專利名稱：鏡面液晶顯示器及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種觸控鏡面液晶顯示器及其制造方法。
背景技術：
在諸多顯示器概念展示中，?？吹缴罨溺R面顯示，一般都是以生活起居的浴室、梳妝間為主，展現(xiàn)生活中必備的鏡子，可以顯示時間、天氣、交通與提醒事項，隨著近年觸控技術的演進，鏡面顯示也搭配了觸摸功能，使用者可以利用手指切換畫面或進行控制。以目前的技術做分析，欲制作鏡面觸摸功能液晶顯示器，需要在液晶顯示器外配置鏡面玻璃與觸摸屏，圖1所示為現(xiàn)有具有觸摸功能的鏡面液晶顯示器，其實通過在液晶顯示器10表面貼服鏡面玻璃20，再在鏡面玻璃20表面貼服觸摸屏30，這樣不僅外觀成本增加，鏡面液晶顯示器厚度較厚，使用也不方便。針對各個部件都需要使用到玻璃基板并分別制作鏡面以及觸控電極圖形，不但大幅增加顯示器厚度，制造組裝工藝也隨之復雜，不利于降低成本以及廣泛應用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及一種整合鏡面和觸摸功能至陣列電路裝置的鏡面液晶顯示器及其制造方法，可減少顯示器厚度并簡化鏡面觸控顯示器制程。本發(fā)明提供一種鏡面液晶顯示器，包括:玻璃基板；觸摸電路裝置，設置于玻璃基板之上，包括電性分離的兩金屬膜；以及陣列電路裝置，設置于觸摸電路裝置之上。本發(fā)明又提供一種鏡面液晶顯示器，包括:玻璃基板；觸摸電路裝置，設置于玻璃基板之上，包括電信分離的兩ITO膜；以及陣列電路裝置，設置于觸摸電路裝置之上，其包括:包括縱橫交錯的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線、與相應的掃描線和相應的數(shù)據(jù)線電性連接的多個TFT器件、以及陣列端子，陣列電路裝置還包括與掃描線位于同層的兩金屬膜。本發(fā)明又提供一種鏡面液晶顯示器的制造方法，包括如下步驟:第一步:在玻璃基板上派射形成第一金屬膜；第二步:在形成第一步的第一金屬膜上涂布一層光刻膠；第三步:將第二步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下；第四步:在形成第三步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的第一金屬膜被除掉，并控制刻蝕過程使得第一金屬膜兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離；第五步:在形成第四步的基礎上，再濺射形成第二金屬膜，且均位于玻璃基板上的第一金屬膜和第二金屬膜之間間隔所述的距離；第六步:在形成第五步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的第二金屬層利用剝離方式剝離掉；第七步:在形成第六步的基礎上形成陣列電路裝置。本發(fā)明又提供一種一種鏡面液晶顯示器的制造方法，包括如下步驟:第一步:在玻璃基板上派射形成第一 ITO膜；第二步:在形成第一步的第一 ITO膜上涂布一層光刻膠；第三步:將第二步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下；第四步:在形成第三步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的第一 ITO膜被除掉，并控制刻蝕過程使得第一 ITO膜兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離；第五步:在形成第四步的基礎上，再濺射形成第二 ITO膜，且均位于玻璃基板上的第一 ITO膜和第二ITO膜之間間隔所述的距離；第六步:在形成第五步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的第二 ITO膜利用剝離方式剝離掉；第七步:在形成第六步的基礎上形成覆蓋第一 ITO膜和第二 