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磁性光變薄膜、薄膜碎片及其制造方法

文檔序號(hào):2741740閱讀:700來源:國知局
專利名稱:磁性光變薄膜、薄膜碎片及其制造方法
磁性光變薄膜、薄膜碎片及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)變色材料領(lǐng)域。具體而言,本發(fā)明涉及一種磁性光變薄膜、薄膜碎
片以及其制造方法。背景技術(shù)
光學(xué)變色材料具有與觀察角度相關(guān)的顏色變化現(xiàn)象,觀察者在不同的角度能觀察 到不同的顏色,特別是在和光學(xué)變色薄膜表面的法線方向呈0度角或60度角左右觀察時(shí), 光學(xué)變色薄膜將呈現(xiàn)出明顯不同的顏色,這種現(xiàn)象被稱作隨角異色性。例如根據(jù)特定的光 學(xué)設(shè)計(jì)可得到綠變紅、紅變綠、綠變藍(lán)等顏色變化現(xiàn)象。并且這種顏色變化現(xiàn)象不能采用彩 色復(fù)制設(shè)備、電子分色制版和拓印等常用偽造方法再現(xiàn)。因此光學(xué)變色材料可以作為貨幣、 銀行票據(jù)、秘密文件以及防偽標(biāo)簽的有效防偽手段。目前世界范圍內(nèi)大部分國家印刷的貨 幣都使用了這種光學(xué)變色材料進(jìn)行保護(hù),以防止偽造。
目前,業(yè)界已發(fā)展出兩種類型的光學(xué)變色材料。 第一種光學(xué)變色材料是基于一些涂覆的薄片,其中采用化學(xué)氣相沉積(CVD)或采 用濕法化學(xué)沉積,在使用機(jī)械方法壓平的鋁顆粒薄片上涂覆介質(zhì)材料層,隨后涂覆金屬層 或第二介質(zhì)材料層。這種類型的光學(xué)變色材料顏色不明亮,而與角度有關(guān)的顏色偏移也比 較小,變色能力較弱、金屬感差、可實(shí)現(xiàn)的色種少,呈半透明狀,表現(xiàn)力較差,需要深色襯底 才能顯示變色效果。其粒徑多為粗糙且分布不勻的,一般不宜在印刷行業(yè)使用,多用于裝飾 行業(yè)(汽車和玩具等的涂料和漆)。 第二種光學(xué)變色材料主要是采用物理氣相沉積(PVD)的方法制造的光變薄膜 材料,其生產(chǎn)技術(shù)控制性較強(qiáng),產(chǎn)品一致性好,具有強(qiáng)烈的隨角異色效果、色彩亮麗、金屬 感強(qiáng)、色種齊全,覆蓋了可見光的全色譜范圍。這種光變薄膜材料是由氣相沉積薄膜的 Fabry-Perot諧振器疊片所構(gòu)成。這種光變薄膜材料目前存在金屬_介質(zhì)材料_金屬的簡 單夾層結(jié)構(gòu)以及金屬_介質(zhì)材料_金屬_介質(zhì)材料_金屬的雙夾層結(jié)構(gòu),其中頂部金屬層 是半吸收金屬層,使光能夠進(jìn)出Fabry-Perot諧振器疊片,進(jìn)而通過干涉效應(yīng)產(chǎn)生隨角異 色性。 第二種光變薄膜材料于1975年由加拿大率先開始研究,美國于1981年開始研制 薄膜干涉濾光器,1984年研制出將光變薄膜轉(zhuǎn)移到其他表面的方法。到20世紀(jì)90年代,國 內(nèi)科研院校及企業(yè)紛紛展開對(duì)該材料產(chǎn)業(yè)化的研究,典型代表有上海技術(shù)物理研究所和惠 州市華陽光學(xué)技術(shù)有限公司。然而最終實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化并廣泛應(yīng)用于市場的只有惠州市華陽光 學(xué)技術(shù)有限公司。 為了進(jìn)一步提高光學(xué)變色材料的防偽特性,使其既具有目視辨別的變色效果,又 具有儀器才能辨別的其它防偽功能,新的磁性光學(xué)變色材料應(yīng)運(yùn)而生。