上的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。＜表面活性劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物也可含有表面活性劑。作為表面活性劑，可使用陰離子系、陽(yáng)離子系、非離子系或兩性的任一種，但優(yōu)選的表面活性劑為非離子表面活性劑。表面活性劑例如可使用：日本專利特開(kāi)2012-88459號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0201～段落編號(hào)0205中記載者、或日本專利特開(kāi)2011-215580號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0185～段落編號(hào)0188中記載者，將這些記載并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。作為非離子系表面活性劑的例子，可列舉：聚氧亞乙基高級(jí)烷基醚類、聚氧亞乙基高級(jí)烷基苯基醚類、聚氧乙二醇的高級(jí)脂肪酸二酯類、硅酮系、氟系表面活性劑。另外，可由以下商品名而列舉：KP-341、X-22-822(信越化學(xué)工業(yè)(股)制造)，波利弗洛(Polyflow)No.99C(共榮社化學(xué)(股)制造)，艾福拓(Eftop)(三菱材料化成公司制造)，美佳法(Megafac)(迪愛(ài)生(DIC)(股)制造)、F-554(迪愛(ài)生(DIC)(股)制造)，弗拉德諾瓦克(FluoradNovec)FC-4430(住友3M(股)制造)，沙福隆(Surflon)S-242(AGC清美化學(xué)(AGCSeimiChemicals)公司制造)，寶理福斯(PolyFox)PF-6320(歐諾瓦(OMNOVA)公司制造)，SH-8400(東麗-道康寧硅酮(Toray-Dowcorningsilicone))，福吉特(Ftergent)FTX-218G(尼奧斯(Neos)公司制造)等。另外，作為表面活性劑，可列舉含有下述通式(I-1-1)所表示的結(jié)構(gòu)單元A及結(jié)構(gòu)單元B、且利用以四氫呋喃(THF)作為溶媒時(shí)的凝膠滲透色譜法所測(cè)定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)為1,000～10,000的共聚物作為優(yōu)選例。重量平均分子量(Mw)更優(yōu)選為1,500～5,000。通式(I-1-1)[化23]式(I-1-1)中，R401及R403分別獨(dú)立地表示氫原子或甲基，R402表示碳數(shù)1以上且4以下的直鏈亞烷基，R404表示氫原子或碳數(shù)1以上且4以下的烷基，L表示碳數(shù)3以上且6以下的亞烷基，p及q為表示聚合比的質(zhì)量百分率，p表示10質(zhì)量％以上且80質(zhì)量％以下的數(shù)值，q表示20質(zhì)量％以上且90質(zhì)量％以下的數(shù)值，r表示1以上且18以下的整數(shù)，s表示1以上且10以下的整數(shù)。所述L優(yōu)選為下述通式(I-1-2)所表示的分支亞烷基。通式(I-1-2)中的R405表示碳數(shù)1以上且4以下的烷基，就相容性及對(duì)被涂布面的濡濕性的方面而言，優(yōu)選為碳數(shù)1以上且3以下的烷基，更優(yōu)選為碳數(shù)2或3的烷基。p與q的合計(jì)優(yōu)選為100。通式(I-1-2)[化24]表面活性劑可單獨(dú)使用一種或混合使用兩種以上。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物含有表面活性劑的情況下，相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，表面活性劑的含量?jī)?yōu)選為10質(zhì)量份以下，更優(yōu)選為0.001質(zhì)量份～10質(zhì)量份，進(jìn)而優(yōu)選為0.01質(zhì)量份～3質(zhì)量份。＜抗氧化劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物也可含有抗氧化劑。作為抗氧化劑，可含有公知的抗氧化劑。通過(guò)添加抗氧化劑，可防止硬化膜的著色。進(jìn)而有可減少由分解所致的膜厚減薄、另外耐熱透明性優(yōu)異的優(yōu)點(diǎn)。作為抗氧化劑，例如可列舉：磷系抗氧化劑、酰胺類、酰肼類、受阻胺系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。這些中，就硬化膜的著色、膜厚減薄的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為酚系抗氧化劑、受阻胺系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、酰胺系抗氧化劑、酰肼系抗氧化劑、硫系抗氧化劑，最優(yōu)選為酚系抗氧化劑。這些抗氧化劑可單獨(dú)使用一種，也可將兩種以上混合。作為具體例，可列舉日本專利特開(kāi)2005-29515號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0026～段落編號(hào)0031中記載的化合物、日本專利特開(kāi)2011-227106號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0106～段落編號(hào)0116中記載的化合物，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。作為優(yōu)選的市售品，可列舉：艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-20、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-80、艾迪科斯塔波(Adekastab)LA-52、艾迪科斯塔波(Adekastab)LA-81、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-412S、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-36、艷諾斯(Irganox)1035、艷諾斯(Irganox)1098、地奴彬(Tinuvin)144。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物具有抗氧化劑的情況下，相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，抗氧化劑的含量?jī)?yōu)選為0.1質(zhì)量份～10質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.2質(zhì)量份～5質(zhì)量份，尤其優(yōu)選為0.5質(zhì)量份～4質(zhì)量份。通過(guò)設(shè)定為所述范圍，可獲得所形成的膜的充分的透明性，且圖案形成時(shí)的感度也變得良好。＜酸增殖劑＞為了提高感度，本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物可使用酸增殖劑。酸增殖劑為可通過(guò)酸催化劑反應(yīng)而進(jìn)一步產(chǎn)生酸以使反應(yīng)體系內(nèi)的酸濃度上升的化合物，且為在不存在酸的狀態(tài)下穩(wěn)定地存在的化合物。酸增殖劑的具體例可列舉日本專利特開(kāi)2011-221494的段落編號(hào)0226～段落編號(hào)0228中記載的酸增殖劑，將其內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物含有酸增殖劑的情況下，就曝光部與未曝光部的溶解對(duì)比度的觀點(diǎn)而言，相對(duì)于光酸產(chǎn)生劑100質(zhì)量份，優(yōu)選為將酸增殖劑的含量設(shè)為10質(zhì)量份～1000質(zhì)量份，進(jìn)而優(yōu)選為20質(zhì)量份～500質(zhì)量份。酸增殖劑可單獨(dú)使用一種，也可并用兩種以上。在使用兩種以上酸增殖劑的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。＜顯影促進(jìn)劑＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物可含有顯影促進(jìn)劑。作為顯影促進(jìn)劑，可參照日本專利特開(kāi)2012-042837號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0171～段落編號(hào)0172中記載的顯影促進(jìn)劑，將其內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。顯影促進(jìn)劑可單獨(dú)使用一種，還可并用兩種以上。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物具有顯影促進(jìn)劑的情況下，就感度及殘膜率的觀點(diǎn)而言，相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，顯影促進(jìn)劑的添加量?jī)?yōu)選為0質(zhì)量份～30質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.1質(zhì)量份～20質(zhì)量份，最優(yōu)選為0.5質(zhì)量份～10質(zhì)量份。＜其他成分＞本發(fā)明的第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物視需要可分別獨(dú)立地添加一種或兩種以上的熱自由基產(chǎn)生劑、熱酸產(chǎn)生劑、紫外線吸收劑、增稠劑、有機(jī)或無(wú)機(jī)的防沉淀劑、聚苯并噁唑前體以外的聚合物等公知的添加劑。作為聚苯并噁唑前體以外的聚合物，可列舉丙烯酸系聚合物。例如可列舉甲基丙烯酸、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸二環(huán)戊酯及苯乙烯的共聚物。另外，作為其他添加劑，還可使用偏苯三甲酸(trimelliticacid)等。作為這些化合物，例如可使用日本專利特開(kāi)2012-88459號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0201～段落編號(hào)0224的記載的化合物，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。另外，還可使用日本專利特開(kāi)2012-8223號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0120～段落編號(hào)0121中記載的熱自由基產(chǎn)生劑、WO2011/136074A1中記載的含氮化合物及熱酸產(chǎn)生劑，將這些內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。[本發(fā)明的第2形態(tài)]繼而，對(duì)本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物的第2形態(tài)加以說(shuō)明。本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有(A2)聚苯并噁唑前體、(B2)醌二疊氮化合物、以及(C)溶劑。＜(A-2)聚苯并噁唑前體＞本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有聚苯并噁唑前體。聚苯并噁唑前體含有合計(jì)為所有重復(fù)單元的70mol％以上的通式(1)及通式(2)所表示的重復(fù)單元，通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的比率以摩爾比計(jì)為9:1～3:7。[化25]在通式(1)及通式(2)中，X1及X2分別獨(dú)立地表示四價(jià)的有機(jī)基，R1～R4分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc，且R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子或酸分解性基，Rc表示烷基或芳基，Y1表示碳數(shù)3～15的環(huán)狀的脂肪族基，Y2表示碳數(shù)4～20的直鏈或分支的脂肪族基。X1、X2、Y1、Y2的含義與第1形態(tài)中所說(shuō)明的范圍相同，優(yōu)選范圍也相同。R1～R4分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、酸分解性基或-CORc，且R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子或酸分解性基，Rc表示烷基或芳基。烷基、酸分解性基、Rc的含義與第1形態(tài)中所說(shuō)明的范圍相同，優(yōu)選范圍也相同。在本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物中，聚苯并噁唑前體優(yōu)選為R1～R4的至少一個(gè)表示氫原子，且優(yōu)選為所有重復(fù)單元中所含的R1～R4的5％～100％為氫原子，更優(yōu)選為60％～95％為氫原子。下限進(jìn)而優(yōu)選為70％以上。上限進(jìn)而優(yōu)選為90％以下。通過(guò)R1～R4的至少一個(gè)為氫原子，可形成高感度的感光性樹(shù)脂組合物。尤其若氫原子的含有率為所述范圍，則感度進(jìn)而更優(yōu)異。聚苯并噁唑前體的所有重復(fù)單元中的通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元的合計(jì)、及兩者的摩爾比的優(yōu)選范圍的含義與第1形態(tài)中所說(shuō)明的范圍相同，優(yōu)選范圍也相同。聚苯并噁唑前體也可含有除通式(1)所表示的重復(fù)單元與通式(2)所表示的重復(fù)單元以外的重復(fù)單元(也稱為其他重復(fù)單元)。作為其他重復(fù)單元，可列舉第1形態(tài)中所說(shuō)明的重復(fù)單元。相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物的總固體成分100質(zhì)量份，本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物中的聚苯并噁唑前體的含量?jī)?yōu)選為50質(zhì)量份以上，更優(yōu)選為60質(zhì)量份以上，尤其優(yōu)選為70質(zhì)量份以上。上限例如優(yōu)選為99質(zhì)量份以下。在使用兩種以上聚苯并噁唑前體的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。＜(B2)醌二疊氮化合物＞本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有醌二疊氮化合物。作為醌二疊氮化合物，可優(yōu)選地使用通過(guò)光化射線的照射而產(chǎn)生羧酸的1,2-醌二疊氮化合物。作為1,2-醌二疊氮化合物，可使用酚性化合物或醇性化合物(以下稱為“母核”)與1,2-萘醌二疊氮磺酰鹵的縮合物等。作為這些化合物的具體例，例如可參照日本專利特開(kāi)2012-088459號(hào)公報(bào)的段落編號(hào)0075～段落編號(hào)0078的記載，將其內(nèi)容并入至本申請(qǐng)說(shuō)明書中。在酚性化合物或醇性化合物(母核)與1,2-萘醌二疊氮磺酰鹵的縮合反應(yīng)中，可使用相對(duì)于酚性化合物或醇性化合物中的OH基數(shù)而相當(dāng)于優(yōu)選為30摩爾％～85摩爾％、更優(yōu)選為50摩爾％～70摩爾％的1,2-萘醌二疊氮磺酰鹵?？s合反應(yīng)可通過(guò)公知的方法來(lái)實(shí)施。