專利名稱：生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及生產(chǎn)廣泛用于光通信、光信息處理和其他一般光學(xué)領(lǐng)域中的光波導(dǎo)的方法。
背景技術(shù)：
光波導(dǎo)可用于光波導(dǎo)裝置、集成光路和光纜板中且廣泛用于光通信、光信息處理和其他一般光學(xué)領(lǐng)域中。近年來(lái)，使用光敏樹脂如可紫外固化樹脂生產(chǎn)這種光波導(dǎo)的技術(shù)正逐漸被應(yīng)用。其實(shí)例包括如下方法，其包括在基材上形成下部覆層(下覆層)，之后在該覆層上形成光敏樹脂層，用光輻照該樹脂層使其曝光，隨后用顯影液使該樹脂層顯影以除去未曝光區(qū)域從而形成具有給定圖案的芯層，然后在該芯層上形成上部覆層(上覆層)，從而生產(chǎn)出光波導(dǎo)。在生產(chǎn)光波導(dǎo)的這些步驟中，用于使光敏樹脂層顯影并除去該層的未曝光區(qū)域的顯影液例如為丙酮(參見專利文獻(xiàn)1)。
專利文獻(xiàn)1JP-A-2000-356720發(fā)明內(nèi)容然而，在芯層形成中使用丙酮作為顯影液的問(wèn)題在于由于丙酮的作用，所述芯層本身或所述芯層與所述下部覆層(下覆層)之間的界面產(chǎn)生裂縫，從而損害了光波導(dǎo)的功能。
在如此情況下實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明。本發(fā)明的目的是提供生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，該方法能夠獲得其中芯層本身以及所述芯層與所述下覆層之間的界面均不裂縫且具有小的光損失的光波導(dǎo)。
圖1是說(shuō)明本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法的一個(gè)實(shí)施方案中的步驟的橫截面視圖。
圖2是說(shuō)明本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法的該實(shí)施方案中的另一步驟的橫截面視圖。
圖3是說(shuō)明本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法的該實(shí)施方案中的又一步驟的橫截面視圖。
圖4是說(shuō)明本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法的該實(shí)施方案中的再一步驟的橫截面視圖。
圖5是說(shuō)明通過(guò)本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法的該實(shí)施方案獲得的光波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)的橫截面視圖。
參考標(biāo)記的說(shuō)明1 基材2 下覆層3 芯層4 上覆層5 樹脂層6 掩膜具體實(shí)施方式
也就是說(shuō)，本發(fā)明涉及如下內(nèi)容。
(1)生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其包括在基材表面上形成下覆層；在該下覆層上形成光敏樹脂組合物層；用紫外線通過(guò)具有給定圖案的光掩膜輻照該光敏樹脂組合物層的表面以進(jìn)行曝光；在曝光之后，通過(guò)用顯影液溶解所述光敏樹脂組合物層的未曝光區(qū)域而除去該層的未曝光區(qū)域，從而形成芯層；以及在該芯層上形成上覆層，
其中所述的顯影液是濃度為10-99重量％的γ-丁內(nèi)酯水溶液。
(2)根據(jù)(1)的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的γ-丁內(nèi)酯水溶液的濃度為75-85重量％。
(3)根據(jù)(1)的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的下覆層包含熱固性樹脂或熱塑性樹脂。
(4)根據(jù)(1)的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的下覆層包含環(huán)氧樹脂組合物。
(5)根據(jù)(1)的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的光敏樹脂組合物層包含可光固化環(huán)氧樹脂組合物。