制造這種光學(xué)變色 材料的有效途徑是給前述光學(xué)變色材料摻雜隱藏的磁性。這種磁性光學(xué)變色材料能將不同 安全水平引入相應(yīng)的標(biāo)記文件中1)簡單的"有/無磁性"特征;2)特征磁性的識(shí)別;3)具 有磁性或非磁性特征的印刷圖案;和4)磁性數(shù)據(jù)的載體,將磁性信息存儲(chǔ)在印刷的具有磁性特征的光學(xué)變色材料中。 例如,US 4, 838, 648號(hào)美國專利中已經(jīng)提出了一種磁性光學(xué)變色材料,其中將特 定的磁性材料加入光學(xué)變色材料的結(jié)構(gòu)中,以提供磁性特征。在US 4, 838, 648中優(yōu)選采用 質(zhì)量百分比為80 : 20的鈷-鎳合金作為磁性材料,但這種磁性材料具有以下缺點(diǎn),1)其光 學(xué)性能較低,特別是由于鈷_鎳合金的反射率較低,使得光學(xué)變色材料具有較低的艷度,2) 鈷_鎳合金與介質(zhì)層之間的結(jié)合力很差,因而在脫模、粉碎、油墨攪拌工藝階段很容易發(fā)生 分層現(xiàn)象,導(dǎo)致材料的光學(xué)干涉結(jié)構(gòu)被破壞,致使光學(xué)變色效果消失;3)鈷-鎳合金的鍍膜 材料價(jià)格昂貴,難以形成成本上的優(yōu)勢(shì)。 正是由于上述的種種不可避免的技術(shù)缺陷,使得該專利技術(shù)在實(shí)際中長時(shí)間未得 以產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,到目前為止,國內(nèi)外市場中還沒見到該技術(shù)產(chǎn)品。因此,更多的研究人員和 工程師也一直在努力進(jìn)行突破,期望解決上述的種種問題。中國的邵劍心等人以及瑞士 SICPA公司取得了一定的突破,在其申請(qǐng)的中國專利CN02800567. 8中,提出了 7層薄膜結(jié)構(gòu) 的磁性光學(xué)變色材料。但是,這種7層薄膜結(jié)構(gòu)的磁性光學(xué)變色材料由于鍍膜層數(shù)較多,因 此加大了生產(chǎn)成本和制造加工難度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是提供一種性能優(yōu)越且成本較低的磁性光變薄膜以及薄
膜碎片。 本發(fā)明解決的另一個(gè)技術(shù)問題是提供一種制造成本低、易于量產(chǎn)且光學(xué)性能好的
磁性光變薄膜以及薄膜碎片。 本發(fā)明解決的又一技術(shù)問題是提供一種磁性光變薄膜的制造方法,該制造方法過 程簡單、成本低,且成品光學(xué)性能好。 本發(fā)明解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是提供一種磁性光變薄膜,包括磁性層、第一介 質(zhì)層、第二介質(zhì)層、第一半吸收層以及第二半吸收層。磁性層包含至少一種含鎳鉻的合金, 具有第一主表面以及相對(duì)的第二主表面。第一介質(zhì)層位于該磁性層的該第一主表面上,具 有第一外表面。第二介質(zhì)層位于該磁性層的該第二主表面上,具有第二外表面。第一半吸 收層位于該第一介質(zhì)層的該第一外表面上。第二半吸收層位于該第二介質(zhì)層的該第二外表 面上。該磁性光變薄膜在第一入射光角度或觀察角度具有第一顏色,而在第二入射光角度 或觀察角度具有不同于第一顏色的第二顏色。 本發(fā)明解決技術(shù)問題的另一技術(shù)方案是提供一種磁性光變薄膜,該磁性光變薄 膜由以下材料層組成磁性層,具有第一主表面以及相對(duì)的第二主表面,且該磁性層包含至 少一種含鎳鉻的合金;第一介質(zhì)層,位于該磁性層的該第一主表面上,具有第一外表面;第 二介質(zhì)層,位于該磁性層的該第二主表面上,具有第二外表面;第一半吸收層,位于該第一 介質(zhì)層的該第一外表面上;以及第二半吸收層,位于該第二介質(zhì)層的該第二外表面上。