ITO膜的陣列電路裝置的絕緣膜；第八步:在形成第七步的基礎上形成柵極金屬；第九步:在形成第八步的基礎上涂布光刻膠第八步:將第九步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下；第十步:在形成第八步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的柵極金屬被除掉，并控制刻蝕過程使得柵極金屬兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離；第十一步:在形成第十步的基礎上，再濺射形成金屬膜，該金屬膜位于絕緣膜上和剩余的光刻膠上；第十二步:在形成第十一步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的金屬膜利用剝離方式剝離掉；第十三步:在形成第十二步的基礎上繼續(xù)形成陣列電路裝置的其他部件。本發(fā)明通過將鏡面以及觸摸功能至陣列電路裝置，可以在現(xiàn)有的陣列電路裝置上形成鏡面以及觸摸電極圖形，不增加厚度即可完成觸控鏡面顯示器，可減少顯示器厚度并簡化鏡面觸控顯示器制程。
圖1所示為現(xiàn)有具有觸摸功能的鏡面液晶顯示器；圖2所示為本發(fā)明鏡面液晶顯示器的結構示意圖；圖3至圖8所示為本發(fā)明鏡面液晶顯示器的制作步驟的示意圖；圖9所示為本發(fā)明鏡面液晶顯示器的觸摸電極的平面示意圖；圖10所示為本發(fā)明整個鏡面液晶顯示器的結構示意圖；圖11所示為本發(fā)明觸摸電極的觸摸功能信號導入的示意圖；圖12所示為本發(fā)明鏡面液晶顯示器的第二實施例的示意圖；圖13所示為圖12所述觸摸功能鏡面的制作過程的示意圖。
具體實施例方式下面結合附圖和具體實施例，進一步闡明本發(fā)明，應理解這些實施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍，在閱讀了本發(fā)明之后，本領域技術人員對本發(fā)明的各種等價形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。本鏡面液晶顯示器是在現(xiàn)有液晶顯示器TFT側完成鏡面與觸摸功能，增加鏡面與觸摸功能只需一道光罩制成即可完成，如圖2所示為具有觸摸功能的鏡面液晶顯示器的示意圖，鏡面液晶顯示器包括:玻璃基板10、設置于玻璃基板10上的觸摸電路裝置、以及設于觸摸電路裝置上的陣列電路裝置。所述觸摸電路裝置包括電性分離的兩金屬膜21、24，該金屬膜21、24具有鏡面顯示的功能；陣列電路裝置即TFT側，其包括縱橫交錯的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線、與相應的掃描線和相應的數(shù)據(jù)線電性連接的多個TFT器件、以及陣列端子。所述觸摸電路裝置還包括將觸摸功能信號導入的觸摸端子(圖未示)，所述觸摸端子和相應的陣列端子同時引出。
在使用時，將玻璃基板10位于使用者一側，即:背光從彩膜基板(圖未示)一側進入，反射光從TFT基板一側射出。本發(fā)明鏡面液晶顯示器具有觸摸功能鏡面的制造步驟如下:第一步:如圖3所示，在玻璃基板10上濺射形成厚度為200-400埃的第一金屬膜21,該第一金屬膜21的材料是Al、Ag、T1、Cr、或Mo。第二步:如圖4所示，在形成第一步的第一金屬膜21上涂布一層光刻膠22。第三步:如圖5所示，將第二步形成的光刻膠22進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下，圖5僅顯示一段光刻膠22，實際是間隔的留下若干段光刻膠22，即:通過曝光去除第一金屬膜21上面的部分光刻膠，留下余下部分的光刻膠，且仍保留原來的第一金屬膜21。第四步:如圖6所示，在形成第三步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的第一金屬膜21被除掉，并控制刻蝕過程使得金屬膜較光刻膠內(nèi)縮3-5um，即:被光刻膠22覆蓋的第一金屬膜21在距離光刻膠22的端部存在空隙23的長度為3_5um。由于是刻蝕金屬膜，本發(fā)明最好采用蝕刻工藝，且第一金屬膜21由Al制成時，大多使用鋁酸進行刻蝕，鋁酸的成分為磷酸、醋酸、硝.酸的混合液。第五步:如圖7所示，在形成第四步的基礎上，再濺射形成厚度為200-400埃的第二金屬膜24，由于玻璃基板10的部分被第一金屬膜21覆蓋，故該第二金屬膜24位于另外部分玻璃基板10上和光刻膠22上,均位于玻璃基板10上的第一金屬膜21和第二金屬膜24之間存在所述的空隙23，即:第一金屬膜21和第二金屬膜24之間間隔3-5um，使得兩次濺射的金屬膜因距離3-5um距離而保持電性分離。