(6)根據(jù)(1)的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的上覆層包含熱固性樹脂或熱塑性樹脂。
(7)根據(jù)(1)的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的上覆層包含環(huán)氧樹脂組合物。
本發(fā)明的發(fā)明人研究了在所述芯層中或在所述芯層與所述下覆層之間的界面上出現(xiàn)裂縫的原因，以抑制芯層部分形成裂縫，從而獲得令人滿意的在光損失方面減小的光波導(dǎo)。在研究過(guò)程中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)導(dǎo)致裂縫的一個(gè)原因與用于形成成為芯層的圖案的顯影液有關(guān)?；谶@個(gè)發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的發(fā)明人進(jìn)行了深入地研究以獲得不會(huì)導(dǎo)致在所述芯層中或在所述芯層與所述下覆層之間的界面上出現(xiàn)裂縫并且能夠形成令人滿意的芯層圖案的顯影液。因此，本發(fā)明的發(fā)明人想到將迄今為止從未使用過(guò)的γ-丁內(nèi)酯作為顯影液用于形成芯層。本發(fā)明的發(fā)明人進(jìn)行了進(jìn)一步研究，并且因此發(fā)現(xiàn)，當(dāng)使用具有特定濃度的γ-丁內(nèi)酯水溶液時(shí)實(shí)現(xiàn)了該目的。由此實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明。
也就是說(shuō)，本發(fā)明的方法包括在于基材表面上形成的下覆層上形成光敏樹脂組合物層，用紫外線通過(guò)具有給定圖案的光掩膜輻照該光敏樹脂組合物層的表面以進(jìn)行曝光，在曝光之后，通過(guò)用顯影液溶解該光敏樹脂組合物層的未曝光區(qū)域而除去該區(qū)域，從而形成芯層，然后在該芯層上形成上覆層，從而生產(chǎn)出光波導(dǎo)。使用具有特定濃度的γ-丁內(nèi)酯水溶液作為顯影液。因此，在芯層圖案的形成中，芯層沒有裂縫，而且可以形成具有高精度圖案的芯層。因此，高效地生產(chǎn)出具有小的光損失和優(yōu)異的可靠性的光波導(dǎo)。
當(dāng)將γ-丁內(nèi)酯水溶液的濃度調(diào)節(jié)至75-85重量％且例如將可光固化環(huán)氧樹脂組合物用作作為芯層形成材料的光敏樹脂組合物時(shí)，可改進(jìn)圖案的辨析率且可以獲得更精確的芯層圖案。
可通過(guò)本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法得到的光波導(dǎo)的一個(gè)實(shí)例具有圖5所示的層構(gòu)造。該光波導(dǎo)包括基材1、位于基材1上的下覆層2、位于下覆層2上且具有給定圖案的芯層3和為覆蓋芯層3而形成的上覆層4。
對(duì)基材1的材料沒有特別限制。其實(shí)例包括常規(guī)材料，如石英玻璃板、硅片、陶瓷基材、玻璃-環(huán)氧樹脂基材、聚酰亞胺膜、聚(對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)(PET)膜以及金屬箔(包括銅箔和不銹鋼箔)?？蛇m當(dāng)選擇基材厚度，所述厚度一般在10μm-5mm的范圍內(nèi)。
為了在基材1上形成下覆層2，可以使用多種聚合物材料的任意材料，如熱固性樹脂和熱塑性樹脂。然而，構(gòu)成下覆層2的材料必須應(yīng)具有比構(gòu)成芯層3的材料更低的折射率。特別地，優(yōu)選設(shè)計(jì)各層以使芯層3的折射率和下覆層2的折射率之差約為0.1-5％。
用于形成下覆層2的該類材料的實(shí)例包括環(huán)氧樹脂和聚酰亞胺樹脂前體。優(yōu)選選擇使用對(duì)所述光敏樹脂組合物具有足夠粘附性的材料作為形成芯層3的材料。就此而言，當(dāng)例如使用可紫外固化環(huán)氧樹脂組合物作為形成芯層3的材料時(shí)，還優(yōu)選使用環(huán)氧樹脂組合物作為形成下覆層2的材料。