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的又一技術(shù)方案是提供一種磁性光變薄膜碎片,該磁 性光變薄膜碎片適于添加到油墨或涂料中,以提供磁性和隨角異色性,該磁性光變薄膜碎 片由上述磁性光變薄膜制成,該磁性光變薄膜碎片的物理尺寸在2iim至100iim的范圍內(nèi), 其徑厚比不小于2 : 1。 本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的又一技術(shù)方案是提供一種磁性光變薄膜的制造方法,該方法包括以下步驟提供基底;在該基底上形成隔離層;以及在該隔離層上形成該磁 性光變薄膜,形成該磁性光變薄膜的方法包括以下步驟在該隔離層上形成第一半吸收層, 在該第一半吸收層上形成第一介質(zhì)層,在該第一介質(zhì)層上形成一含鎳鉻的合金磁性層,在 該磁性層上形成第二介質(zhì)層,以及在該第二介質(zhì)層上形成第二半吸收層。 本發(fā)明提供的磁性光變薄膜以及薄膜碎片光學(xué)性能穩(wěn)定,可在不改變無磁性層光 學(xué)變色材料所呈現(xiàn)出的均勻的粒狀感、特定顏色的金屬光澤、隨角異色效果的情況下,通過 簡單改變磁性層材料增加了光學(xué)變色材料的磁性識(shí)別特征。既具有光學(xué)變色等人眼直接辨 別的一線大眾防偽功能,又具備了儀器辨別的二線專家防偽功能,極大地增強(qiáng)了產(chǎn)品的多 功能防偽能力。并且克服了現(xiàn)有光學(xué)材料結(jié)構(gòu)流于理論不可實(shí)際實(shí)施,或者是制造復(fù)雜、成 本高昂的兩難問題。這種磁性光變薄膜、薄膜碎片和制造方法可以采用與生產(chǎn)傳統(tǒng)非磁性 光學(xué)變色材料使用的相同設(shè)備和生產(chǎn)工藝制造,生產(chǎn)條件成熟,成本低,易于量產(chǎn),且產(chǎn)品 性能穩(wěn)定。


圖1是本發(fā)明的磁性光變薄膜的結(jié)構(gòu)剖面圖。 圖2是本發(fā)明的磁性光變薄膜與傳統(tǒng)無磁性層的光變薄膜的理論反射率對(duì)比曲 線圖。 圖3是本發(fā)明的磁性光變薄膜的制造方法的工藝流程圖。具體實(shí)施方式

將參看附圖在下文中更詳細(xì)地描述本發(fā)明的具體實(shí)施方式
。然而,本發(fā)明可體現(xiàn) 為不同的形式并且不應(yīng)被認(rèn)為限于本文所述的實(shí)施方式。而是提供此等實(shí)施方式使得本揭 露內(nèi)容全面且完整,且向熟習(xí)此項(xiàng)技術(shù)者全面?zhèn)鬟_(dá)本發(fā)明的范疇。 圖1繪示了本發(fā)明的磁性光變薄膜的結(jié)構(gòu)剖面圖。本發(fā)明的磁性光變薄膜10包 括磁性層11、第一介質(zhì)層12、第二介質(zhì)層14、第一半吸收層13以及第二半吸收層15。磁性 層11具有第一主表面111以及相對(duì)的第二主表面112。第一介質(zhì)層12位于磁性層11的第 一主表面111上,其具有第一外表面121。第二介質(zhì)層14位于磁性層11的第二主表面112 上,其具有第二外表面141。第一半吸收層13位于第一介質(zhì)層12的第一外表面121上。第 二半吸收層15位于第二介質(zhì)層14的第二外表面141上。 該第一介質(zhì)層12和第二介質(zhì)層14具有相同的成份且具有相同的物理厚度,其成 份優(yōu)先選用折射率小于1.65的介質(zhì)材料,如二氧化硅(Si02)或氟化鎂(MgF2)。該第一介 質(zhì)層12和第二介質(zhì)層14的光學(xué)厚度范圍在400nm設(shè)計(jì)波長時(shí)的2倍的四分之一波長至 700nm設(shè)計(jì)波長時(shí)的9倍的四分之一波長之間。 該第一半吸收層13和第二半吸收層15具有相同的成份,成份選自鎳、鉻、銅、鈷、 鈦、釩、鎢、錫、硅、鍺及其混合物或合金;且其物理厚度范圍在3nm至20nm之間。在優(yōu)選的 實(shí)施方式中,第一半吸收層13和第二半吸收層15的物理厚度范圍在5nm至8nm之間。在 另一優(yōu)選的實(shí)施方式中,第一半吸收層13和第二半吸收層15具有相同的物理厚度。