作為1,2-醌二疊氮化合物，還可適宜地使用將所述例示的母核的酯鍵變更為酰胺鍵的1,2-萘醌二疊氮磺酰胺類，例如2,3,4-三氨基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-4-磺酰胺等。另外，也可使用4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1.0摩爾)與1,2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯(3.0摩爾)的縮合物、1,1,1-三(對(duì)羥基苯基)乙烷(1.0摩爾)與1,2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮(1.0摩爾)與1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯(2.44摩爾)的縮合物等。這些醌二疊氮化合物可單獨(dú)使用或組合使用兩種以上。相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中的醌二疊氮化合物的含量?jī)?yōu)選為1質(zhì)量份～50質(zhì)量份。下限例如更優(yōu)選為2質(zhì)量份以上，進(jìn)而優(yōu)選為10質(zhì)量份以上。上限例如更優(yōu)選為40質(zhì)量份以下，進(jìn)而優(yōu)選為30質(zhì)量份以下。通過(guò)將醌二疊氮化合物的含量設(shè)為所述范圍，光化射線的照射部分與未照射部分在成為顯影液的堿性水溶液中的溶解度的差大，圖案化性能變得良好，另外，所得的硬化膜的耐溶劑性變得良好。＜(C)溶劑＞本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物含有溶劑。作為溶劑，可列舉上述第1形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物中所說(shuō)明的溶劑，優(yōu)選范圍也相同。相對(duì)于感光性樹(shù)脂組合物中的所有成分100質(zhì)量份，溶劑的含量?jī)?yōu)選為50質(zhì)量份～95質(zhì)量份。下限更優(yōu)選為60質(zhì)量份以上。上限更優(yōu)選為90質(zhì)量份以下。溶劑可僅使用一種，也可使用兩種以上。在使用兩種以上的情況下，優(yōu)選為其合計(jì)量成為所述范圍。＜其他成分＞本發(fā)明的第2形態(tài)的感光性樹(shù)脂組合物除了所述成分以外，可在不損及本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，視需要而添加交聯(lián)劑、堿性化合物、表面活性劑、抗氧化劑、顯影促進(jìn)劑、塑化劑、熱自由基產(chǎn)生劑、熱酸產(chǎn)生劑、紫外線吸收劑、增稠劑、有機(jī)或無(wú)機(jī)的防沉淀劑、及聚苯并噁唑前體以外的聚合物等公知的添加劑。這些成分與上述第1形態(tài)相同，優(yōu)選范圍也相同。這些成分分別可僅使用一種，也可使用兩種以上。＜雜質(zhì)＞本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，因具有導(dǎo)致組合物的保存穩(wěn)定性劣化或裝置污染的可能性，故優(yōu)選為雜質(zhì)的含量少。作為雜質(zhì)的具體例，可列舉：鈉、鉀、鎂、鈣、鐵、錳、銅、鋁、鈦、鉻、鈷、鎳、鋅、錫、或者這些的離子、游離鹵素或鹵化物離子等。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，這些雜質(zhì)的含量?jī)?yōu)選為1000ppb以下，更優(yōu)選為500ppb以下，進(jìn)而優(yōu)選為100ppb以下。尤其關(guān)于金屬雜質(zhì)，尤其優(yōu)選為20ppb以下。下限并無(wú)特別規(guī)定，但就現(xiàn)實(shí)中可減少的極限或測(cè)定極限的觀點(diǎn)而言，可設(shè)為10ppt以上或100ppt以上。作為如此般減少雜質(zhì)的方法，可通過(guò)以下方法等將雜質(zhì)量設(shè)為所述范圍內(nèi)：使用在樹(shù)脂或添加劑的原料中不含這些雜質(zhì)者；在調(diào)配組合物時(shí)，不使這些雜質(zhì)混入；以及在已混入的情況下進(jìn)行清洗。這些雜質(zhì)可利用例如感應(yīng)耦合等離子體(Inductivelycoupledplasma)發(fā)光分光分析法、原子吸光分光法等公知的方法進(jìn)行定量。另外，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物優(yōu)選為不含苯、甲醛、三氯乙烯、1,3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、己烷等化合物。在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，這些化合物的含量?jī)?yōu)選為500ppm以下，更優(yōu)選為10ppm以下，進(jìn)而優(yōu)選為1ppm以下。下限并無(wú)特別規(guī)定，但就現(xiàn)實(shí)中可減少的極限或測(cè)定極限的觀點(diǎn)而言，可設(shè)為0.1ppb以上，還可設(shè)為1ppb以上。這些雜質(zhì)可利用與金屬雜質(zhì)相同的方法來(lái)抑制含量，另外，可利用公知的測(cè)定法來(lái)進(jìn)行定量。＜感光性樹(shù)脂組合物的制備方法＞本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物可利用任意的方法將各成分以既定的比例混合并進(jìn)行攪拌溶解而制備。例如，還可在制成將各成分分別預(yù)先溶解于溶劑中的溶液后，將這些溶液以既定的比例混合而制備本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物。如以上般制備的組合物溶液還可在使用例如孔徑0.2μm的過(guò)濾器等進(jìn)行過(guò)濾后加以使用。過(guò)濾器的孔徑可根據(jù)目標(biāo)純度等來(lái)適當(dāng)調(diào)節(jié)，除0.2μm以外，還可例示：0.05μm、0.1μm、0.3μm、0.5μm等。過(guò)濾器的材質(zhì)可對(duì)應(yīng)于組合物中所使用的溶劑等進(jìn)行適當(dāng)選擇。例如可列舉：聚丙烯、聚乙烯、聚酯、尼龍、聚四氟乙烯、金屬、活性炭、纖維素等。進(jìn)而還可重復(fù)進(jìn)行過(guò)濾。例如可列舉進(jìn)行兩次過(guò)濾、或進(jìn)行五次過(guò)濾、或通過(guò)循環(huán)過(guò)濾而進(jìn)行多次過(guò)濾的形態(tài)。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物可根據(jù)目的來(lái)調(diào)整固體成分濃度、粘度、表面張力。在進(jìn)行狹縫涂布的情況下，感光性樹(shù)脂組合物的固體成分濃度優(yōu)選為2質(zhì)量％～40質(zhì)量％，更優(yōu)選為3質(zhì)量％～30質(zhì)量％，進(jìn)而優(yōu)選為4質(zhì)量％～20質(zhì)量％。進(jìn)行狹縫涂布的情況下的粘度優(yōu)選為1mPa·s～40mPa·s，更優(yōu)選為2mPa·s～25mPa·s，最優(yōu)選為3mPa·s～20mPa·s。在進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布的情況下，組合物的固體成分濃度優(yōu)選為5質(zhì)量％～60質(zhì)量％，更優(yōu)選為7質(zhì)量％～50質(zhì)量％，進(jìn)而優(yōu)選為10質(zhì)量％～40質(zhì)量％。進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂布的情況下的粘度優(yōu)選為5mPa·s～100mPa·s，更優(yōu)選為8mPa·s～70mPa·s，最優(yōu)選為10mPa·s～50mPa·s。就涂布性的觀點(diǎn)而言，表面張力優(yōu)選為10mN/m～100mN/m，優(yōu)選為15mN/m～80mN/m，最優(yōu)選為20mN/m～50mN/m。再者，在本發(fā)明中，粘度為25℃下的值。＜感光性樹(shù)脂組合物的保管方法＞本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物可利用公知的方法來(lái)加以保管?？杀９苡诓ＡЩ蚪饘俚拿荛]容器中。此時(shí)，可將環(huán)境設(shè)為大氣，還可設(shè)為氮?dú)?。就防止感光性?shù)脂組合物的意外氧化的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為設(shè)為氮?dú)猸h(huán)境。保管溫度可設(shè)為公知的溫度。例如可列舉室溫(20℃～25℃)、冷藏(0℃～5℃)、冷凍(-50℃～-10℃)。就防止感光性樹(shù)脂組合物的意外劣化的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為冷凍或冷藏，更優(yōu)選為冷凍。具體而言，可列舉5℃、-10℃、-20℃、-30℃，優(yōu)選為-20℃。＜硬化膜的制造方法＞本發(fā)明的硬化膜的制造方法優(yōu)選為包括以下的(1)～(5)的步驟。(1)將本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物涂布于基板上的步驟(涂布步驟)；(2)自所涂布的感光性樹(shù)脂組合物中去除溶劑的步驟(溶劑去除步驟)；(3)利用光化射線對(duì)去除了溶劑的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行曝光的步驟(曝光步驟)；(4)利用顯影液對(duì)經(jīng)曝光的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行顯影的步驟(曝光步驟)；(5)對(duì)經(jīng)顯影的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行熱硬化的步驟(后烘烤步驟)。以下依序?qū)Ω鞑襟E加以說(shuō)明。在(1)的步驟中，優(yōu)選為將本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物涂布于基板上而制成含有溶劑的濕潤(rùn)膜。在(1)的步驟中，也可在將感光性樹(shù)脂組合物涂布于基板上之前，對(duì)基板進(jìn)行堿清洗或等離子體清洗等清洗。另外，對(duì)于清洗后的基板，也可利用六甲基二硅氮烷(Hexamethyldisilazane，HMDS)等對(duì)基板表面進(jìn)行處理。利用六甲基二硅氮烷對(duì)基板表面進(jìn)行處理的方法并無(wú)特別限定，例如可列舉將基板暴露于六甲基二硅氮烷蒸氣中的方法等。作為基板，可列舉：無(wú)機(jī)基板、樹(shù)脂基板、樹(shù)脂復(fù)合材料基板等。作為無(wú)機(jī)基板，例如可列舉：玻璃基板、石英基板、硅酮基板、氮化硅基板，及在這些材料的基板上蒸鍍有鉬、鈦、鋁、銅等的復(fù)合基板。作為樹(shù)脂基板，可列舉包含以下樹(shù)脂的基板：聚對(duì)苯二甲酸丁二酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚苯并唑、聚苯硫醚、聚環(huán)烯烴、降冰片烯樹(shù)脂、聚氯三氟乙烯等氟樹(shù)脂、液晶聚合物、丙烯酸系樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、硅酮樹(shù)脂、離聚物樹(shù)脂、氰酸酯樹(shù)脂、交聯(lián)富馬酸二酯、環(huán)狀聚烯烴、芳香族醚、馬來(lái)酰亞胺-烯烴、纖維素、環(huán)硫化合物等合成樹(shù)脂。在使用樹(shù)脂基板的情況下，可使用所謂輥至輥(roll-to-roll)的工藝。這些基板很少以所述形態(tài)直接使用，通常視最終產(chǎn)品的形態(tài)不同而形成例如薄膜晶體管(thinfilmtransistor，TFT)元件般的多層層疊結(jié)構(gòu)?；宓拇笮〔o(wú)特別限定。就生產(chǎn)性、涂布性的觀點(diǎn)而言，基板的面積優(yōu)選為10000mm2以上且10000000mm2以下。例如可例示300mm×400mm見(jiàn)方的大小、1000mm×1100mm的大小。對(duì)基板涂布感光性樹(shù)脂組合物的方法并無(wú)特別限定，例如可使用狹縫涂布法、噴霧法、輥涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法、流延涂布法、狹縫及旋轉(zhuǎn)法等方法。在狹縫涂布法的情況下，優(yōu)選為將基板與狹縫模具的相對(duì)移動(dòng)速度設(shè)為50mm/sec～120mm/sec。就可效率良好地對(duì)大型基板進(jìn)行涂布、生產(chǎn)性優(yōu)異的方面而言，優(yōu)選為狹縫涂布。所謂大型基板，是指面積為300000mm2以上且10000000mm2以下的基板。涂布感光性樹(shù)脂組合物時(shí)的濕潤(rùn)膜厚并無(wú)特別限定，能以與用途相對(duì)應(yīng)的膜厚來(lái)涂布。例如優(yōu)選為0.5μm～10μm。還可于在基板上涂布本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物之前，應(yīng)用如日本專利特開(kāi)2009-145395號(hào)公報(bào)中記載般的所謂預(yù)濕(pre-wet)法。在(2)的步驟中，通過(guò)減壓(真空)和/或加熱等自涂布感光性樹(shù)脂組合物而形成的所述濕潤(rùn)膜中去除溶劑，從而在基板上形成干燥膜。溶劑去除步驟的加熱條件優(yōu)選為70℃～130℃下30秒鐘～300秒鐘左右。在溫度及時(shí)間為所述范圍的情況下，有圖案的密接性更良好且還可進(jìn)一步減少殘?jiān)膬A向。干燥膜的膜厚可根據(jù)用途來(lái)選擇，并無(wú)特別限定。就溶劑去除的容易度的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為0.01μm～20μm，更優(yōu)選為0.1μm～10μm，最優(yōu)選為0.1μm～5.0μm。在(3)的步驟中，對(duì)設(shè)有干燥膜的基板照射既定圖案的光化射線。在所述步驟中，在曝光部中生成羧基或酚性羥基而提高曝光部對(duì)顯影液的溶解性。即，在含有聚合物成分與光酸產(chǎn)生劑的形態(tài)中，通過(guò)光化射線的照射，光酸產(chǎn)生劑分解而產(chǎn)生酸，所述聚合物成分含有具有酸基經(jīng)酸分解性基保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元。而且，利用所產(chǎn)生的酸的催化劑作用，將涂膜成分中所含的酸分解性基水解而生成羧基或酚性羥基。另外，在含有醌二疊氮化合物的形態(tài)中，通過(guò)光化射線的照射，由醌二疊氮化合物生成羧基。作為光化射線的光源，可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學(xué)燈、發(fā)光二極管(LightEmittingDiode，LED)光源、準(zhǔn)分子激光產(chǎn)生裝置等，可優(yōu)選地使用i射線(365nm)、h射線(405nm)、g射線(436nm)等具有300nm以上且450nm以下的波長(zhǎng)的光化射線。另外，視需要還可通過(guò)如長(zhǎng)波長(zhǎng)截止濾波器、短波長(zhǎng)截止濾波器、帶通濾波器般的分光濾波器來(lái)調(diào)整照射光。曝光量?jī)?yōu)選為1mJ/cm2～500mJ/cm2。