上述材料的實(shí)例包括環(huán)氧化合物，如脂環(huán)族環(huán)氧化合物，包括3，4-環(huán)氧環(huán)己烯甲酸3，4-環(huán)氧環(huán)己烯基甲酯和3，4-環(huán)氧環(huán)己烯甲酸3，4-環(huán)氧環(huán)己烯基乙酯，雙酚A環(huán)氧樹脂，雙酚F環(huán)氧樹脂，氫化雙酚A環(huán)氧樹脂，氫化雙酚F環(huán)氧樹脂，萘環(huán)氧樹脂，脂族環(huán)氧樹脂和氟化環(huán)氧樹脂。這些化合物可以單獨(dú)使用或兩種或更多種組合使用。在那些環(huán)氧化合物中，優(yōu)選使用脂環(huán)族環(huán)氧化合物，這是因?yàn)樗鼈兊玫酵该鞫雀咔夷蜔嵝愿叩臉渲?br>
通常在環(huán)氧樹脂中使用光聚合引發(fā)劑以賦予可紫外固化性。對(duì)光聚合引發(fā)劑并沒有特別限制。其實(shí)例包括常規(guī)的那些，如芳族重氮鹽、芳族锍鹽、芳族碘鎓鹽、芳族氧化锍鹽、茂金屬化合物和鐵-芳烴化合物。就可光固化性而言，其中優(yōu)選使用芳族锍鹽。就可固化性、粘附性等而言，尤其優(yōu)選芳族锍六氟銻酸鹽化合物，如4，4-雙[(二(β-羥基乙氧基)苯基锍(sulfinio))苯基硫化物雙六氟銻酸鹽，芳族锍六氟化鏻化合物或它們的組合。除了光聚合引發(fā)劑外，還可以根據(jù)需要適當(dāng)添加諸如光敏劑和酸增效劑(acid multiplier)的添加劑。
待摻入的光聚合引發(fā)劑的量相對(duì)于100重量份環(huán)氧樹脂成分而言，優(yōu)選為0.1-10重量份，更優(yōu)選1-5重量份。
此外，為了增強(qiáng)粘附性，可根據(jù)需要向形成下覆層2的材料中添加如下化合物例如，硅烷或鈦酸鹽偶聯(lián)劑；柔韌性賦予劑，如烯烴低聚物、環(huán)烯烴低聚物或諸如降冰片烯聚合物、合成橡膠或聚硅氧烷化合物的聚合物；以及其他成分，包括抗氧化劑和消泡劑。
為了在下覆層2上形成具有給定圖案的芯層3，使用光敏樹脂組合物，并且例如使用可光固化環(huán)氧樹脂組合物。要求用于形成芯層3的材料在固化后在要用于光信號(hào)的波長(zhǎng)(例如850nm或1300nm)下是透明的。
除了環(huán)氧樹脂外，還在可光固化環(huán)氧樹脂組合物中使用光聚合引發(fā)劑以賦予可紫外固化性。
環(huán)氧樹脂的實(shí)例包括環(huán)氧化合物，例如，芴衍生物，其包括二苯氧基乙醇芴二環(huán)氧甘油醚和雙酚芴二環(huán)氧甘油醚，脂環(huán)族環(huán)氧化合物，其包括3，4-環(huán)氧環(huán)己烯甲酸3，4-環(huán)氧環(huán)己烯基甲酯和3，4-環(huán)氧環(huán)己烯甲酸3，4-環(huán)氧環(huán)己烯基乙酯，雙酚A環(huán)氧樹脂，雙酚F環(huán)氧樹脂，氫化雙酚A環(huán)氧樹脂，氫化雙酚F環(huán)氧樹脂，萘環(huán)氧樹脂，脂族環(huán)氧樹脂和氟化環(huán)氧樹脂。這些化合物可以單獨(dú)使用或兩種或更多種組合使用。在那些環(huán)氧化合物中，優(yōu)選使用二苯氧基乙醇芴二環(huán)氧甘油醚或脂環(huán)族環(huán)氧化合物，這是因?yàn)樗鼈兊玫骄哂懈哒凵渎屎土钊藵M意的透明度和令人滿意的溶解度的固化樹脂。
對(duì)光聚合引發(fā)劑并沒有特別限制。其實(shí)例包括常規(guī)的那些，如芳族重氮鹽、芳族锍鹽、芳族碘鎓鹽、芳族氧化锍鹽、茂金屬化合物和鐵-芳烴化合物。就可光固化性而言，其中優(yōu)選使用芳族锍鹽。就可固化性、粘附性等而言，尤其優(yōu)選芳族锍六氟銻酸鹽化合物，如4，4-雙[(二(β-羥基乙氧基)苯基锍)苯基硫醚雙六氟銻酸鹽，芳族锍六氟化鏻化合物或它們的組合。除了光聚合引發(fā)劑外，還可以根據(jù)需要適當(dāng)添加諸如光敏劑和酸增效劑的添加劑。
待摻入的光聚合引發(fā)劑的量相對(duì)于100重量份環(huán)氧樹脂成分而言，優(yōu)選為0.1-10重量份，更優(yōu)選1-5重量份。
此外，為了增強(qiáng)粘附性，可根據(jù)需要向光敏樹脂組合物中添加如下化合物例如硅烷或鈦酸鹽偶聯(lián)劑；柔韌性賦予劑，如烯烴低聚物、環(huán)烯烴低聚物或諸如降冰片烯聚合物、合成橡膠或聚硅氧烷化合物的聚合物；以及其他成分，包括抗氧化劑和消泡劑。
為了在所形成的具有給定圖案的芯層3上形成上覆層4，可以使用多種聚合物材料中的任意材料，如熱固性樹脂和熱塑性樹脂。然而，優(yōu)選使用與用于形成下覆層2的材料相同的材料。
