改善sinlcd和coglcd顯示斜紋不良的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種改善SIN-LCD和COG-LCD顯示斜紋不良的方法,其特征在于涂布完鈦化硅固化后再印PI時(shí),將臺(tái)階上也涂上PI,臺(tái)階的PI位置大于鈦化硅的位置。通過(guò)在臺(tái)階的鈦化硅層上印上PI,可以使盒內(nèi)的PI高度與臺(tái)階的PI高度一致,摩擦?xí)r不存在臺(tái)階,摩擦后不會(huì)出現(xiàn)臺(tái)階鈦化硅層大小的斜紋不良。
【專利說(shuō)明】改善SINLCD和COGLCD顯示斜紋不良的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及ー種IXD的生產(chǎn)エ藝方法,尤其涉及ー種改善SIN-1XD和COG-1XD顯示斜紋不良的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]IXD屏由于顯示內(nèi)容豐富、功耗低,被廣泛應(yīng)用于エ業(yè)生產(chǎn)的各個(gè)領(lǐng)域,現(xiàn)有的IXD屏是由IT0、液晶、偏光片或針腳組成;在一般的環(huán)境溫度下,可以很好的顯示使用者需要的各種信息;其中STN-LCD (COG)的高路數(shù)產(chǎn)品生產(chǎn)難度大,良率較低。其中摩擦斜紋不良是影響良率的主要因數(shù)之一,尤其是對(duì)STN-1XD (COG)灰階產(chǎn)品的良率影響。
[0003]一般來(lái)說(shuō),COG產(chǎn)品會(huì)在盒內(nèi)、臺(tái)階端子走線區(qū)域(非綁定區(qū)域)印上鈦化硅層,臺(tái)階鈦化硅層保護(hù)端子走線不被腐蝕。采用毛輪不能轉(zhuǎn)向的摩擦機(jī),摩擦出溝槽,錨定液晶分子時(shí),沿著端子上的鈦化硅層出現(xiàn)與摩擦方向一致的摩擦斜紋,灌液晶通電點(diǎn)亮吋,LCD顯示的深淺不一致。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]為了解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提供了改善SIN-LCD和COG-1XD顯示斜紋不良的方法。
[0005]本發(fā)明是這樣來(lái)實(shí)現(xiàn)的:改善SIN-1XD和COG-1XD顯示斜紋不良的方法,其特征在于涂布完鈦化硅固化后再印PI吋,將臺(tái)階上也涂上PI,臺(tái)階的PI位置大于鈦化硅的位置。
[0006]本發(fā)明的有益效果是:通過(guò)在臺(tái)階的鈦化硅層上印上PI,可以使盒內(nèi)的PI高度與臺(tái)階的PI高度一致,摩擦?xí)r不存在臺(tái)階,摩擦后不會(huì)出現(xiàn)臺(tái)階鈦化硅層大小的斜紋不良。
【具體實(shí)施方式】
[0007]為了便于理解,下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0008]實(shí)施例1
SIN-1XD涂布完鈦化硅固化后再印PI吋,將臺(tái)階上也涂上PI,臺(tái)階的PI位置大于鈦化娃的位置0.5mm。
[0009]實(shí)施例2
COG-1XD涂布完鈦化硅固化后再印PI吋,將臺(tái)階上也涂上PI,臺(tái)階的PI位置大于鈦化娃的位置0.5mm。
[0010]上述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式作了詳細(xì)說(shuō)明,但是本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式,在本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所具備的知識(shí)范圍內(nèi),還可以在不脫離本發(fā)明宗g的前提下作出各種變化。
【權(quán)利要求】
1.改善SIN-1XD和COG-1XD顯示斜紋不良的方法,其特征在于涂布完鈦化硅固化后再印PI時(shí),將臺(tái)階上也涂上PI。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善SIN-LCD和COG-LCD顯示斜紋不良的方法,其特征在于臺(tái)階的PI位置大于鈦化硅的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的改善SIN-LCD和COG-LCD顯示斜紋不良的方法,其特征在于臺(tái)階的PI位置大于鈦化硅的位置0.5_。
【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK103605227SQ201310525502
【公開(kāi)日】2014年2月26日 申請(qǐng)日期:2013年10月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月31日
【發(fā)明者】范燕輝, 文開(kāi)福 申請(qǐng)人:江西合力泰科技股份有限公司