該第二金屬膜24的材料也是Al、Ag、T1、Cr、或Mo，且第二金屬膜24與第一金屬膜21使用相同的金屬材料制成和具有相同的厚度，這樣才能保證統(tǒng)一的鏡面顯示效果。第六步:如圖8所示，在形成第五步的基礎上，將光刻膠22及位于光刻膠22上的第二金屬層24 (不是位于玻璃基板10上的第二金屬層24)利用Lift off方式剝離，剩余位于玻璃基板10上的第一金屬層21和第二金屬層24,且第一金屬膜21和第二金屬膜24仍因距離3-5um距離而保持電性分離。Lift off剝離方式是在去膠過程中將光刻膠和膠上的金屬膜一起剝離而不撕裂基片上的薄膜圖形。當?shù)诙饘賹?4由Al制成時，剝離光刻膠和位于光刻膠其上的第二金屬層24是用丙酮剝離的。當?shù)谝唤饘倌?1和第二金屬膜24均由Al制成時，當?shù)谝唤饘倌?1和第二金屬膜的厚度均為200埃時，金屬膜21、24的透明度為10% ;當?shù)谝唤饘倌?1和第二金屬膜的厚度均為400埃時，金屬膜21、24的透明度為1%。故金屬膜21、24在厚度極薄約為200-400埃的厚度下，仍有1%_10%的透明度，并具備比透明電極ITO更好的導電性。根據(jù)上述方法所形成的金屬膜平面圖如圖9所示，第一金屬膜21和第二金屬膜24實際是呈垂直狀的間隔排列，該第一金屬膜21和第二金屬膜24就是觸摸電極。作為觸摸電極在水平方面保持電性接續(xù)，垂直方向則利用其后的陣列電路裝置制程利用接觸孔與透明電極將其連接，并可以將觸摸功能信號由透明電極導入。第七步:在形成第六步的基礎上形成陣列電路裝置。如圖10所示為陣列電路裝置的結構示意圖，陣列電路裝置制成所形成部件包括:覆蓋第一金屬膜21和第二金屬膜24的第一絕緣膜11 ;位于第一絕緣膜11上的掃描線和柵線12 ;覆蓋掃描線和柵線12的第二絕緣膜13 ;形成于第二絕緣膜13上的數(shù)據(jù)線(圖未示)、有源層14、源極15、漏極16 ;覆蓋在數(shù)據(jù)線、有源層14、源極15、漏極16上的第三絕緣膜17 ;形成于漏極16上的若干接觸孔18 ;與其中一接觸孔18連接的透明電極19、及與其他接觸孔連接形成的陣列端子(圖未示)。如圖11所示為第一金屬膜21和第二金屬膜24信號導入的示意圖，在陣列基板的接觸孔的形成的同時，形成分別與第一金屬膜21連接的第二接觸孔181、與第二金屬膜24連接的第三接觸孔182，通過第二接觸孔181和第三接觸孔182連接形成觸摸端子，觸摸端子可以將觸摸功能信號由透明電極19導入，且觸摸端子和相應的陣列端子同時引出。作為觸摸電極在水平方面保持電性接續(xù)，垂直方向則利用其后的陣列電路裝置制程利用接觸孔與透明電極將其連接，并可以將觸摸功能信號由透明電極導入。圖12所示為本發(fā)明鏡面液晶顯示器的第二實施例的示意圖，與上述實施例的區(qū)別是:在玻璃基板10上形成的是ITO觸摸功能的觸摸電極21’、24’、并在柵極制成過程中形成鏡面金屬膜31’、32’，ITO觸摸功能的觸摸電極與上述實施例的金屬膜的觸摸電極制作方法相同，鏡面金屬膜31’、32’作為鏡面的反射膜。如圖13所示在柵極制成過程中形成鏡面金屬膜的示意圖，柵極制成過程中形成的鏡面金屬膜31’、32’，先在觸摸電極21’、24’覆蓋第一絕緣膜11 ;再在其上形成柵極12 ；接著在柵極12上形成光刻膠22，；再通過曝光和刻蝕使得柵極12兩端被刻蝕進一點空隙，即:柵極12兩端距離位于柵極12上的光刻膠22端部存在空隙的長度為3-5um ;接著濺射鏡面金屬膜31’、32’ ；最后使用Liftoff剝離的方式將位于柵極12上的光刻膠22和位于光刻膠22上的鏡面金屬膜32’去除掉，即可形成位于柵極12 —起的鏡面金屬膜31’、32’。本第二實施例的鏡面液晶顯示器的制造步驟如下:第一步:在玻璃基板10上濺射形成第一 ITO膜21’。第二步:在形成第一步的第一 ITO膜21’上涂布一層光刻膠22。第三步:將第二步形成的光刻膠22進行曝光，被光照射到的光刻膠22被去除，沒有被光照射到的光刻膠22留下；即:通過曝光去除第一 ITO膜21’上面的部分光刻膠，留下余下部分的光刻膠，且仍保留原來的第一 ITO膜21’。