該 性層11的材料為含鎳鉻的合金。例如,在本實(shí)施例中采用鎳鉻合金,且該鎳 鉻合金中兩金屬質(zhì)量百分比為80% _96%的鎳以及4% -20%的鉻。磁性層11的物理厚度范圍在20nm至1000nm之間。在優(yōu)選的實(shí)施方式中,磁性層11的物理厚度范圍在50nm至 100nm之間。該磁性層11具有反射特性,使得入射光線在磁性層11與第一半吸收層13或 第二半吸收層15之間進(jìn)行反射,進(jìn)而產(chǎn)生光學(xué)干涉效應(yīng)。 磁性層11可為磁性光變薄膜10提供磁性特征。此外,磁性層11進(jìn)一步結(jié)合第一 介質(zhì)層12和第一半吸收層13或者第二介質(zhì)層14和第二半吸收層15提供隨角異色性,使 得磁性光變薄膜10在第一入射光角度/觀察角度18具有第一顏色,而在第二入射光角度/ 觀察角度19具有不同于第一顏色的第二顏色。例如,在第一種光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)下,在第一入 射光角度/觀察角度18(例如,與磁性光變薄膜10表面的法線方向成60度角),磁性光變 薄膜10所呈現(xiàn)的第一顏色為綠色,在第二入射光角度/觀察角度19 (例如是和磁性光變薄 膜10表面的法線方向成0度角),磁性光變薄膜10所呈現(xiàn)的第二顏色為紅色。在第二種光 學(xué)薄膜設(shè)計(jì)下,在第一入射光角度/觀察角度18,磁性光變薄膜10所呈現(xiàn)的第一顏色為藍(lán) 色,在第二入射光角度/觀察角度19,磁性光變薄膜10所呈現(xiàn)的第二顏色為綠色。
從圖l可以看出,該磁性光變薄膜IO在結(jié)構(gòu)上延續(xù)了傳統(tǒng)光學(xué)變色顏料的對(duì)稱結(jié) 構(gòu),這樣從磁性光變薄膜10的任一表面看去,都會(huì)呈現(xiàn)相同的顏色效果,從而得到同樣的 光變效果。當(dāng)然,本領(lǐng)域技術(shù)人員完全可以想到根據(jù)實(shí)際需要設(shè)計(jì)非對(duì)稱結(jié)構(gòu)。
該磁性層11的鎳鉻合金材料具有以下技術(shù)效果(1)具有較高的反射性能,以保 證本發(fā)明的磁性光變薄膜10具有鮮艷的變色效果;(2)具有較好的磁性性能,使得磁性光 變薄膜10易于被磁性探測儀器識(shí)別;(3)與第一介質(zhì)層12和第二介質(zhì)層14之間的結(jié)合力 好,不易發(fā)生分層,保證了磁性光變薄膜10的光學(xué)變色結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性能;(4)具有一定的耐腐 蝕性能,保證了磁性光變薄膜10的穩(wěn)定性;(5)價(jià)格低廉,保證磁性光變薄膜10有一定的 成本優(yōu)勢(shì)。雖然本發(fā)明中僅以鎳鉻合金為例進(jìn)行了說明,但本領(lǐng)域技術(shù)人員完全可以想到 采用例如鎳鉻鈷合金等其他的含鎳鉻的合金作為磁性層11。 圖2是本發(fā)明的一種磁性光變薄膜與傳統(tǒng)光變薄膜的理論反射率對(duì)比曲線圖。實(shí) 線21表示傳統(tǒng)光變薄膜的理論反射率曲線,虛線22表示本發(fā)明的磁性光變薄膜10的反射 率曲線。由圖2可見,虛線22和實(shí)線21基本吻合,說明本發(fā)明的磁性光變薄膜10基本維 持了傳統(tǒng)光變薄膜的變色效果。 