作為曝光裝置，可使用鏡面投影對(duì)準(zhǔn)機(jī)(mirrorprojectionaligner)、步進(jìn)機(jī)(stepper)、掃描器(scanner)、近接式(proximity)、接觸式(contact)、微透鏡陣列(microlensarray)、透鏡掃描器(lensscanner)、激光曝光等各種方式的曝光機(jī)。另外，還可進(jìn)行使用所謂超分辨技術(shù)的曝光。作為超分辨技術(shù)，可列舉進(jìn)行多次曝光的多重曝光、或使用相位轉(zhuǎn)移掩模的方法、環(huán)帶照明法等。通過(guò)使用這些超分辨技術(shù)可形成更高精細(xì)的圖案，從而優(yōu)選。在(4)的步驟中，使用顯影液對(duì)具有游離的羧基或酚性羥基的共聚物進(jìn)行顯影。通過(guò)將容易溶解于顯影液中的具有羧基或酚性羥基的曝光部區(qū)域去除，而形成正型圖像。顯影步驟中使用的顯影液中，優(yōu)選為含有堿性化合物的水溶液。作為堿性化合物，例如可使用：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿金屬氫氧化物類；碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銫等堿金屬碳酸鹽類；重碳酸鈉、重碳酸鉀等堿金屬重碳酸鹽類；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化二乙基二甲基銨等氫氧化四烷基銨類；膽堿等氫氧化(羥基烷基)三烷基銨類；硅酸鈉、偏硅酸鈉等硅酸鹽類；乙胺、丙胺、二乙胺、三乙胺等烷基胺類；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類；1,8-二氮雜雙環(huán)-[5.4.0]-7-十一烯、1,5-二氮雜雙環(huán)-[4.3.0]-5-壬烯等脂環(huán)式胺類。這些中，優(yōu)選為氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、膽堿(氫氧化-2-羥基乙基三甲基銨)。另外，還可將在所述堿類的水溶液中添加適當(dāng)量的甲醇或乙醇等水溶性有機(jī)溶劑或者表面活性劑而成的水溶液用作顯影液。顯影液的pH值優(yōu)選為10.0～14.0。顯影時(shí)間優(yōu)選為30秒鐘～500秒鐘，另外，顯影的方法可為覆液法(puddlemethod)、噴淋法、浸漬法等的任一種。在顯影后，還可進(jìn)行淋洗步驟。在淋洗步驟中，通過(guò)利用純水等清洗顯影后的基板，而進(jìn)行所附著的顯影液去除、顯影殘?jiān)コ?。淋洗方法可使用公知的方法。例如可列舉噴淋淋洗或浸漬淋洗等。在(5)的步驟中，通過(guò)對(duì)所得的正型圖像進(jìn)行加熱，使酸分解性基進(jìn)行熱分解而生成羧基或酚性羥基，與交聯(lián)性基、交聯(lián)劑等交聯(lián)，由此可形成硬化膜。所述加熱優(yōu)選為使用熱板或烘箱等加熱裝置，在既定的溫度、例如180℃～250℃下進(jìn)行既定時(shí)間的加熱處理，例如若為熱板上則進(jìn)行5分鐘～90分鐘的加熱處理，若為烘箱則進(jìn)行30分鐘～120分鐘的加熱處理。通過(guò)如此般進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)，可形成耐熱性、硬度等更優(yōu)異的保護(hù)膜或?qū)娱g絕緣膜。另外，在本發(fā)明中，在不含交聯(lián)性基或交聯(lián)劑等的形態(tài)中，還可通過(guò)進(jìn)行加熱而使聚苯并噁唑前體閉環(huán)(硬化)來(lái)形成硬化膜。用以使聚苯并噁唑前體閉環(huán)(硬化)的加熱溫度優(yōu)選為180℃～400℃，更優(yōu)選為220℃～350℃。加熱時(shí)間優(yōu)選為15分鐘～120分鐘。另外，進(jìn)行加熱處理時(shí)是在氮?dú)猸h(huán)境下進(jìn)行，由此還可進(jìn)一步提高透明性。加熱環(huán)境的氧濃度越低越佳。當(dāng)在氮?dú)庵脫Q環(huán)境下進(jìn)行加熱時(shí)，就硬化膜的透明性的觀點(diǎn)而言，加熱環(huán)境的氧濃度(mol換算)優(yōu)選為1.0ppt～10％，更優(yōu)選為1.0ppb～5％，最優(yōu)選為1.0ppm～3％。在后烘烤之前，還可在以相對(duì)較低的溫度進(jìn)行烘烤之后進(jìn)行后烘烤(追加中烘烤步驟)。在進(jìn)行中烘烤的情況下，優(yōu)選為在90℃～150℃下加熱1分鐘～60分鐘后，在200℃以上的高溫下進(jìn)行后烘烤。另外，還可將中烘烤、后烘烤分為三階段以上的多階段來(lái)進(jìn)行加熱。通過(guò)設(shè)置此種中烘烤、后烘烤，可調(diào)整圖案的錐角。這些烘烤的加熱可使用熱板、烘箱、紅外線加熱器等公知的加熱方法。作為后烘烤步驟，例如可列舉在通過(guò)氮?dú)庵脫Q使氧分壓成為1000ppm的烘箱中，以90℃下30分鐘、120℃下30分鐘、180℃下40分鐘、320℃下60分鐘依次進(jìn)行加熱的例子。再者，可在后烘烤之前，且在利用光化射線對(duì)形成有圖案的基板進(jìn)行整面再曝光(后曝光)后，進(jìn)行后烘烤，由此可由存在于未曝光部分中的光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生酸，作為促進(jìn)交聯(lián)步驟的催化劑而發(fā)揮功能，從而可促進(jìn)膜的硬化反應(yīng)。作為包括后曝光步驟的情況下的優(yōu)選曝光量，優(yōu)選為100mJ/cm2～3,000mJ/cm2，尤其優(yōu)選為100mJ/cm2～500mJ/cm2。在進(jìn)行后曝光步驟的情況下，可增大形成圖案時(shí)的圖案的錐角。相反地，在不進(jìn)行后曝光步驟的情況下，可減小圖案的錐角。后曝光步驟的有無(wú)、及進(jìn)行后曝光時(shí)的曝光量可根據(jù)目標(biāo)圖案的錐角來(lái)適當(dāng)調(diào)整。作為圖案的錐角，例如可列舉15°、30°、45°、60°、75°、及90°。在將硬化膜用作絕緣膜的情況下，錐角優(yōu)選為30°、45°、60°、及75°。還可將由本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物所得的硬化膜用作干式蝕刻抗蝕劑。在將通過(guò)后烘烤步驟進(jìn)行熱硬化所得的硬化膜用作干式蝕刻抗蝕劑的情況下，作為蝕刻處理，可進(jìn)行灰化、等離子體蝕刻、臭氧蝕刻等干式蝕刻處理。＜硬化膜＞本發(fā)明的硬化膜是使上文所述的本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物硬化所得的硬化膜。另外，本發(fā)明的硬化膜優(yōu)選為由上文所述的本發(fā)明的硬化膜的形成方法所得的硬化膜。本發(fā)明的硬化膜可適宜地用作層間絕緣膜。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物可獲得即便在高溫下經(jīng)烘烤的情形中也具有高的透明性的層間絕緣膜。使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物而成的層間絕緣膜具有高的透明性，從而在液晶顯示裝置、有機(jī)EL顯示裝置、觸摸屏等的用途中有用。本發(fā)明的硬化膜可根據(jù)用途而設(shè)為各種物性。在用于半導(dǎo)體元件等的層間絕緣膜的情況下，就降低元件內(nèi)所產(chǎn)生的寄生電容的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為相對(duì)介電常數(shù)低。所述情況下的相對(duì)介電常數(shù)優(yōu)選為1.5～4.0，更優(yōu)選為2.2～3.2。另外，在將本發(fā)明的硬化膜用于絕緣膜的情況下，就提高絕緣性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為體積電阻高。體積電阻優(yōu)選為1.0×1010Ω·cm～1.0×1020Ω·cm，更優(yōu)選為1.0×1013Ω·cm～1.0×1018Ω·cm。另外，在將本發(fā)明的硬化膜用于要求靜電防止能力的用途的情況下，體積電阻優(yōu)選為1.0×104Ω·cm～1.0×1013Ω·cm，更優(yōu)選為1.0×106Ω·cm～1.0×1011Ω·cm。另外，就提高使用硬化膜形成電子元件時(shí)的電子元件的堅(jiān)牢性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為硬化膜的楊氏模量高?？闪信e楊氏模量為0.5GPa～8.0GPa或1.0GPa～4.0GPa作為優(yōu)選例。另外，就提高使用硬化膜形成電子元件時(shí)的電子元件的堅(jiān)牢性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為硬化膜的斷裂伸長(zhǎng)率高?？闪信e斷裂伸長(zhǎng)率為20％～200％或50％～150％作為優(yōu)選例。另外，就提高使用硬化膜形成電子元件時(shí)的電子元件的堅(jiān)牢性的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為硬化膜的玻璃化溫度(Tg)高?？闪信eTg為100℃～400℃作為優(yōu)選例。另外，就防止形成有硬化膜的基板的翹曲的觀點(diǎn)而言，優(yōu)選為硬化膜的線膨脹系數(shù)接近于基板的線膨脹系數(shù)。例如，在使用線膨脹系數(shù)為2ppm/℃～20ppm/℃的范圍的金屬基板、玻璃基板、及硅基板的情況下，硬化膜的線膨脹系數(shù)優(yōu)選為10ppm/℃～100ppm/℃，更優(yōu)選為15ppm/℃～65ppm/℃。作為所述情況下的硬化膜的線膨脹系數(shù)的具體例，可列舉15ppm/℃及25ppm/℃。另外，例如在使用線膨脹系數(shù)為20ppm/℃～120ppm/℃的范圍的樹(shù)脂基板的情況下，硬化膜的線膨脹系數(shù)優(yōu)選為20ppm/℃～120ppm/℃，更優(yōu)選為40ppm/℃～80ppm/℃。作為所述情況下的硬化膜的線膨脹系數(shù)的具體例，可列舉48ppm/℃、59ppm/℃、及69ppm/℃。再者，在硬化膜具有Tg的情況下，所述線膨脹系數(shù)是指Tg的溫度以下的線膨脹系數(shù)。在將本發(fā)明的硬化膜用于透鏡材料的情況下，優(yōu)選為折射率高。所述情況下，例如400nm中的折射率優(yōu)選為1.5～2.0，更優(yōu)選為1.6～1.8。在將本發(fā)明的硬化膜用于反射防止膜的情況下，優(yōu)選為折射率低。所述情況下，例如400nm中的折射率優(yōu)選為1.0～1.6，更優(yōu)選為1.2～1.4。＜液晶顯示裝置＞本發(fā)明的液晶顯示裝置具有本發(fā)明的硬化膜。本發(fā)明的液晶顯示裝置除了具有使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物所形成的平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，并無(wú)特別限制，可列舉采用各種結(jié)構(gòu)的公知的液晶顯示裝置。例如，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置所具備的TFT的具體例，可列舉非晶硅-TFT、低溫多晶硅-TFT、氧化物半導(dǎo)體TFT等。作為氧化物半導(dǎo)體，可例示所謂IGZO(包含銦、鎵、鋅、氧的非晶半導(dǎo)體)。本發(fā)明的硬化膜由于電氣特性優(yōu)異，故可與這些TFT組合而優(yōu)選地使用。另外，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置可取的液晶驅(qū)動(dòng)方式，可列舉：扭轉(zhuǎn)向列(TwistedNematic，TN)方式、垂直取向(VerticalAlignment，VA)方式、共面切換(In-Plane-Switching，IPS)方式、邊緣場(chǎng)切換(FringeFieldSwitching，F(xiàn)FS)方式、光學(xué)補(bǔ)償彎曲(OpticalCompensatedBend，OCB)方式等。關(guān)于面板構(gòu)成，在彩色濾光片陣列(ColorFilteronAllay，COA)方式的液晶顯示裝置中也可使用本發(fā)明的硬化膜，例如，可用作日本專利特開(kāi)2005-284291的有機(jī)絕緣膜(115)或日本專利特開(kāi)2005-346054的有機(jī)絕緣膜(212)。另外，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置可取的液晶取向膜的具體取向方式，可列舉摩擦取向法、光取向方等。另外，還可利用日本專利特開(kāi)2003-149647號(hào)公報(bào)或日本專利特開(kāi)2011-257734號(hào)公報(bào)中記載的聚合物穩(wěn)定取向(PolymerSustainedAlignment，PSA)技術(shù)來(lái)進(jìn)行聚合物取向支持。另外，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物及本發(fā)明的硬化膜不限定于所述用途，可用于各種用途中。例如，除了平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，還可適宜地用于彩色濾光片的保護(hù)膜、或用以將液晶顯示裝置中的液晶層保持于一定厚度的間隔件(spacer)或在固體攝像元件中設(shè)置于彩色濾光片上的微透鏡等。圖1為表示有源矩陣方式的液晶顯示裝置10的一例的概念性剖面圖。所述液晶顯示裝置10為在背面上具有背光單元12的液晶面板，且液晶面板中配置有與配置于貼附有偏光膜的兩片玻璃基板14、玻璃基板15之間的所有像素相對(duì)應(yīng)的TFT16的元件。形成于玻璃基板上的各元件通過(guò)形成于硬化膜17中的接觸孔18對(duì)形成像素電極的氧化銦錫(IndiumTinOxide，ITO)透明電極19進(jìn)行配線。在ITO透明電極19上，設(shè)有液晶20的層及配置有黑色矩陣的彩色濾光片22。背光的光源并無(wú)特別限定，可使用公知的光源。例如可列舉白色LED、藍(lán)色/紅色/綠色等的多色LED、熒光燈(冷陰極管)、有機(jī)電激發(fā)光(有機(jī)EL)等。另外，液晶顯示裝置可設(shè)定為三維(ThreeDimensions，3D)(立體視)型，也可設(shè)定為觸摸屏型。進(jìn)而還可設(shè)定為可撓型，可用作日本專利特開(kāi)2011-145686號(hào)公報(bào)中記載的第2層間絕緣膜(48)、或日本專利特開(kāi)2009-258758號(hào)公報(bào)中記載的層間絕緣膜(520)、日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的有機(jī)絕緣膜(PAS)。進(jìn)而，即便為靜態(tài)驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置，通過(guò)應(yīng)用本發(fā)明也可顯示設(shè)計(jì)性高的圖案。作為一例，可將本發(fā)明用作如日本專利特開(kāi)2001-125086號(hào)公報(bào)中所記載般的聚合物網(wǎng)格型液晶的絕緣膜。對(duì)于日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的液晶顯示裝置，使用圖2加以說(shuō)明。在圖2中，符號(hào)SUB1為玻璃基板，且具有多個(gè)掃描信號(hào)線、以及與多個(gè)掃描信號(hào)線交叉的多個(gè)視頻信號(hào)線。在各交點(diǎn)附近具有TFT。在玻璃基板SUB1上，自下起依序形成有基底膜UC、硅等的半導(dǎo)體膜PS、柵極絕緣膜GI、TFT的柵極電極GT、第1層間絕緣膜IN1。在第1層間絕緣膜IN1上形成有TFT的漏極電極SD1以及TFT的源極電極SD2。漏極電極SD1經(jīng)由形成于柵極絕緣膜GI及第1層間絕緣膜IN1的接觸孔而連接于TFT的漏極區(qū)域。源極電極SD2經(jīng)由形成于柵極絕緣膜GI及第1層間絕緣膜IN1的接觸孔而連接于TFT的源極區(qū)域。