第四步:在形成第三步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的第一ITO膜21’被除掉，并控制刻蝕過程使得第一 ITO膜21’兩端較光刻膠22內(nèi)縮一定的距離，該距離為3-5um。第五步:在形成第四步的基礎上，再濺射形成第二 ITO膜24’，且均位于玻璃基板上的第一 ITO膜21’和第二 ITO膜24’之間間隔所述的距離，該距離為3-5um。第六步:在形成第五步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的第二 ITO膜24’利用剝離方式剝離掉，剩余位于玻璃基板10上的第一 ITO膜21’和第二 ITO膜24’，且第一 ITO膜21’和第二 ITO膜24’仍因距離3-5um距離而保持電性分離。第七步:在形成第六步的基礎上形成覆蓋第一 ITO膜21’和第二 ITO膜24’的陣列電路裝置的絕緣膜11。第八步:在形成第七步的基礎上形成柵極金屬12。第九步:在形成第八步的基礎上涂布光刻膠22。
第八步:將第九步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下，即:通過曝光去除柵極金屬12兩側光刻膠，留下覆蓋柵極金屬12的光刻膠。第十步:在形成第八步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的柵極金屬被除掉，并控制刻蝕過程使得柵極金屬12兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離該距離為3-5um。第十一步:在形成第十步的基礎上，再濺射形成金屬膜31’、32’，該金屬膜31’、32’位于絕緣膜11上和剩余的光刻膠上。第十二步:在形成第十一步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的金屬膜32’利用剝離方式剝離掉，留下僅位于絕緣膜11上的金屬膜31’、32’。第十三步:在形成第十二步的基礎上繼續(xù)形成陣列電路裝置的其他部件。通過柵極金屬使用同樣的過蝕刻方式使其尺寸較光刻膠小，濺射透光鏡面金屬時可以避免柵極短路，且鏡面金屬膜31’、32’可做為存儲電極，在進行畫面時提升透過率。
權利要求
1.一種鏡面液晶顯示器，其特征在于，包括: 玻璃基板； 觸摸電路裝置，設置于玻璃基板之上，包括電性分離的兩金屬膜；以及 陣列電路裝置，設置于觸摸電路裝置之上。
2.一種鏡面液晶顯示器，其特征在于，包括: 玻璃基板； 觸摸電路裝置，設置于玻璃基板之上，包括電信分離的兩ITO膜；以及陣列電路裝置，設置于觸摸電路裝置之上，其包括:包括縱橫交錯的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線、與相應的掃描線和相應的數(shù)據(jù)線電性連接的多個TFT器件、以及陣列端子，陣列電路裝置還包括與掃描線位于同層的兩金屬膜。
3.一種鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于，包括如下步驟: 第一步:在玻璃基板上派射形成第一金屬膜； 第二步:在形成第一步的第一金屬膜上涂布一層光刻膠； 第三步:將第二步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下； 第四步:在形成第三步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的第一金屬膜被除掉，并控制刻蝕過程使得第一金屬膜兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離；` 第五步:在形成第四步的基礎上，再濺射形成第二金屬膜，且均位于玻璃基板上的第一金屬膜和第二金屬膜之間間隔所述的距離； 第六步:在形成第五步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的第二金屬層利用剝離方式剝離掉； 第七步:在形成第六步的基礎上形成陣列電路裝置。
4.根據(jù)權利要求3所述的鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于:所述第一金屬膜和第二金屬膜的厚度為200-400埃，且第一金屬膜與第二金屬膜具有相同的厚度。