圖3是本發(fā)明的磁性光變薄膜的制造方法的工藝流程圖。結(jié)合圖1所示,本發(fā)明 的磁性光變薄膜IO是通過以下步驟制造的提供剛性基底17(步驟31),并在高真空條件 下,采用物理氣相沉積法(PVD)在剛性基底17上按特定的光學(xué)膜層設(shè)計(jì)依次沉積隔離層 16 (步驟32)、第一半吸收層13 (步驟33)、第一介質(zhì)層12 (步驟34)、磁性層11 (步驟35)、 第二介質(zhì)層14 (步驟36)、第二半吸收層15 (步驟37)。 眾所周知,鍍膜機(jī)抽一次高真空是需要耗費(fèi)很長時(shí)間,本發(fā)明在一次達(dá)到高真空 條件后,可在剛性基底17上,以隔離層16、第一金屬層13、第一介質(zhì)層12、磁性層11、第二 介質(zhì)層14、第二金屬層15為周期,重復(fù)蒸鍍20到30次,甚至更多,由此最大限度地保證了 有效生產(chǎn)時(shí)間,大大提高了設(shè)備產(chǎn)能,降低生產(chǎn)成本,提高了生產(chǎn)效率。
按此方法重復(fù)多次之后,在剛性基底17上形成了多個(gè)隔離層16與多個(gè)磁性光變 薄膜IO相疊的周期性復(fù)合結(jié)構(gòu)。待沉積完畢,將該剛性基底17從真空室取出,置于特定溶 劑中進(jìn)行有機(jī)脫模工序。所沉積的周期性復(fù)合結(jié)構(gòu)會(huì)在特定溶劑的作用下從剛性基底17 上剝離下來,同時(shí)使周期性復(fù)合結(jié)構(gòu)中的磁性光變薄膜10與隔離層16發(fā)生分離,然后收集分離的磁性光變薄膜10。最后,將與該基底分離之后的該磁性光變薄膜粉碎為多個(gè)磁性光 變薄膜碎片。在優(yōu)選實(shí)施例中,磁性光變薄膜碎片的物理尺寸在2 m至100 m的范圍內(nèi), 其徑厚比不小于2 : l,使得磁性光變薄膜碎片適于添加到油墨或涂料中,以提供磁性和隨 角異色性。 本發(fā)明提供的磁性光變薄膜以及薄膜碎片光學(xué)性能穩(wěn)定,可在不改變無磁性層光 學(xué)變色材料所呈現(xiàn)出的均勻的粒狀感、特定顏色的金屬光澤、隨角異色效果的情況下,通過 簡單改變磁性層材料增加了光學(xué)變色材料的磁性識(shí)別特征。既具有光學(xué)變色等人眼直接辨 別的一線大眾防偽功能,又具備了儀器辨別的二線專家防偽功能,極大地增強(qiáng)了產(chǎn)品的多 功能防偽能力。并且克服了現(xiàn)有光學(xué)材料結(jié)構(gòu)流于理論不可實(shí)際實(shí)施,或者是制造復(fù)雜、成 本高昂的兩難問題。這種磁性光變薄膜、薄膜碎片和制造方法可以采用與生產(chǎn)傳統(tǒng)非磁性 光學(xué)變色材料使用的相同設(shè)備和生產(chǎn)工藝制造,生產(chǎn)條件成熟,成本低,易于量產(chǎn),且產(chǎn)品 性能穩(wěn)定。 以上描述的具體實(shí)施方式
應(yīng)認(rèn)為是示意性的,而非限制性的,且所附的權(quán)利要求 書意圖覆蓋落入本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思和范圍內(nèi)的所有改變、增強(qiáng)以及其它實(shí)施方式。因此,在 法律所允許的最大范圍內(nèi),本發(fā)明的范圍藉由以下權(quán)利要求書及其等同物的最寬容許解釋 來確定,并且不應(yīng)受到前述詳細(xì)描述的約束或限制。
權(quán)利要求