在漏極電極SD1及源極電極SD2上形成有第2層間絕緣膜IN2。在第2層間絕緣膜IN2上形成有有機(jī)絕緣膜PAS。有機(jī)絕緣膜PAS可使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)形成。在有機(jī)絕緣膜PAS上形成有對(duì)向電極CT及反射膜RAL。在對(duì)向電極CT及反射膜RAL上形成有第3層間絕緣膜IN3。在第3層間絕緣膜IN3上形成有像素電極PX。像素電極PX經(jīng)由形成于第2層間絕緣膜IN2及第3層間絕緣膜IN3的接觸孔而與TFT的源極電極SD2連接。在使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)形成有機(jī)絕緣膜PAS的情況下，有機(jī)絕緣膜PAS的耐熱性優(yōu)異，故可提高第3層間絕緣膜IN3的制膜溫度，從而可形成更致密的膜。再者，第1層間絕緣膜IN1、第2層間絕緣膜IN2、第3層間絕緣膜IN3也可使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)形成。關(guān)于圖2所示的液晶顯示裝置的詳細(xì)情況可參照日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的記載，將其內(nèi)容并入至本說(shuō)明書中。＜有機(jī)電激發(fā)光顯示裝置＞本發(fā)明的有機(jī)電激發(fā)光(有機(jī)EL)顯示裝置具有本發(fā)明的硬化膜。本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置除了具有使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物所形成的平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，并無(wú)特別限制，可列舉采用各種結(jié)構(gòu)的公知的各種有機(jī)EL顯示裝置或液晶顯示裝置。例如，作為本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置所具備的TFT的具體例，可列舉非晶硅-TFT、低溫多晶硅-TFT、氧化物半導(dǎo)體TFT等。本發(fā)明的硬化膜由于電氣特性優(yōu)異，故可與這些TFT組合而優(yōu)選地使用。圖3為有機(jī)EL顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。其表示底部發(fā)光型的有機(jī)EL顯示裝置中的基板的示意性剖面圖，且具有平坦化膜4。在玻璃基板6上形成底部柵極型的TFT1，以覆蓋TFT1的狀態(tài)形成包含Si3N4的絕緣膜3。在絕緣膜3中形成此處省略圖示的接觸孔后，將經(jīng)由所述接觸孔而連接于TFT1的配線2(高度1.0μm)形成于絕緣膜3上。配線2為用以將TFT1間連接或?qū)⒑罄m(xù)步驟中形成的有機(jī)EL元件與TFT1連接的配線。進(jìn)而，為了使因形成配線2所致的凹凸平坦化，以填埋由配線2所致的凹凸的狀態(tài)在絕緣膜3上形成平坦化膜4。在平坦化膜4上，形成有底部發(fā)光型的有機(jī)EL元件。即，在平坦化膜4上，經(jīng)由接觸孔7連接于配線2而形成包含ITO的第一電極5。另外，第一電極5相當(dāng)于有機(jī)EL元件的陽(yáng)極。形成覆蓋第一電極5的邊緣的形狀的絕緣膜8，通過(guò)設(shè)置絕緣膜8，可防止第一電極5與其后續(xù)步驟中形成的第二電極之間的短路。進(jìn)而，圖3中雖未圖示，但介隔所需的圖案掩模而依次蒸鍍?cè)O(shè)置空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層，繼而，在基板上方的整個(gè)面上形成包含Al的第二電極，使用紫外線硬化型環(huán)氧樹(shù)脂與密封用玻璃板進(jìn)行貼合，由此進(jìn)行密封，獲得對(duì)各有機(jī)EL元件連接用以驅(qū)動(dòng)所述有機(jī)EL元件的TFT1而成的有源矩陣型的有機(jī)EL顯示裝置。作為有機(jī)EL顯示裝置的其他形態(tài)，可使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)形成日本專利特開(kāi)2012-203121號(hào)公報(bào)的圖1中記載的像素分離膜(19)或平坦化膜(17)。另外，可使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)形成日本專利特開(kāi)2013-196919號(hào)公報(bào)的圖1中記載的高電阻層(18)、像素間絕緣膜(16)、層間絕緣膜(14)或?qū)娱g絕緣膜(12c)。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物由于感度良好且顯影時(shí)的圖案密接性優(yōu)異，故作為微機(jī)電系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystems，MEMS)元件的結(jié)構(gòu)構(gòu)件，將使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物所形成的抗蝕劑圖案作為隔離壁，或作為機(jī)械驅(qū)動(dòng)零件的一部分組入而使用。作為MEMS元件，例如可列舉：表面聲波(SurfaceAcousticWave，SAW)濾波器、體聲波(BulkAcousticWave，BAW)濾波器、陀螺傳感器(gyrosensor)、顯示器用微快門(microshutter)、圖像傳感器、電子紙、噴墨頭、生物芯片(biochip)、密封劑等零件。更具體的例子例示于日本專利特表2007-522531、日本專利特開(kāi)2008-250200、日本專利特開(kāi)2009-263544等中。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物由于平坦性或透明性優(yōu)異，故例如還可用于形成日本專利特開(kāi)2011-107476號(hào)公報(bào)的圖2中記載的堆積層(16)及平坦化膜(57)、日本專利特開(kāi)2010-9793號(hào)公報(bào)的圖4(a)中記載的隔離壁(12)及平坦化膜(102)、日本專利特開(kāi)2010-27591號(hào)公報(bào)的圖10中記載的堆積層(221)及第3層間絕緣膜(216b)、日本專利特開(kāi)2009-128577號(hào)公報(bào)的圖4(a)中記載的第2層間絕緣膜(125)及第3層間絕緣膜(126)、日本專利特開(kāi)2010-182638號(hào)公報(bào)的圖3中記載的平坦化膜(12)及像素分離絕緣膜(14)等。除此以外，還可適宜地用于用以將液晶顯示裝置中的液晶層保持于一定厚度的間隔件，或傳真機(jī)(facsimile)、電子影印機(jī)、固體攝像元件等的片上彩色濾光片的成像光學(xué)系統(tǒng)或光纖連接器的微透鏡。＜觸摸屏及觸摸屏顯示裝置＞本發(fā)明的觸摸屏為絕緣層和/或保護(hù)層的全部或一部分包含本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物的硬化物的觸摸屏。另外，本發(fā)明的觸摸屏優(yōu)選為至少具有透明基板、電極及絕緣層和/或保護(hù)層。本發(fā)明的觸摸屏顯示裝置優(yōu)選為具有本發(fā)明的觸摸屏的觸摸屏顯示裝置。本發(fā)明的觸摸屏可為電阻膜方式、靜電電容方式、超聲波方式、電磁感應(yīng)方式等公知方式的任一種。其中，優(yōu)選為靜電電容方式。另外，本發(fā)明的觸摸屏顯示裝置也可為觸摸屏或顯示裝置的絕緣層和/或保護(hù)層的全部或一部分包含本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物的硬化物的觸摸屏顯示裝置。作為靜電電容方式的觸摸屏，可列舉日本專利特開(kāi)2010-28115號(hào)公報(bào)中揭示的觸摸屏、或國(guó)際公開(kāi)第2012/057165號(hào)中揭示的觸摸屏。作為觸摸屏顯示裝置，可列舉：所謂的單元內(nèi)(in-cell)型(例如，日本專利特表2012-517051號(hào)公報(bào)的圖5、圖6、圖7、圖8)、所謂的單元上型(on-cell)(例如，日本專利特開(kāi)2012-43394號(hào)公報(bào)的圖14、國(guó)際公開(kāi)第2012/141148號(hào)的圖2(b)、日本專利特開(kāi)2013-168125號(hào)公報(bào)的圖19)、單片玻璃方案(OneGlassSolution，OGS)型、鏡片觸摸(TouchonLens，TOL)型、其他構(gòu)成(例如，日本專利特開(kāi)2013-164871號(hào)公報(bào)的圖6)、各種外掛型(out-cell)(所謂的GG方式、G1方式·G2方式、GFF方式、GF2方式、GF1方式、G1F方式等)。靜電電容方式的觸摸屏優(yōu)選的是具有前面板、在前面板的非接觸側(cè)至少具有下述(1)～(5)的要素，且(4)的絕緣層為使用本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物的硬化膜。(1)邊框?qū)?2)多個(gè)墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸形成的多個(gè)第一透明電極圖案(3)與第一透明電極圖案電性絕緣，包含在與第一方向交叉的方向上延伸形成的多個(gè)墊部分的多個(gè)第二透明電極圖案(4)使第一透明電極圖案與第二透明電極圖案電性絕緣的絕緣層(5)與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的至少一個(gè)電性連接，與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案為不同的導(dǎo)電性要素本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置優(yōu)選為進(jìn)而以覆蓋所述(1)～(5)的要素的全部或一部分的方式設(shè)置透明保護(hù)層，更優(yōu)選為透明保護(hù)層為本發(fā)明的硬化膜。首先，對(duì)靜電電容方式的觸摸屏的構(gòu)成加以說(shuō)明。圖4為表示靜電電容方式的觸摸屏的構(gòu)成例的剖面圖。在圖4中，靜電電容方式的觸摸屏30包含：前面板31、邊框?qū)?2、第一透明電極圖案33、第二透明電極圖案34、絕緣層35、導(dǎo)電性要素36、以及透明保護(hù)層37。前面板31包含玻璃基板等透明基板，可使用以康寧公司的大猩猩玻璃(GorillaGlass)為代表的強(qiáng)化玻璃等。再者，作為透明基板，可優(yōu)選地列舉：玻璃基板、石英基板、透明樹(shù)脂基板等。另外，在圖4中，將前面板31的設(shè)有各要素的一側(cè)稱為非接觸面。在靜電電容方式的觸摸屏30中，用手指等對(duì)前面板31的接觸面(非接觸面的相反面)進(jìn)行接觸等而進(jìn)行輸入。以下，有時(shí)將前面板稱為“基材”。另外，在前面板31的非接觸面上設(shè)有邊框?qū)?2。邊框?qū)?2是在觸摸屏前面板的非接觸側(cè)所形成的顯示區(qū)域周圍的邊框狀圖案，且是為了使引線等不可見(jiàn)而形成。如圖5所示，靜電電容方式的觸摸屏中，可以覆蓋前面板31的一部分區(qū)域(在圖5中為輸入面以外的區(qū)域)的方式設(shè)有邊框?qū)?2。進(jìn)而，在前面板31上，可如圖5所示般在一部分中設(shè)置開(kāi)口部38。在開(kāi)口部38中，可設(shè)置利用按壓的機(jī)械開(kāi)關(guān)。如圖6所示，在前面板31的接觸面形成有：多個(gè)墊部分經(jīng)由連接部分而在第一方向上延伸形成的多個(gè)第一透明電極圖案33；與第一透明電極圖案33電性絕緣，包含在與第一方向交叉的方向上延伸形成的多個(gè)墊部分的多個(gè)第二透明電極圖案34；使第一透明電極圖案33與第二透明電極圖案34電性絕緣的絕緣層35。第一透明電極圖案33、第二透明電極圖案34、以及后述的導(dǎo)電性要素36例如可由金屬膜來(lái)制作。作為此種金屬膜，可列舉：氧化銦錫(IndiumTinOxide，ITO)膜；氧化銦鋅(IndiumZincOxide，IZO)膜；Al、Cu、Ag、Ti、Mo、這些的合金等的金屬膜；SiO2等的金屬氧化膜等。此時(shí)，各要素的膜厚可設(shè)為10nm～200nm。另外，還可通過(guò)煅燒使非晶體的ITO膜結(jié)晶化而成為多晶的ITO膜，從而減低電阻。另外，第一透明電極圖案33、第二透明電極圖案34、以及后述的導(dǎo)電性要素36還可使用具有使用導(dǎo)電性纖維的感光性樹(shù)脂組合物的感光性轉(zhuǎn)印材料來(lái)制造。此外，在通過(guò)ITO等形成第一導(dǎo)電性圖案等的情況下，可參照日本專利第4506785號(hào)公報(bào)的段落0014～段落0016等，將其內(nèi)容并入至本說(shuō)明書中。另外，第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34的至少一個(gè)可跨及前面板31的非接觸面及邊框?qū)?2的與前面板31為相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置。在圖4中表示跨及前面板31的非接觸面及邊框?qū)?2的與前面板31為相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置有第二透明電極圖案的圖。使用圖6對(duì)第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34加以說(shuō)明。圖6是表示第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說(shuō)明圖。如圖6所示，第一透明電極圖案33是墊部分33a經(jīng)由連接部分33b在第一方向上延伸而形成。另外，第二透明電極圖案34通過(guò)絕緣層35而與第一透明電極圖案33電性絕緣，且包含在與第一方向交叉的方向(圖6中的第二方向)上延伸而形成的多個(gè)墊部分。此處，當(dāng)形成第一透明電極圖案33時(shí)，可使墊部分33a與連接部分33b成為一體而制作，也可僅僅制作連接部分33b，使墊部分33a與第二透明電極圖案34成為一體而制作(圖案化)。在使墊部分33a與第二透明電極圖案34成為一體而制作(圖案化)的情況下，如圖6所示般將連接部分33b的一部分與墊部分33a的一部分連結(jié)，且以由絕緣層35使第一透明電極圖案33與第二透明電極圖案34電性絕緣的方式而形成各層。在圖4中，在邊框?qū)?2的與前面板31為相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置有導(dǎo)電性要素36。導(dǎo)電性要素36是與第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34的至少一個(gè)電性連接、且與第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34為不同的要素。在圖4中表示導(dǎo)電性要素36與第二透明電極圖案34連接的圖。另外，在圖4中，以覆蓋各構(gòu)成要素的全部的方式設(shè)置有透明保護(hù)層37。也可以僅覆蓋各構(gòu)成要素的一部分的方式構(gòu)成透明保護(hù)層37。絕緣層35與透明保護(hù)層37可為同一材料，也可為不同的材料。靜電電容方式的觸摸屏及具備靜電電容方式的觸摸屏作為構(gòu)成要素的觸摸屏顯示裝置可應(yīng)用《最新觸摸屏技術(shù)》(2009年7月6日發(fā)行，技術(shù)時(shí)代(TechnoTimes)(股))、三谷雄二主編，《觸摸屏的技術(shù)與開(kāi)發(fā)》、CMC出版(2004，12)，《2009年國(guó)際平板顯示器展會(huì)(FPDInternational2009Forum)T-11講座教材》，《賽普拉斯半導(dǎo)體公司(CypressSemiconductorCorporation)應(yīng)用注解(applicationnote)AN2292》等中所揭示的構(gòu)成。