5.根據(jù)權利要求3所述的鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于:所述第一金屬膜和第二金屬膜的材料為Al、Ag、T1、Cr、或Mo,且第一金屬膜與第二金屬膜使用相同的材料制成。
6.根據(jù)權利要求3或5所述的鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于:第一金屬膜和第二金屬膜均由Al制成，且當?shù)谝唤饘倌ず偷诙饘倌さ暮穸染鶠?00埃時，第一金屬膜和第二金屬膜的透明度為10% ;當?shù)谝唤饘倌ず偷诙饘倌さ暮穸染鶠?00埃時，第一金屬膜和第二金屬膜的透明度為1%。
7.根據(jù)權利要求3所述的鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于:所述第三步的曝光是去除第一金屬膜上面的部分光刻膠，留下余下部分的光刻膠，且仍保留原來的第一金屬膜。
8.根據(jù)權利要求3所述的鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于:所述第四步的刻蝕過程使得金屬膜較光刻膠內(nèi)縮3-5um,即:被光刻膠覆蓋的第一金屬膜在距離光刻膠的端部存在空隙的長度為3-5um。
9.根據(jù)權利要求3所述的鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于:通過所述第六步的剝離，剩余位于玻璃基板上的第一金屬層和第二金屬層，且第一金屬膜和第二金屬膜之間保持所述的距離。
10.一種鏡面液晶顯示器的制造方法，其特征在于，包括如下步驟: 第一步:在玻璃基板上濺射形成第一 ITO膜； 第二步:在形成第一步的第一 ITO膜上涂布一層光刻膠； 第三步:將第二步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下； 第四步:在形成第三步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的第一 ITO膜被除掉，并控制刻蝕過程使得第一 ITO膜兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離； 第五步:在形成第四步的基礎上，再濺射形成第二 ITO膜，且均位于玻璃基板上的第一ITO膜和第二 ITO膜之間間隔所述的距離； 第六步:在形成第五步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的第二 ITO膜利用剝離方式剝離掉； 第七步:在形成第六步的基礎上形成覆蓋第一 ITO膜和第二 ITO膜的陣列電路裝置的絕緣膜； 第八步:在形成第七步的基礎上形成柵極金屬； 第九步:在形成第八步的基礎上涂布光刻膠 第八步:將第九步形成的光刻膠進行曝光，被光照射到的光刻膠被去除，沒有被光照射到的光刻膠留下； 第十步:在形成第八步的基礎上用刻蝕液處理，使得沒有被光刻膠覆蓋的柵極金屬被除掉，并控制刻蝕過程使得柵極金屬兩端較光刻膠內(nèi)縮一定的距離； 第十一步:在形成第十步的基礎上，再濺射形成金屬膜，該金屬膜位于絕緣膜上和剩余的光刻膠上； 第十二步:在形成第十一步的基礎上，將光刻膠及位于光刻膠上的金屬膜利用剝離方式剝離掉； 第十三步:在形成第十二步的基礎上繼續(xù)形成陣列電路裝置的其他部件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鏡面液晶顯示器及其制造方法，包括玻璃基板；觸摸電路裝置，設置于玻璃基板之上，包括電性分離的兩金屬膜；以及陣列電路裝置，設置于觸摸電路裝置之上。本發(fā)明通過將鏡面以及觸摸功能整合至陣列電路裝置，可以在現(xiàn)有的陣列電路裝置上形成鏡面以及觸摸電極圖形，不增加玻璃基板厚度即可完成觸控鏡面顯示器，可減少顯示器厚度并簡化鏡面觸控顯示器制程。
文檔編號G02F1/1333GK103176658SQ201310097399
公開日2013年6月26日 申請日期2013年3月25日 優(yōu)先權日2013年3月25日
發(fā)明者洪孟逸, 吳劍龍, 王海宏, 焦峰 申請人:南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司