一種磁性光變薄膜,其特征在于,包括磁性層,包含至少一種含鎳鉻的合金,具有第一主表面以及相對(duì)的第二主表面;第一介質(zhì)層,位于該磁性層的該第一主表面上,具有第一外表面;第二介質(zhì)層,位于該磁性層的該第二主表面上,具有第二外表面;第一半吸收層,位于該第一介質(zhì)層的該第一外表面上;以及第二半吸收層,位于該第二介質(zhì)層的該第二外表面上,其中該磁性光變薄膜在第一入射光角度或觀察角度具有第一顏色,而在第二入射光角度或觀察角度具有不同于第一顏色的第二顏色。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁性光變薄膜,其特征在于該含鎳鉻的合金為鎳鉻合金,該 鎳鉻合金中兩金屬質(zhì)量百分比為80% _96%的鎳以及4% _20%的鉻。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁性光變薄膜,其特征在于該磁性層的物理厚度范圍在20nm 至1000nm之間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁性光變薄膜,其特征在于該第一半吸收層和該第二半吸收層具有相同的成份,該成份選自鎳、鉻、銅、鈷、鈦、釩、鎢、錫、硅、鍺及其混合物或合金。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁性光變薄膜,其特征在于該第一半吸收層和該第二半吸收 層具有相同的物理厚度,且該物理厚度范圍在3nm至20nm之間。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁性光變薄膜,其特征在于該第一介質(zhì)層和該第二介質(zhì)層具 有相同的成份,該成份選自折射率小于1. 65的介質(zhì)材料。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁性光變薄膜,其特征在于該第一介質(zhì)層和該第二介質(zhì)層的 光學(xué)厚度范圍在400nm的設(shè)計(jì)波長時(shí)的2倍的四分之一波長至700nm的設(shè)計(jì)波長時(shí)的9倍 的四分之一波長之間。
8. —種磁性光變薄膜,其特征在于由以下材料層組成磁性層,具有第一主表面以及相對(duì)的第二主表面,且該磁性層包含至少一種含鎳鉻的 n i ;第一介質(zhì)層,位于該磁性層的該第一主表面上,具有第一外表面; 第二介質(zhì)層,位于該磁性層的該第二主表面上,具有第二外表面; 第一半吸收層,位于該第一介質(zhì)層的該第一外表面上;以及 第二半吸收層,位于該第二介質(zhì)層的該第二外表面上。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁性光變薄膜,其特征在于該含鎳鉻的合金為鎳鉻合金,該 鎳鉻合金中兩金屬質(zhì)量百分比為80% _96%的鎳以及4% _20%的鉻。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁性光變薄膜,其特征在于該磁性層的物理厚度范圍在 20nm至1000nm之間。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁性光變薄膜,其磁性層的成份還選自鎳、鋁、鈷、鉻、鐵、鉬、硅及它們的合金或氧化物,且該磁性層的物理厚度范圍在20nm至1000nm之間。
12. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁性光變薄膜,其特征在于該第一半吸收層和該第二半吸 收層具有相同的成份,該成份選自鎳、鉻、銅、鈷、鈦、釩、鎢、錫、硅、鍺及其混合物或合金, 且該第一半吸收層和該第二半吸收層的物理厚度范圍在3nm至20nm之間。
13. —種磁性光變薄膜碎片,該磁性光變薄膜碎片適于添加到油墨或涂料中,以提供磁 性和隨角異色性,其特征在于該磁性光變薄膜碎片由上述權(quán)利要求8-12中任意一項(xiàng)所述的磁性光變薄膜制成,該磁性光變薄膜碎片的物理尺寸在2 m至100 m的范圍內(nèi),其徑厚 比不小于2 : 1。