本發(fā)明的觸摸屏例如可如以下般制造。即，可經(jīng)由以下步驟制造：步驟1，以與ITO電極相接的方式，通過(guò)噴墨涂布方式等各種方法涂布本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物；步驟2，在所述涂布于ITO電極的感光性樹(shù)脂組合物上載置具有既定形狀的開(kāi)口圖案的掩模并進(jìn)行活性能量線照射而曝光；步驟3，對(duì)曝光后的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行顯影；以及步驟4，對(duì)顯影后的感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行加熱。在步驟1中，當(dāng)以與ITO電極相接的方式涂布感光性樹(shù)脂組合物時(shí)，只要經(jīng)涂布的本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物的至少一部分與ITO電極相接即可。步驟2可與上文所述的曝光步驟同樣地進(jìn)行，優(yōu)選形態(tài)也相同。步驟3可與上文所述的顯影步驟同樣地進(jìn)行，優(yōu)選形態(tài)也相同。步驟4可與上文所述的后烘烤步驟同樣地進(jìn)行，優(yōu)選形態(tài)也相同。另外，作為本發(fā)明的觸摸屏中的ITO電極圖案的一例，可優(yōu)選地列舉所述圖6所示的圖案。另外，圖7表示具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。例如，本發(fā)明的硬化膜適宜用于圖7中的各層間的保護(hù)膜，另外，還適宜用于使觸摸屏的檢測(cè)電極間隔開(kāi)的層間絕緣膜。再者，作為觸摸屏的檢測(cè)電極，優(yōu)選為透明電極(氧化銦錫(IndiumTinOxide，ITO)及氧化銦鋅(IndiumZincOxide，IZO)等)及金屬電極(銀、銅、鉬、鈦、鋁等，以及這些金屬的層疊體及合金等)、或這些電極的層疊體。在圖7中，110表示像素基板，140表示液晶層，120表示對(duì)向基板，130表示傳感器部。像素基板110自圖7的下側(cè)依序具有偏光板111、透明基板112、共用電極113、絕緣層114、像素電極115、取向膜116。對(duì)向基板120自圖7的下側(cè)依序具有取向膜121、彩色濾光片122、透明基板123。傳感器部130分別具有相位差膜124、接著層126、偏光板127。另外，圖7中，125為傳感器用檢測(cè)電極。本發(fā)明的硬化膜可用于像素基板部分的絕緣層(114)(也稱為層間絕緣膜)或各種保護(hù)膜(未圖示)、像素基板部分的各種保護(hù)膜(未圖示)、對(duì)向基板部分的各種保護(hù)膜(未圖示)、傳感器部分的各種保護(hù)膜(未圖示)等。接著層126或偏光板127中可使用公知的接著層組合物。作為偏光板或接著層的具體例，可列舉日本專利特開(kāi)2014-152319號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例7、實(shí)施例13中記載的帶有接著層的偏光板，日本專利特開(kāi)2014-191005號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例3及實(shí)施例6中記載的帶有接著層的偏光板，日本專利特開(kāi)2013-100386號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例3、實(shí)施例6、實(shí)施例11及實(shí)施例14中記載的帶有接著層的偏光板，以及日本專利特開(kāi)2013-163783號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例2、實(shí)施例3及實(shí)施例4中記載的接著層。進(jìn)而，即便為靜態(tài)驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置，通過(guò)應(yīng)用本發(fā)明也可顯示設(shè)計(jì)性高的圖案。作為一例，可將本發(fā)明用作如日本專利特開(kāi)2001-125086號(hào)公報(bào)中所記載般的聚合物網(wǎng)格型液晶的絕緣膜。另外，圖8為具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的另一例的構(gòu)成概念圖。其包括：具備有薄膜晶體管(TFT)440的相當(dāng)于薄膜晶體管顯示板的下部顯示板200；與下部顯示板200相對(duì)向，在與下部顯示板200相對(duì)向的面上具備有彩色濾光片330的相當(dāng)于彩色濾光片顯示板的上部顯示板300；以及形成于下部顯示板200與上部顯示板300之間的液晶層400。液晶層400含有液晶分子(未圖示)。下部顯示板200包括第1絕緣基板210、配置于第1絕緣基板210上的薄膜晶體管(TFT)、形成于薄膜晶體管(TFT)的上表面的絕緣膜280、及配置于絕緣膜280上的像素電極290。薄膜晶體管(TFT)可包括柵極電極220、覆蓋柵極電極220的柵極絕緣膜240、半導(dǎo)體層250、歐姆接觸層260、歐姆接觸層262、源極電極270、及漏極電極272。在絕緣膜280中以薄膜晶體管(TFT)的漏極電極272露出的方式形成有接觸孔282。上部顯示板300包括：配置于第2絕緣基板310的一面上且呈矩陣狀排列的遮光構(gòu)件320、配置于第2絕緣基板310上的彩色濾光片330、及配置于遮光構(gòu)件320及彩色濾光片330上的取向膜350、以及配置于取向膜350上且與下部顯示板200的像素電極290對(duì)應(yīng)，對(duì)液晶層400施加電壓的共用電極370。在圖8所示的液晶顯示裝置中，在第2絕緣基板310的另一面配置觸摸傳感電極410、絕緣膜420、觸摸驅(qū)動(dòng)電極430、及保護(hù)膜600。如此般，在圖4所示的液晶顯示裝置的制造中，當(dāng)形成上部顯示板300時(shí)，可一并形成作為觸摸屏幕的構(gòu)成要素的傳感電極410、絕緣膜420、及觸摸驅(qū)動(dòng)電極430等。使本發(fā)明的硬化性組合物硬化而成的硬化膜尤其可適宜地用于下部顯示板200的絕緣膜280、上部顯示板300的絕緣膜420、保護(hù)膜600。[實(shí)施例]以下列舉實(shí)施例對(duì)本發(fā)明加以更具體的說(shuō)明。以下的實(shí)施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等只要不偏離本發(fā)明的主旨，則可適當(dāng)變更。因此，本發(fā)明的范圍不限定于以下所示的具體例。再者，只要無(wú)特別說(shuō)明，則“份”、“％”為質(zhì)量基準(zhǔn)。＜二羧酰二氯的合成＞在具備溫度計(jì)、攪拌機(jī)、氮?dú)鈱?dǎo)入管的三口燒瓶中添加27.55g(0.160mol)的1,4-環(huán)己烷二羧酸(順式-、反式-混合物，東京化成工業(yè)(股)制造)與64.28g的N-甲基-2-吡咯烷酮(N-methyl-2-pyrrolidone，NMP)，在室溫下滴加亞硫酰氯38.07g(0.320mol)。滴加結(jié)束后，在室溫下攪拌1小時(shí)，并在減壓下蒸餾去除過(guò)量的亞硫酰氯，由此以30質(zhì)量％NMP溶液的形式獲得1,4-環(huán)己烷二羧酰二氯(順式-、反式-混合物)。其他二羧酰二氯也通過(guò)同樣的方法合成，并以30質(zhì)量％NMP溶液的形式獲得。＜聚苯并噁唑(polybenzoxazole，PBO)前體A-1的合成＞在具備溫度計(jì)、攪拌器、氮?dú)鈱?dǎo)入管的三口燒瓶中添加73.25g(0.200mol)的六氟-2,2-雙(3-氨基-4-羥基苯基)丙烷(Bis-AP-AF，中央硝子(CentralGlass)(股)制造)、31.64g(0.400mol)的吡啶及293g的NMP。在室溫下對(duì)所述溶液進(jìn)行攪拌，繼而利用干冰/甲醇浴冷卻至-15℃。在所述溶液中，一面將反應(yīng)溫度維持為-5℃～-15℃，一面滴加30.11g(0.144mol)的1,4-環(huán)己烷二羧酰二氯的30質(zhì)量％NMP溶液與3.83g(0.016mol)的癸二酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、96.25g的NMP的混合溶液。滴加結(jié)束后，將所得的混合物在室溫下攪拌16小時(shí)。繼而，利用冰/甲醇浴將所述反應(yīng)液冷卻至-5℃以下，一面將反應(yīng)溫度維持為-0℃以下，一面滴加丁酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)9.59g(0.090mol)與34.5g的NMP的混合液。在滴加結(jié)束后進(jìn)而攪拌16小時(shí)。利用NMP550g對(duì)所述反應(yīng)液進(jìn)行稀釋，并投入至經(jīng)劇烈攪拌的4L的脫離子/甲醇(80/20體積比)混合物中，通過(guò)過(guò)濾將所析出的白色粉體回收，然后利用脫離子水進(jìn)行清洗。在真空下使聚合物在50℃下干燥兩天，從而獲得樹(shù)脂A-1a。在500mL茄形燒瓶中添加25.00g的樹(shù)脂A-1a、125g的NMP與125g的甲基乙基酮，并在60℃下進(jìn)行減壓濃縮直至內(nèi)容物成為160g為止。在其中添加0.43g(1.85mmol)的樟腦磺酸(東京化成工業(yè)(股)制造)與5.12g(0.065mmol)的2,3-二氫呋喃(和光純藥工業(yè)(股)制造)，并在室溫下攪拌1.5小時(shí)。在所得的溶液中加入三乙胺0.37g與NMP150g來(lái)進(jìn)行稀釋。將所得的溶液投入至經(jīng)劇烈攪拌的2L的脫離子水/甲醇(80/20體積比)混合物中，通過(guò)過(guò)濾將所析出的白色粉體回收，然后利用脫離子水進(jìn)行清洗。在真空下使聚合物在50℃下干燥兩天，從而獲得聚苯并噁唑(PBO)前體A-1。所得的PBO前體A-1的重量平均分子量為2.9萬(wàn)(凝膠滲透色譜法的聚苯乙烯換算值)。相對(duì)于A-1a的總羥基量(摩爾量)，所得的PBO前體A-1的羥基保護(hù)率為30％(1H-NMR)。以下示出PBO前體A-1的結(jié)構(gòu)。再者，式中，nPr表示正丙基。[化26]＜聚苯并噁唑前體A-2～聚苯并噁唑前體A-62、聚苯并噁唑前體R-1～聚苯并噁唑前體R-9的合成＞使用下述表中所示的原料，仿照PBO前體A-1的合成方法合成PBO前體A-2～PBO前體A-62、PBO前體R-1～PBO前體R-9。再者，表中的比率為摩爾比。＜聚苯并噁唑前體A-63的合成＞在具備溫度計(jì)、攪拌器、氮?dú)鈱?dǎo)入管的三口燒瓶中添加82.41g(0.225mol)的六氟-2,2-雙(3-氨基-4-羥基苯基)丙烷(Bis-AP-AF，中央硝子(股)制造)、330g的NMP。在40℃下對(duì)所述溶液進(jìn)行攪拌，繼而利用冰浴冷卻至3℃。在所述溶液中，一面將反應(yīng)溫度維持為0℃～10℃，一面以4小時(shí)同時(shí)滴加29.64g(0.142mol)的1,4-環(huán)己烷二羧酰二氯、14.53g(0.0607mol)的癸二酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、0.487g(0.00620mol)的乙酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、115.69g的NMP的混合溶液、以及32.53g(0.411mol)的吡啶(和光純藥工業(yè)(股)制造)與84.70g的NMP的混合液。滴加結(jié)束后，利用THF(5.00g)對(duì)反應(yīng)液(0.05g)進(jìn)行稀釋并進(jìn)行GPC測(cè)定，結(jié)果重量平均分子量為2.0萬(wàn)(聚苯乙烯換算值)。繼而，在所述溶液中，一面將反應(yīng)溫度維持為0℃～10℃，一面以10分鐘同時(shí)滴加1.65g(0.00789mol)的1,4-環(huán)己烷二羧酰二氯、0.807g(0.00338mol)的癸二酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、0.0271g(0.000345mol)的乙酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、6.43g的NMP的混合溶液、以及1.81g(0.0229mol)的吡啶(和光純藥工業(yè)(股)制造)與4.71g的NMP的混合液。繼而，一面將所述反應(yīng)液維持為0℃～10℃，一面滴加乙酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)1.64g(0.0208mol)與1.65g(0.0208mol)的吡啶。在滴加結(jié)束后進(jìn)而攪拌1小時(shí)，去除冰欲而升溫至室溫。利用300g的異丙醇對(duì)所述反應(yīng)液進(jìn)行稀釋，并與2800g的水同時(shí)投入至經(jīng)劇烈攪拌的600g的脫離子水/異丙醇(80/20體積比)混合物中，通過(guò)過(guò)濾將所析出的白色粉體回收，然后利用脫離子水/異丙醇進(jìn)行清洗。在真空下使聚合物在50℃下干燥兩天，從而獲得樹(shù)脂A-63a。在茄形燒瓶中添加25.00g的樹(shù)脂A-63a、225g的THF，在氮?dú)饬飨陆?0℃的水浴中，并進(jìn)行濃縮直至成為83g為止。在其中添加167g的THF并進(jìn)行濃縮直至成為83g為止。在其中添加42g的THF與0.24g(0.00103mol)的(+)-10-樟腦磺酸(東京化成工業(yè)(股)制造)，在室溫下使之溶解后冷卻至15℃。在其中添加2.35g(0.0335mol)的2,3-二氫呋喃(和光純藥工業(yè)(股)制造)，在15℃下攪拌1小時(shí)。測(cè)定所得的溶液的1H-NMR，結(jié)果保護(hù)率為25％。在其中添加0.25g的2,3-二氫呋喃(和光純藥工業(yè)(股)制造)，在15℃下攪拌1小時(shí)。在所得的溶液中添加三乙胺0.16g與THF0.80g來(lái)進(jìn)行驟冷(quench)。將所得的溶液移至三口燒瓶中，添加2-丁酮60g、乙酸乙酯60g、水90g。將所述混合液在60℃下攪拌10分鐘后移至分液漏斗，將下層去除后移液至三口燒瓶。在其中添加2-丁酮20g與水90g。將所述混合液在60℃下攪拌10分鐘后移至分液漏斗，靜置一晚后將下層去除。將殘留的上層80g移至茄形燒瓶，添加二乙二醇乙基甲基醚(東京化成工業(yè)(股)制造)11g與乙酸乙酯32g，在50℃下進(jìn)行1小時(shí)減壓濃縮。在其中追加乙酸乙酯32g，進(jìn)而進(jìn)行30分鐘減壓濃縮。其后，升溫至70℃而進(jìn)行2小時(shí)減壓濃縮，然后冷卻至室溫。在其中添加二乙二醇乙基甲基醚(東京化成工業(yè)(股)制造)3.0g，由此獲得PBO前體A-63的二乙二醇乙基甲基醚30質(zhì)量％溶液。所得的PBO前體A-63的重量平均分子量為2.3萬(wàn)(凝膠滲透色譜法的聚苯乙烯換算值)，分散度(Mw/Mn)為2.1。相對(duì)于A-63a的總羥基量(摩爾量)，所得的PBO前體A-63的羥基保護(hù)率為27％(1H-NMR)。＜聚苯并噁唑前體A-64的合成＞在具備溫度計(jì)、攪拌器、氮?dú)鈱?dǎo)入管的三口燒瓶中添加82.41g(0.225mol)的六氟-2,2-雙(3-氨基-4-羥基苯基)丙烷(Bis-AP-AF，中央硝子(股)制造)、330g的NMP。在40℃下對(duì)所述溶液進(jìn)行攪拌，繼而利用冰浴冷卻至3℃。在所述溶液中，一面將反應(yīng)溫度維持為0℃～10℃，一面以4小時(shí)同時(shí)滴加31.29g(0.150mol)的1,4-環(huán)己烷二羧酰二氯、15.34g(0.0641mol)的癸二酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、0.514g(0.00655mol)的乙酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)、122.12g的NMP的混合溶液、以及37.24g(0.471mol)的吡啶(和光純藥工業(yè)(股)制造)與89.41g的NMP的混合液。繼而，一面將所述反應(yīng)液維持為0℃～10℃，一面滴加乙酰氯(東京化成工業(yè)(股)制造)1.64g(0.0208mol)與1.65g(0.0208mol)的吡啶。在滴加結(jié)束后進(jìn)而攪拌1小時(shí)，去除冰欲而升溫至室溫。利用300g的異丙醇對(duì)所述反應(yīng)液進(jìn)行稀釋，并與2800g的水同時(shí)投入至經(jīng)劇烈攪拌的600g的脫離子水/異丙醇(80/20體積比)混合物中，通過(guò)過(guò)濾將所析出的白色粉體回收，然后利用脫離子水/異丙醇進(jìn)行清洗。在真空下使聚合物在50℃下干燥兩天，從而獲得樹(shù)脂A-64a。在茄形燒瓶中添加25.00g的樹(shù)脂A-64a、225g的THF，在氮?dú)饬飨陆?0℃的水浴中，進(jìn)行濃縮直至成為83g為止。在其中添加167g的THF并進(jìn)行濃縮直至成為83g為止。在其中添加42g的THF與0.24g(0.00103mol)的(+)-10-樟腦磺酸(東京化成工業(yè)(股)制造)，在室溫下使之溶解后冷卻至15℃。在其中添加2.60g(0.0371mol)的2,3-二氫呋喃(和光純藥工業(yè)(股)制造)，在15℃下攪拌1小時(shí)。在所得的溶液中添加三乙胺0.16g與THF0.80g來(lái)進(jìn)行驟冷。將所得的溶液移至三口燒瓶中，在60g中添加2-丁酮60g、乙酸乙酯60g、水90g。將所述混合液在60℃下攪拌10分鐘后移至分液漏斗，將下層去除后移液至三口燒瓶。在其中添加2-丁酮20g與水90g。將所述混合液在60℃下攪拌10分鐘后移至分液漏斗，靜置一晚后將下層去除。將殘留的上層80g移至茄形燒瓶，添加二乙二醇乙基甲基醚(東京化成工業(yè)(股)制造)11g與乙酸乙酯32g，在50℃下進(jìn)行1小時(shí)減壓濃縮。在其中追加乙酸乙酯32g，進(jìn)而進(jìn)行30分鐘減壓濃縮。其后，升溫至70℃而進(jìn)行2小時(shí)減壓濃縮，然后冷卻至室溫。在其中添加二乙二醇乙基甲基醚(東京化成工業(yè)(股)制造)3.0g，由此獲得PBO前體A-64的二乙二醇乙基甲基醚30質(zhì)量％溶液。所得的PBO前體A-64的重量平均分子量為2.3萬(wàn)(凝膠滲透色譜法的聚苯乙烯換算值)，分散度(Mw/Mn)為2.1。相對(duì)于A-64a的總羥基量(摩爾量)，所得的PBO前體A-64的羥基保護(hù)率為27％(1H-NMR)。＜聚苯并噁唑前體A-65～聚苯并噁唑前體A-87的合成＞使用下述表中所示的原料，仿照PBO前體A-63的合成方法合成PBO前體A-65～PBO前體A-87。再者，表中的比率為摩爾比。表中，Bis-AP-AFP、AHS、AHF、HAB為以下結(jié)構(gòu)的化合物。[化27]＜感光性樹(shù)脂組合物的制備＞(實(shí)施例1～實(shí)施例60、實(shí)施例63～實(shí)施例66、實(shí)施例68、實(shí)施例69、比較例1～比較例9)將下述表中所示的聚苯并噁唑前體100質(zhì)量份、下述表中所示的光酸產(chǎn)生劑3質(zhì)量份、下述表中所示的密接改良劑3質(zhì)量份、下述表中所示的表面活性劑0.2質(zhì)量份、以及溶劑400質(zhì)量份混合，利用孔徑0.2μm的聚四氟乙烯制過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，從而獲得各感光性樹(shù)脂組合物。表中的未特別附加單位的數(shù)值為質(zhì)量份。再者，實(shí)施例1～實(shí)施例60、實(shí)施例63～實(shí)施例66是使用N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)作為溶劑。另外，實(shí)施例68是使用γ-丁內(nèi)酯(gamma-butyrolactone，GBL)作為溶劑。另外，實(shí)施例69是使用二乙二醇乙基甲基醚(MEDG)作為溶劑。(實(shí)施例61、實(shí)施例62)將下述表中所示的聚苯并噁唑前體100質(zhì)量份、下述表中所示的光酸產(chǎn)生劑3質(zhì)量份、下述表中所示的增感劑1質(zhì)量份、下述表中所示的密接改良劑3質(zhì)量份、下述表中所示的表面活性劑0.2質(zhì)量份、以及作為溶劑的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)400質(zhì)量份混合，利用孔徑0.2μm的聚四氟乙烯制過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，從而獲得感光性樹(shù)脂組合物。表中的未特別附加單位的數(shù)值為質(zhì)量份。(實(shí)施例67)將下述表中所示的聚苯并噁唑前體100質(zhì)量份、下述表中所示的光酸產(chǎn)生劑(B-7)25質(zhì)量份、下述表中所示的密接改良劑3質(zhì)量份、下述表中所示的表面活性劑0.2質(zhì)量份、以及作為溶劑的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)400質(zhì)量份混合，利用孔徑0.2μm的聚四氟乙烯制過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，從而獲得感光性樹(shù)脂組合物。表中的未特別附加單位的數(shù)值為質(zhì)量份。(實(shí)施例70～實(shí)施例105)將下述表5中所示的聚苯并噁唑前體、光酸產(chǎn)生劑、增感劑、表面活性劑、其他添加劑、以及溶劑加以混合、攪拌、溶解而制成均勻的溶液，利用孔徑0.4μm的聚乙烯制過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，進(jìn)而利用孔徑0.1μm的聚四氟乙烯制過(guò)濾器進(jìn)行過(guò)濾，從而獲得感光性樹(shù)脂組合物。再者，以聚苯并噁唑前體的固體成分成為下述表5中記載的量(質(zhì)量份)的方式，添加所述合成例中所得的聚苯并噁唑前體溶液。另外，表中的量為質(zhì)量份。[表5]＜溶劑溶解性＞在100mL量杯中加入γ-丁內(nèi)酯(50.0g)，利用攪拌翼進(jìn)行攪拌。在其中添加聚苯并噁唑前體(0.50g)，以目視確認(rèn)溶解舉動(dòng)。越迅速地溶解越佳，A、B、C為實(shí)用范圍。A：在25℃下，在10分鐘以內(nèi)溶解。B：在25℃下，在超過(guò)10分鐘且1小時(shí)以內(nèi)溶解。C：在25℃下，歷經(jīng)1小時(shí)而未完全溶解，但在50℃下，歷經(jīng)1小時(shí)溶解。D：在50℃下，歷經(jīng)1小時(shí)仍稍微具有不溶物。E：在50℃下，歷經(jīng)1小時(shí)仍產(chǎn)生白濁，或幾乎不溶解。＜耐光性＞在玻璃基板(康寧(Corning)1737，0.7mm厚(康寧(Corning)公司制造))上狹縫涂布各感光性樹(shù)脂組合物后，在100℃下在熱板上進(jìn)行90秒預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為3.0μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，將所述基板在烘箱中以300℃在氮?dú)猸h(huán)境下加熱60分鐘而獲得硬化膜。對(duì)所得的硬化膜進(jìn)行膜厚測(cè)定后，在30℃、濕度50％的環(huán)境下，利用180W/m2的氙弧燈(xenonarclamp)進(jìn)行70小時(shí)照射。對(duì)照射前的膜厚與照射后的膜厚進(jìn)行比較，以百分率表述所減少的比例。數(shù)值越小則硬化膜的耐光性越良好，A、B、C為實(shí)用范圍。膜厚減少率(％)＝100-(照射后的膜厚(μm)/照射前的膜厚(μm)×100)A：膜厚減少率小于3％B：膜厚減少率為3％以上且小于5％C：膜厚減少率為5％以上且小于7％D：膜厚減少率為7％以上且小于9％E：膜厚減少率為9％以上＜耐化學(xué)品性＞在玻璃基板(康寧(Corning)1737，0.7mm厚(康寧(Corning)公司制造))上狹縫涂布各感光性樹(shù)脂組合物后，在100℃下在熱板上進(jìn)行90秒預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為3.0μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，將所述基板在烘箱中以300℃在氮?dú)猸h(huán)境下加熱60分鐘而獲得硬化膜。對(duì)所得的硬化膜進(jìn)行膜厚測(cè)定后，在室溫下在N-甲基-2-吡咯烷酮中浸漬15分鐘，將所述膜取出而去除表面的液體，并立即測(cè)定膜厚。對(duì)浸漬前的膜厚與浸漬后的膜厚進(jìn)行比較，以百分率表述所增加的比例。除硬化膜溶解的情況以外，數(shù)值越小則硬化膜的NMP耐性越良好，A、B、C為實(shí)用范圍。膨潤(rùn)率(％)＝浸漬后的膜厚(μm)/浸漬前的膜厚(μm)×100A：膨潤(rùn)率為100％以上且小于103％B：膨潤(rùn)率為103％以上且小于106％C：膨潤(rùn)率為106％以上且小于109％D：膨潤(rùn)率為109％以上且小于112％E：膨潤(rùn)率為112％以上，或膨潤(rùn)率小于100％＜感度＞在利用六甲基二硅氮烷蒸氣進(jìn)行了1分鐘表面處理的玻璃基板(1100mm×1300mm尺寸，0.7mm厚，康寧(Corning)公司制造)上，利用SK-N1300G(大日本屏幕)狹縫涂布各感光性樹(shù)脂組合物后，減壓至0.266kPa(2.0Torr)，并在100℃下在熱板上進(jìn)行90秒預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為3.0μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，使用佳能(Canon)(股)制造的MPAsp-H760曝光機(jī)，以5.0μm孔圖案對(duì)所得的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行曝光。在80℃下在熱板上進(jìn)行90秒加熱后，利用堿性顯影液(0.6質(zhì)量％的氫氧化四甲基銨水溶液)進(jìn)行顯影(25℃、70秒)，并利用超純水淋洗30秒。將由此形成有下底直徑為5.0μm的孔圖案的曝光量設(shè)為感度。必要曝光量越少(越為高感度)越佳，A、B、C為實(shí)用范圍。A：必要曝光量小于100mJ/cm2B：必要曝光量為100mJ/cm2以上且小于150mJ/cm2C：必要曝光量為150mJ/cm2以上且小于200mJ/cm2D：必要曝光量為200mJ/cm2以上且小于250mJ/cm2E：必要曝光量為250mJ/cm2以上＜透過(guò)率＞將玻璃基板(OA-10(日本電氣硝子公司制造))暴露于六甲基二硅氮烷(HMDS)蒸氣下30秒，并在狹縫涂布各感光性樹(shù)脂組合物后通過(guò)真空干燥(vacuumdry)使溶劑揮發(fā)，然后在120℃下在熱板上進(jìn)行120秒預(yù)烘烤，形成膜厚為2.0μm的感光性樹(shù)脂組合物層。接著，使用超高壓水銀燈，以累積照射量成為300mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2)的方式進(jìn)行曝光，并將所述基板在烘箱中在氮?dú)猸h(huán)境下以300℃加熱60分鐘，從而獲得硬化膜。使用分光光度計(jì)(U-3000：日立制作所(股)制造)，在波長(zhǎng)400nm下對(duì)所得的硬化膜的透過(guò)率進(jìn)行測(cè)定。單位以％表示。A、B及C為實(shí)用水平。A：透過(guò)率為90％以上B：透過(guò)率為85％以上且小于90％C：透過(guò)率為80％以上且小于85％D：透過(guò)率為75％以上且小于80％E：透過(guò)率小于75％[表6][表7][表8]根據(jù)所述結(jié)果，實(shí)施例的感光性樹(shù)脂組合物的溶劑溶解性、耐光性、耐化學(xué)品性良好，均滿足實(shí)用水平。另一方面，比較例的感光性樹(shù)脂組合物的溶劑溶解性、耐光性、耐化學(xué)品性的至少一個(gè)不滿足實(shí)用水平。表示實(shí)施例及比較例中所用的各化合物的簡(jiǎn)稱的詳細(xì)情況如下。(光酸產(chǎn)生劑)B-1：下述所示的結(jié)構(gòu)(PAG-103，巴斯夫(BASF)公司制造)[化28]B-2：下述所示的結(jié)構(gòu)(PAI-101，綠(midori)化學(xué)公司制造)，Me表示甲基。[化29]B-3：下述所示的結(jié)構(gòu)(合成例將后述)[化30]B-4：下述所示的結(jié)構(gòu)(合成例將后述)，Ts表示甲苯磺?；?。[化31]B-5：下述所示的結(jié)構(gòu)(合成例將后述)[化32]B-6：下述所示的結(jié)構(gòu)(GSID-26-1，三芳基锍鹽(巴斯夫(BASF)公司制造))[化33]B-7：TAS-200(萘醌二疊氮，東洋合成工業(yè)(股)制造)(增感劑)DBA：9,10-二丁氧基蒽(川崎化成公司制造)(表面活性劑)F-554：下述結(jié)構(gòu)式所示的含有全氟烷基的非離子表面活性劑(F-554，迪愛(ài)生(DIC)制造)[化34](密接改良劑)KBM-403：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷(KBM-403，信越化學(xué)公司制造)KBM-303：2-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷(KBM-303，信越化學(xué)公司制造)KBE-403：3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷(KBE-403，信越化學(xué)公司制造)(溶劑)NMP：N-甲基-2-吡咯烷酮GBL：γ-丁內(nèi)酯MEDG：二乙二醇乙基甲基醚PGMEA：丙二醇單甲醚乙酸酯(其他添加劑)EX-321L：環(huán)氧交聯(lián)劑(代那考爾(Denacol)EX-321L，長(zhǎng)瀨化成(NagaseChemtex)公司制造)Mx-270：含有烷氧基甲基的交聯(lián)劑(尼卡萊克(Nikalac)Mx-270，旭化成化學(xué)公司制造)DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(卡亞拉得(KAYARAD)DPHA，日本化藥公司制造)偏苯三甲酸：偏苯三甲酸(東京化成工業(yè)制造)丙烯酸系聚合物1：甲基丙烯酸/甲基丙烯酸縮水甘油酯/甲基丙烯酸二環(huán)戊酯/苯乙烯＝35：40：15：10(摩爾比)的共聚物(Mw：12000)AO-60：艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60(艾迪科(ADEKA)制造)PEP-36：艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-36(艾迪科(ADEKA)制造)1035：艷諾斯(Irganox)1035(巴斯夫(BASF)公司制造)《B-3的合成》在2-萘酚(10g)、氯苯(30mL)的懸浮溶液中添加氯化鋁(10.6g)、2-氯丙酰氯(10.1g)，將混合液加熱至40℃并反應(yīng)2小時(shí)。在冰浴冷卻下，在反應(yīng)液中滴加4N的HCl水溶液(60mL)，添加乙酸乙酯(50mL)進(jìn)行分液。在有機(jī)層中添加碳酸鉀(19.2g)，在40℃下反應(yīng)1小時(shí)后，添加2N的HCl水溶液(60mL)進(jìn)行分液，將有機(jī)層濃縮后，利用二異丙醚(10mL)將結(jié)晶再制漿，進(jìn)行過(guò)濾、干燥而獲得酮化合物(6.5g)。在所得的酮化合物(3.0g)、甲醇(30mL)的懸浮溶液中添加乙酸(7.3g)、50質(zhì)量％羥基胺水溶液(8.0g)，進(jìn)行加熱回流。