14. 一種磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于包括以下步驟a. 提供基底;b. 在該基底上形成隔離層;以及c. 在該隔離層上形成該磁性光變薄膜,形成該磁性光變薄膜的方法包括以下步驟 在該隔離層上形成第一半吸收層, 在該第一半吸收層上形成第一介質(zhì)層, 在該第一介質(zhì)層上形成一含鎳鉻的合金磁性層, 在該磁性層上形成第二介質(zhì)層,以及 在該第二介質(zhì)層上形成第二半吸收層。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于該方法還包括提供一種溶劑,該溶劑使得該磁性光變薄膜與該基底相分離。
16. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于該方法還包括在該 第二半吸收層上多次重復(fù)形成該隔離層以及權(quán)利要求13所述的c步驟,以在該基底上形成 該隔離層與該磁性光變薄膜相疊的周期性復(fù)合結(jié)構(gòu)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于該方法還包括提供一種溶劑,該溶劑使得該周期性復(fù)合結(jié)構(gòu)與該基底相分離,以及使得該周期性復(fù)合結(jié)構(gòu)中 的該隔離層與該磁性光變薄膜相分離。
18. 根據(jù)權(quán)利要求15或17所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于該方法還包括 將分離之后的該磁性光變薄膜粉碎為薄膜碎片。
19. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于其中c步驟中的 含鎳鉻的合金為鎳鉻合金,該鎳鉻合金中兩金屬質(zhì)量百分比為80-96%的鎳、4% -20%的 鉻。
20. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于形成該磁性層時(shí), 控制其物理厚度范圍在20nm至1000nm之間。
21. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的磁性光變薄膜的制造方法,其特征在于選擇鎳、鉻、銅、鈷、 鈦、釩、鎢、錫、硅、鍺及其混合物或合金中的一種或多種作為該第一半吸收層和該第二半吸 收層的成分材料,且該第一半吸收層和該第二半吸收層的物理厚度范圍在3nm至20nm之 間。
全文摘要
本發(fā)明提供一種磁性光變薄膜、薄膜碎片及其制造方法。該磁性光變薄膜包括磁性層、第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、第一半吸收層以及第二半吸收層。磁性層包含至少一種含鎳鉻的合金,其具有第一主表面以及相對(duì)的第二主表面。第一介質(zhì)層位于磁性層的第一主表面上。第二介質(zhì)層位于磁性層的第二主表面上。第一半吸收層位于第一介質(zhì)層上。第二半吸收層位于第二介質(zhì)層上。其中,磁性光變薄膜既呈現(xiàn)出磁性特征,又呈現(xiàn)出隨角異色性,使得磁性光變薄膜在第一入射光角度或觀察角度具有第一顏色,而在第二入射光角度或觀察角度具有不同于第一顏色的第二顏色。
文檔編號(hào)G02B5/22GK101706595SQ20091010483
公開日2010年5月12日 申請(qǐng)日期2009年1月5日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月5日
發(fā)明者潘碩, 王荇, 章興洲, 陽義峰 申請(qǐng)人:惠州市華陽光學(xué)技術(shù)有限公司
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