放置冷卻后，添加水(50mL)，將析出的結(jié)晶過(guò)濾，進(jìn)行冷甲醇清洗后加以干燥，獲得肟化合物(2.4g)。使所得的肟化合物(1.8g)溶解于丙酮(20mL)中，在冰浴冷卻下添加三乙胺(1.5g)、對(duì)甲苯磺酰氯(2.4g)，升溫至室溫并反應(yīng)1小時(shí)。在反應(yīng)液中添加水(50mL)，將析出的結(jié)晶過(guò)濾后，利用甲醇(20mL)進(jìn)行再制漿，進(jìn)行過(guò)濾、干燥而獲得B-3的化合物(所述結(jié)構(gòu))(2.3g)。再者，B-3的1H-NMR光譜(300MHz,CDCl3)為δ＝8.3(d,1H),8.0(d,2H),7.9(d,1H),7.8(d,1H),7.6(dd,1H),7.4(dd,1H)7.3(d,2H),7.1(d.1H),5.6(q,1H),2.4(s,3H),1.7(d,3H)。《B-4的合成》使1-氨基-2-萘酚鹽酸鹽(東京化成制造)4.0g懸浮于N-甲基吡咯烷酮(和光純藥工業(yè)(股)制造)16g中，添加碳酸氫鈉(和光純藥工業(yè)(股)制造)3.4g后，滴加4,4-二甲基-3-氧代戊酸甲酯(和光純藥工業(yè)(股)制造)4.9g，并在氮?dú)猸h(huán)境下以120℃加熱2小時(shí)。放置冷卻后，將水、乙酸乙酯添加至反應(yīng)混合液中并進(jìn)行分液，利用硫酸鎂對(duì)有機(jī)相進(jìn)行干燥，并進(jìn)行過(guò)濾、濃縮而獲得粗制B-1-2A。對(duì)粗制B-1-2A進(jìn)行硅膠管柱色譜精制，從而獲得1.7g中間物B-1-2A。將B-1-2A(1.7g)與對(duì)二甲苯(6mL)混合，添加對(duì)甲苯磺酸一水合物(和光純藥工業(yè)(股)制造)0.23g并以140℃加熱2小時(shí)。放置冷卻后，將水、乙酸乙酯添加至反應(yīng)混合液中而進(jìn)行分液，利用硫酸鎂對(duì)有機(jī)相進(jìn)行干燥后，進(jìn)行過(guò)濾、濃縮而獲得粗制B-1-2B。將四氫呋喃(THF)(2mL)與粗制B-1-2B的總量混合，在冰浴冷卻下滴加2M鹽酸/THF溶液6.0mL，繼而滴加亞硝酸異戊酯(和光純藥工業(yè)(股)制造)(0.84g)，升溫至室溫為止后攪拌2小時(shí)。將水、乙酸乙酯添加至所得的反應(yīng)混合物中而進(jìn)行分液，利用水對(duì)有機(jī)層進(jìn)行清洗后，利用硫酸鎂進(jìn)行干燥，并進(jìn)行過(guò)濾、濃縮而獲得中間物粗制B-1-2C。將中間物粗制B-1-2C的總量與丙酮(10mL)混合，在冰浴冷卻下添加三乙胺(和光純藥工業(yè)(股)制造)(1.2g)、對(duì)甲苯磺酰氯(東京化成制造)(1.4g)后，升溫至室溫并攪拌1小時(shí)。將水、乙酸乙酯添加至所得的反應(yīng)混合液中而進(jìn)行分液，利用硫酸鎂對(duì)有機(jī)相進(jìn)行干燥后，進(jìn)行過(guò)濾、濃縮而獲得粗制B-4。利用冷甲醇對(duì)粗制B-4進(jìn)行再制漿后，進(jìn)行過(guò)濾、干燥而獲得B-4(1.2g)。再者，B-4的1H-NMR光譜(300MHz,CDCl3)為δ＝8.5-8.4(m,1H),8.0-7.9(m,4H),7.7-7.6(m,2H),7.6-7.5(m,1H),7.4(d.2H),2.4(s,3H),1.4(s,9H)?！禕-5的合成》在安裝有攪拌器及溫度計(jì)的可分離式燒瓶中裝入N-羥基萘二甲酰亞胺鈉鹽33.6g、4-二甲基氨基吡啶0.72g、四氫呋喃300毫升，在室溫25℃下進(jìn)行攪拌并使其溶解。繼而，添加(+)10-樟腦磺酰氯42g并攪拌3小時(shí)后，添加三乙胺15g，然后在室溫下攪拌10小時(shí)。繼而，將反應(yīng)溶液加入至蒸餾水300毫升中，過(guò)濾分離所析出的沉淀。使用丙酮與己烷對(duì)所述沉淀重復(fù)進(jìn)行多次再沉淀處理，獲得N-樟腦磺酰氧-1,8-萘二甲酰亞胺12g。＜有機(jī)EL顯示裝置的制作＞(實(shí)施例201)利用以下方法來(lái)制作使用薄膜晶體管(TFT)的有機(jī)EL顯示裝置(參照?qǐng)D3)。在玻璃基板6上形成底部柵極型的TFT1，以覆蓋所述TFT1的狀態(tài)形成包含Si3N4的絕緣膜3。繼而，在所述絕緣膜3中形成此處省略圖示的接觸孔后，將經(jīng)由所述接觸孔而連接于TFT1的配線2(高度為1.0μm)形成于絕緣膜3上。所述配線2為用以將TFT1間連接或?qū)⒑罄m(xù)步驟中形成的有機(jī)EL元件與TFT1連接的配線。進(jìn)而，為了使因形成配線2所致的凹凸平坦化，以填埋由配線2所致的凹凸的狀態(tài)在絕緣膜3上形成平坦化膜4。在絕緣膜3上的平坦化膜4的形成是將實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物旋轉(zhuǎn)涂布于基板上，在熱板上進(jìn)行預(yù)烘烤(90℃/120秒)后，自掩模上方使用高壓水銀燈照射45mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2)的i射線(365nm)后，在90℃的熱板上以90℃進(jìn)行120秒的加熱處理，然后利用堿性水溶液(0.4％的TMAH水溶液)進(jìn)行顯影而形成圖案，使用超高壓水銀燈以累計(jì)照射量成為300mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2，i射線)的方式進(jìn)行整面曝光，進(jìn)行300℃/60分鐘的加熱處理。涂布感光性樹(shù)脂組合物時(shí)的涂布性良好，在曝光、顯影、煅燒后所得的硬化膜中，未確認(rèn)到皺褶或龜裂的產(chǎn)生。進(jìn)而，配線2的平均階差為500nm，所制作的平坦化膜4的膜厚為2,000nm。繼而，在所得的平坦化膜4上形成底部發(fā)光型的有機(jī)EL元件。首先，在平坦化膜4上，經(jīng)由接觸孔7連接于配線2而形成包含ITO的第一電極5。其后，涂布抗蝕劑并進(jìn)行預(yù)烘烤，介隔所需圖案的掩模進(jìn)行曝光，并進(jìn)行加熱處理、顯影。將所述抗蝕劑圖案作為掩模，通過(guò)使用ITO蝕刻劑的濕式蝕刻進(jìn)行圖案加工。其后，使用抗蝕劑剝離液(去除液(Remover)100，AZ電子材料公司制造)在50℃下將所述抗蝕劑圖案剝離。如此所得的第一電極5相當(dāng)于有機(jī)EL元件的陽(yáng)極。繼而，形成覆蓋第一電極5的邊緣的形狀的絕緣膜8。關(guān)于絕緣膜8，使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，利用與所述相同的方法來(lái)形成絕緣膜8。通過(guò)設(shè)置所述絕緣膜8，可防止第一電極5與其后續(xù)步驟中形成的第二電極之間的短路。進(jìn)而，在真空蒸鍍裝置內(nèi)，介隔所需的圖案掩模依次蒸鍍?cè)O(shè)置空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層。繼而，在基板上方的整個(gè)面上形成包含Al的第二電極。將所得的所述基板自蒸鍍機(jī)中取出，使用密封用玻璃板及紫外線硬化型環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行貼合，由此進(jìn)行密封。如以上般獲得對(duì)各有機(jī)EL元件連接用以驅(qū)動(dòng)所述有機(jī)EL元件的TFT1而成的有源矩陣型的有機(jī)EL顯示裝置。經(jīng)由驅(qū)動(dòng)電路施加電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的有機(jī)EL顯示裝置。＜液晶顯示裝置的制作＞(實(shí)施例202)在日本專利第3321003號(hào)公報(bào)的圖1中記載的有源矩陣型液晶顯示裝置中，如以下般形成硬化膜17作為層間絕緣膜，獲得實(shí)施例202的液晶顯示裝置。即，使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，形成硬化膜17作為層間絕緣膜。即，作為提高日本專利第3321003號(hào)公報(bào)的0058段落的基板與層間絕緣膜17的濡濕性的前處理，將基板在六甲基二硅氮烷(HMDS)蒸氣下暴露30秒，其后，旋涂涂布實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物后，在90℃下在熱板上進(jìn)行2分鐘預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為3μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，使用佳能(Canon)(股)制造的MPA5500CF(高壓水銀燈)，介隔直徑10μm的孔圖案的掩模，以成為40mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2，i射線)的方式對(duì)所得的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行曝光。而且，在90℃下在熱板上對(duì)曝光后的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行2分鐘加熱處理后，利用堿性顯影液(0.4％的氫氧化四甲基銨水溶液)進(jìn)行23℃/60秒鐘覆液顯影，然后利用超純水淋洗20秒。接著，使用超高壓水銀燈以累計(jì)照射量成為300mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2，i射線)的方式進(jìn)行整面曝光，其后，將所述基板在烘箱中在300℃下加熱60分鐘而獲得硬化膜。涂布所述感光性樹(shù)脂組合物時(shí)的涂布性良好，在曝光、顯影、煅燒后所得的硬化膜中，未確認(rèn)到皺褶或龜裂的產(chǎn)生。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例203)在實(shí)施例202中，使用實(shí)施例60的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)代替實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，除此以外，與實(shí)施例202同樣地制作液晶顯示裝置。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例204)在實(shí)施例202中，使用實(shí)施例61的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)代替實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，除此以外，與實(shí)施例202同樣地制作液晶顯示裝置。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例205)在實(shí)施例202中，使用實(shí)施例62的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)代替實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，除此以外，與實(shí)施例202同樣地制作液晶顯示裝置。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例206)在日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的液晶顯示裝置中，利用以下的方法形成有機(jī)絕緣膜PAS而獲得液晶顯示裝置。首先，依照日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)，制作日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的液晶顯示裝置的、形成至有機(jī)絕緣膜PAS的近前為止的陣列基板。繼而，將所述基板在HMDS蒸氣下暴露30秒，其后狹縫涂布實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，然后在90℃下在熱板上進(jìn)行2分鐘預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成規(guī)定膜厚的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，使用佳能(Canon)(股)制造的MPA7800CF，介隔5μmφ的孔圖案的掩模，以最佳曝光量mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2，i射線)對(duì)所得的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行曝光，并在80℃下在熱板上進(jìn)行90秒加熱。而且，利用堿性顯影液(0.6％的氫氧化四甲基銨水溶液)對(duì)曝光后的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行顯影后，利用超純水進(jìn)行淋洗。接著，使用超高壓水銀燈以累計(jì)照射量成為300mJ/cm2(能量強(qiáng)度：20mW/cm2，以i射線計(jì)測(cè))的方式進(jìn)行整面曝光，其后，將所述基板在烘箱中在300℃下加熱60分鐘而獲得有機(jī)絕緣膜PAS。之后依照日本專利特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)而獲得液晶顯示裝置。再者，在本實(shí)施例中對(duì)PAS使用耐熱性高的材料，因此以與層間絕緣膜IN2相同的溫度制造層間絕緣膜IN3。由此可將IN3形成為致密的膜。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出非常良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例207)在實(shí)施例206中，使用實(shí)施例60的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)代替實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，除此以外，與實(shí)施例206同樣地制作液晶顯示裝置。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例208)在實(shí)施例206中，使用實(shí)施例61的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)代替實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，除此以外，與實(shí)施例206同樣地制作液晶顯示裝置。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。(實(shí)施例209)在實(shí)施例206中，使用實(shí)施例62的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)代替實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物，除此以外，與實(shí)施例206同樣地制作液晶顯示裝置。對(duì)所得的液晶顯示裝置施加驅(qū)動(dòng)電壓，結(jié)果顯示出良好的顯示特性，得知其為可靠性高的液晶顯示裝置。＜觸摸屏的制作＞(實(shí)施例210)通過(guò)以下所述的方法制作觸摸屏顯示裝置。＜第一透明電極圖案的形成＞《透明電極層的形成》將預(yù)先形成有邊框?qū)拥膹?qiáng)化處理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)的前面板導(dǎo)入至真空室內(nèi)，使用SnO2含有率為10質(zhì)量％的ITO靶(銦：錫＝95：5(摩爾比))，通過(guò)DC磁控濺射(magnetronsputtering)(條件：基材的溫度為250℃、氬壓為0.13Pa、氧壓為0.01Pa)形成厚度為40nm的ITO薄膜，獲得形成有透明電極層的前面板。ITO薄膜的表面電阻為80Ω/□。繼而，將市售的蝕刻抗蝕劑涂布于ITO上并進(jìn)行干燥，從而形成蝕刻抗蝕層。將曝光掩模(具有透明電極圖案的石英曝光掩模)面與蝕刻抗蝕層之間的距離設(shè)定為100μm，以曝光量50mJ/cm2(i射線)進(jìn)行圖案曝光后，利用顯影液進(jìn)行顯影，進(jìn)而在130℃下進(jìn)行30分鐘后烘烤處理，獲得形成有透明電極層與蝕刻用光感光性樹(shù)脂層圖案的前面板。將形成有透明電極層與蝕刻用光感光性樹(shù)脂層圖案的前面板浸漬于放有ITO蝕刻劑(鹽酸、氯化鉀水溶液；液溫為30℃)的蝕刻槽中，進(jìn)行100秒處理，將未被蝕刻抗蝕層覆蓋而露出的區(qū)域的透明電極層溶解除去，獲得附有蝕刻抗蝕層圖案且附有透明電極層圖案的前面板。繼而，將附有蝕刻抗蝕層圖案且附有透明電極層圖案的前面板浸漬于專用的抗蝕劑剝離液中，將蝕刻用光感光性樹(shù)脂層除去，獲得形成有邊框?qū)优c第一透明電極圖案的前面板。《絕緣層的形成》將實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物涂布于形成有邊框?qū)优c第一透明電極圖案的前面板上并進(jìn)行干燥(膜厚1μm，90℃、120秒)，從而獲得感光性樹(shù)脂組合物層。將曝光掩模(具有絕緣層用圖案的石英曝光掩模)面與感光性樹(shù)脂組合物層之間的距離設(shè)定為30μm，以感度評(píng)價(jià)中所求出的最佳曝光量進(jìn)行圖案曝光。繼而，在90℃下在熱板上進(jìn)行2分鐘加熱處理后，利用2.38質(zhì)量％的氫氧化四甲基銨水溶液并利用覆液法在23℃下進(jìn)行15秒鐘顯影，進(jìn)而利用超純水進(jìn)行10秒鐘淋洗。接著，在300℃下進(jìn)行60分鐘的后烘烤處理，獲得形成有邊框?qū)?、第一透明電極圖案、絕緣層圖案的前面板。＜第二透明電極圖案的形成＞《透明電極層的形成》與所述第一透明電極圖案的形成同樣地進(jìn)行，對(duì)直至形成有絕緣層圖案的前面板進(jìn)行DC磁控濺射處理(條件：基材的溫度為50℃、氬壓為0.13Pa、氧壓為0.01Pa)，形成厚度為80nm的ITO薄膜，獲得形成有透明電極層的前面板。ITO薄膜的表面電阻為110Ω/□。進(jìn)而，與第一透明電極圖案的形成同樣地進(jìn)行，通過(guò)進(jìn)行蝕刻、將蝕刻抗蝕層除去而獲得形成有邊框?qū)?、第一透明電極圖案、使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物而形成的絕緣層圖案、第二透明電極圖案的前面板。＜與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素的形成＞與所述第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的形成同樣地進(jìn)行，對(duì)形成有第一透明電極圖案、使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物而形成的絕緣層圖案、第二透明電極圖案的前面板進(jìn)行DC磁控濺射處理，獲得形成有厚度為200nm的鋁(Al)薄膜的前面板。進(jìn)而，與第一透明電極圖案的形成同樣地進(jìn)行，通過(guò)進(jìn)行蝕刻、將蝕刻抗蝕層除去而獲得形成有邊框?qū)?、第一透明電極圖案、使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物而形成的絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素的前面板。＜透明保護(hù)層的形成＞與絕緣層的形成同樣地進(jìn)行，將實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物涂布于直至形成有所述與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素的前面板上并進(jìn)行干燥(膜厚1μm，90℃、120秒)，從而獲得感光性樹(shù)脂組合物膜。進(jìn)而，進(jìn)行曝光、加熱處理、顯影、后曝光(1,000mJ/cm2)、后烘烤處理，獲得以覆蓋邊框?qū)?、第一透明電極圖案、使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物而形成的絕緣層圖案、第二透明電極圖案、與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導(dǎo)電性要素的全部的方式層疊有使用實(shí)施例3的感光性樹(shù)脂組合物而形成的絕緣層(透明保護(hù)層)的前面板。＜觸摸屏顯示裝置的制作＞在利用日本專利特開(kāi)2009-47936公報(bào)中記載的方法而制造的液晶顯示元件上貼合之前所制造的前面板，利用公知的方法制作包含靜電電容方式的觸摸屏作為構(gòu)成要素的觸摸屏顯示裝置。＜前面板及觸摸屏顯示裝置的評(píng)價(jià)＞第一透明電極圖案、第二透明電極圖案、及與這些不同的導(dǎo)電性要素的各自的導(dǎo)電性并無(wú)問(wèn)題，另一方面，在第一透明電極圖案與第二透明電極圖案之間具有絕緣性，觸摸屏可獲得良好的顯示特性。(實(shí)施例211)通過(guò)以下所述的方法制作觸摸屏顯示裝置。依照日本專利特開(kāi)2013-168125制作日本專利特開(kāi)2013-168125的圖19記載的觸摸屏顯示裝置。此時(shí)，使用實(shí)施例95的感光性樹(shù)脂組合物來(lái)制作下部顯示板1000的絕緣膜1800。另外，使用下述硬化性組合物來(lái)制作上部顯示板2000的絕緣膜1800及絕緣膜1400。(上部顯示板2000的絕緣膜1800的形成)通過(guò)噴墨涂布將所述硬化性組合物涂布于已制作出上部顯示板2000的絕緣膜1800近前的層者，并將溶劑去除而形成厚度為1.2μm的膜。在氮?dú)猸h(huán)境下利用超高壓水銀燈進(jìn)行300mJ/cm2的曝光，進(jìn)而在100℃下加熱60分鐘。也同樣地形成上部顯示板2000的絕緣膜1400。如此般制作的裝置的顯示功能、觸摸功能均為良好的性能。(實(shí)施例301)＜孔圖案形成(狹縫涂布)＞《最佳曝光量的決定》在利用六甲基二硅氮烷蒸氣進(jìn)行了1分鐘表面處理的玻璃基板(1100mm×1300mm尺寸，0.7mm厚，康寧(Corning)公司制造))上狹縫涂布實(shí)施例95的感光性樹(shù)脂組合物后，減壓至266Pa(2.0Torr)，并在100℃下在熱板上進(jìn)行90秒預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為3.0μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，使用佳能(Canon)(股)制造的MPAsp-H760曝光機(jī)，以6.0μm孔圖案對(duì)所得的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行曝光。在80℃下在熱板上進(jìn)行90秒加熱后，利用堿性顯影液(2.38質(zhì)量％的氫氧化四甲基銨水溶液)進(jìn)行覆液顯影(25℃、60秒)，并利用超純水淋洗30秒。將由此形成有下底直徑為6.0μm的孔圖案的曝光量作為最佳曝光量而求出。再者，實(shí)施例95的感光性樹(shù)脂組合物在25℃下的粘度為9mPa·s，表面張力為27mN/m?！讹@影后的孔圖案的形成》在利用六甲基二硅氮烷蒸氣進(jìn)行了1分鐘表面處理的玻璃基板(1100mm×1300mm尺寸，0.7mm厚，康寧(Corning)公司制造))上狹縫涂布實(shí)施例95的感光性樹(shù)脂組合物后，減壓至266Pa(2.0Torr)，并在100℃下在熱板上進(jìn)行90秒預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為3.0μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，使用佳能(Canon)(股)制造的MPAsp-H760曝光機(jī)，以6.0μm孔圖案并以上述中所求出的最佳曝光量對(duì)所得的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行曝光。在80℃下在熱板上進(jìn)行90秒加熱后，利用堿性顯影液(2.38質(zhì)量％的氫氧化四甲基銨水溶液)進(jìn)行覆液顯影(25℃、60秒)，并利用超純水淋洗30秒。由此形成顯影后的孔圖案?！都訜岷蟮目讏D案的形成1》將形成有所述顯影后的孔圖案的基板在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為240ppm)350℃的烘箱中加熱60分鐘。由此形成最終的孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。根據(jù)孔的剖面照片測(cè)定錐角，結(jié)果為11°?！都訜岷蟮目讏D案的形成2》利用超高壓水銀燈對(duì)形成有顯影后的孔圖案的基板進(jìn)行曝光量為210mJ/cm2的曝光后，在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為999ppm)110℃的烘箱中加熱30分鐘，然后在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為102ppm)320℃的烘箱中加熱60分鐘。由此形成最終的孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。根據(jù)孔的剖面照片測(cè)定錐角，結(jié)果為48°?！都訜岷蟮目讏D案的形成3》利用超高壓水銀燈對(duì)形成有顯影后的孔圖案的基板進(jìn)行曝光量為590mJ/cm2的曝光后，在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為490ppm)的烘箱中，以每分鐘2℃使溫度自20℃上升至370℃來(lái)進(jìn)行加熱。由此形成最終的孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。根據(jù)孔的剖面照片測(cè)定錐角，結(jié)果為72°。(實(shí)施例302)對(duì)于實(shí)施例72～實(shí)施例94、實(shí)施例96～實(shí)施例104的感光性樹(shù)脂組合物，也與實(shí)施例301同樣地形成孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。(實(shí)施例303)使用將實(shí)施例102的感光性樹(shù)脂組合物、實(shí)施例103的感光性樹(shù)脂組合物以及實(shí)施例105的感光性樹(shù)脂組合物以相同質(zhì)量份混合而成的混合組合物，與實(shí)施例301同樣地形成孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。(實(shí)施例304)使用將實(shí)施例96的感光性樹(shù)脂組合物與實(shí)施例98的感光性樹(shù)脂組合物以相同質(zhì)量份混合而成的混合組合物，與實(shí)施例301同樣地形成孔圖案。可形成美觀的圓形孔圖案。(實(shí)施例305)使用將實(shí)施例84的感光性樹(shù)脂組合物、實(shí)施例85的感光性樹(shù)脂組合物以及實(shí)施例86的感光性樹(shù)脂組合物以相同質(zhì)量份混合而成的混合組合物，與實(shí)施例301同樣地形成孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。(實(shí)施例401)＜孔圖案形成(旋轉(zhuǎn)涂布)＞《最佳曝光量的決定》在利用六甲基二硅氮烷蒸氣進(jìn)行了1分鐘表面處理的玻璃基板(300mm×400mm尺寸，1.2mm厚)上旋轉(zhuǎn)涂布實(shí)施例105的感光性樹(shù)脂組合物后，減壓至266Pa(2.0Torr)，并在100℃下在熱板上進(jìn)行90秒預(yù)烘烤而使溶劑揮發(fā)，形成膜厚為2.5μm的感光性樹(shù)脂組合物層。繼而，使用YAG激光(波長(zhǎng)355nm)，以4.0μm孔圖案對(duì)所得的感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行曝光。在80℃下在熱板上進(jìn)行120秒加熱后，利用堿性顯影液(1.5質(zhì)量％的氫氧化四甲基銨水溶液)進(jìn)行覆液顯影(23℃、60秒)，并利用超純水淋洗30秒。將由此形成有下底直徑為4.0μm的孔圖案的曝光量作為最佳曝光量而求出。再者，實(shí)施例105的感光性樹(shù)脂組合物在25℃下的粘度為30mPa·s，表面張力為27mN/m?！都訜岷蟮目讏D案的形成4》將形成有所述顯影后的孔圖案的基板在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為45ppm)290℃的烘箱中加熱90分鐘。由此形成最終的孔圖案。可形成美觀的圓形孔圖案。根據(jù)孔的剖面照片測(cè)定錐角，結(jié)果為15°?！都訜岷蟮目讏D案的形成2》利用超高壓水銀燈對(duì)形成有顯影后的孔圖案的基板進(jìn)行曝光量為350mJ/cm2的曝光后，在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為11000ppm)98℃的烘箱中加熱40分鐘，然后在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為1100ppm)320℃的烘箱中加熱60分鐘。由此形成最終的孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。根據(jù)孔的剖面照片測(cè)定錐角，結(jié)果為58°。《加熱后的孔圖案的形成3》利用超高壓水銀燈對(duì)形成有顯影后的孔圖案的基板進(jìn)行曝光量為810mJ/cm2的曝光后，在經(jīng)氮?dú)庵脫Q的(氧濃度為8000ppm)的烘箱中，以每分鐘2℃使溫度自20℃上升至370℃來(lái)進(jìn)行加熱。由此形成最終的孔圖案?？尚纬擅烙^的圓形孔圖案。根據(jù)孔的剖面照片測(cè)定錐角，結(jié)果為81°。(實(shí)施例402)對(duì)于實(shí)施例70～實(shí)施例104的感光性樹(shù)脂組合物，也與實(shí)施例401同樣地形成孔圖案。均可形成美觀的圓形孔圖案。符號(hào)的說(shuō)明1：TFT2：配線3：絕緣膜4：平坦化膜5：第一電極6：玻璃基板7：接觸孔8：絕緣膜10：液晶顯示裝置12：背光單元14、15：玻璃基板16：TFT17：硬化膜18：接觸孔19：ITO透明電極20：液晶22：彩色濾光片30：靜電電容方式的觸摸屏31：前面板32：邊框?qū)?3：第一透明電極圖案33a：墊部分33b：連接部分34：第二透明電極圖案35：絕緣層36：導(dǎo)電性要素37：透明保護(hù)層38：開(kāi)口部110：像素基板111：偏光板112：透明基板113：共用電極114：絕緣層115：像素電極116：取向膜120：對(duì)向基板121：取向膜122：彩色濾光片123：透明基板124：相位差膜126：接著層127：偏光板130：傳感器部200：下部顯示板210：絕緣基板220：柵極電極240：柵極絕緣膜250：半導(dǎo)體層260：歐姆接觸層270：源極電極272：漏極電極280：絕緣膜282：接觸孔290：像素電極300：上部顯示板310：絕緣基板320：遮光構(gòu)件330：彩色濾光片350：取向膜370：共用電極400：液晶層410：傳感電極420：絕緣膜430：觸摸驅(qū)動(dòng)電極600：保護(hù)膜CT：對(duì)向電極GI：柵極絕緣膜GT：柵極電極IN1：第1層間絕緣膜IN2：第2層間絕緣膜IN3：第3層間絕緣膜PAS：有機(jī)絕緣膜PS：半導(dǎo)體膜PX：像素電極RAL：反射膜SD1：漏極電極SD2：源極電極SUB1：玻璃基板UC：基底膜當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3