下面說(shuō)明本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法的一個(gè)實(shí)施方案，其中使用上述基材和形成層的材料。
首先，將用于形成下覆層的材料施加在基材1上，使其干燥后具有5-100μm的厚度，然后將涂層干燥，形成如圖1所示的下覆層2。在用于形成下覆層的材料為可紫外固化樹脂組合物的情況下，用紫外線輻照所述涂層，形成下覆層2。在干燥或紫外輻照后，可根據(jù)需要通過(guò)加熱等固化該層。
為了施加用于形成下覆層的材料，例如可以利用使用旋涂機(jī)、涂覆機(jī)、環(huán)涂機(jī)、棒涂機(jī)等的涂覆技術(shù)，絲網(wǎng)印刷，其中利用間隔形成縫隙并通過(guò)毛細(xì)現(xiàn)象將材料注入縫隙中的方法，或者其中用諸如多重涂覆機(jī)的涂覆機(jī)械以輥至輥的方式連續(xù)涂覆基材的方法。
為了改進(jìn)下覆層2和基材1之間的粘附，可以用硅烷偶聯(lián)劑或鋁螯合劑對(duì)要在其上形成下覆層2的基材1的一面進(jìn)行表面處理。
隨后，使用光敏樹脂組合物如圖2所示的在下覆層2上形成樹脂層5。用于形成樹脂層5的方法的實(shí)例包括與可用于施加用于形成下覆層的材料的技術(shù)相同的涂覆技術(shù)。
之后，如圖3所示，通過(guò)具有給定圖案的掩膜6對(duì)樹脂層5進(jìn)行光輻照，例如暴露于紫外線。對(duì)該曝光沒有特別限制，其實(shí)例包括接觸式曝光，接近式曝光(其中在進(jìn)行曝光時(shí)掩膜6和樹脂層5相互略微間隔)以及投影式曝光。從進(jìn)一步改進(jìn)精度的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用接觸式曝光或接近式曝光。還優(yōu)選的是，在暴露于紫外線時(shí)，通過(guò)使用濾光器等使用平行射線。
此外，優(yōu)選在曝光之前在樹脂層5上設(shè)置保護(hù)層以防止作為用于形成芯層的材料的光敏樹脂組合物粘附于掩膜6表面并使其積垢。構(gòu)成該保護(hù)層的材料的實(shí)例包括透光性高的材料，如PET膜和玻璃。雖然對(duì)保護(hù)層的厚度沒有特別限制，但優(yōu)選其在30-200μm范圍內(nèi)。原因如下。當(dāng)所述材料具有小于30μm的太小厚度時(shí)，其易于彎曲。另一方面，當(dāng)所述材料具有超過(guò)200μm的太大厚度時(shí)，其傾向于具有降低的紫外線透過(guò)性。可對(duì)在樹脂層5這面上的保護(hù)層進(jìn)行賦予防粘性的處理?？捎糜谠摫砻嫣幚淼姆椒ǖ膶?shí)例包括與上述用于改進(jìn)基材1和下覆層2之間的粘附性的處理相同的表面處理技術(shù)。
在曝光后，使用具有特定濃度的γ-丁內(nèi)酯水溶液(顯影液)溶解掉樹脂層5的未曝光區(qū)域進(jìn)行顯影。這樣，形成如圖4所示的具有給定圖案的芯層3。對(duì)于顯影，可以使用常規(guī)技術(shù)，如槳式顯影、浸漬和噴涂。在顯影之后，可以根據(jù)需要進(jìn)行洗滌。對(duì)于洗滌，例如可以使用諸如異丙醇的醇、蒸餾水等?？梢赃M(jìn)一步進(jìn)行后固化以使形成的芯層3更完全固化。
應(yīng)調(diào)節(jié)要用作顯影液的γ-丁內(nèi)酯水溶液以使其濃度在10-99重量％范圍內(nèi)。特別地，優(yōu)選將其濃度調(diào)節(jié)至75-85重量％。當(dāng)例如使用可光固化環(huán)氧樹脂組合物作為用于形成芯層3的材料的光敏樹脂組合物時(shí)，通過(guò)將濃度調(diào)節(jié)至所述值改進(jìn)了芯層3的圖案的辨析率并可獲得更精確的芯層圖案。當(dāng)γ-丁內(nèi)酯水溶液的濃度太低時(shí)，顯影不充分且不能形成理想的圖案。另一方面，當(dāng)濃度太高時(shí)，導(dǎo)致在芯層3中形成裂縫和芯層圖案的變形或崩塌。因此，可根據(jù)作為用于形成芯層的材料的光敏樹脂組合物的類型在所述范圍內(nèi)適當(dāng)調(diào)節(jié)γ-丁內(nèi)酯水溶液的濃度，從而調(diào)節(jié)顯影速率。
隨后，如圖5所示，使用上述用于形成上覆層的材料，在其上已經(jīng)形成具有給定圖案的芯層3的下覆層2上形成上覆層4?？捎糜谛纬缮细矊?的方法的實(shí)例包括與如上所述用于形成下覆層2的方法相同的方法。優(yōu)選的是，用于形成上覆層4的材料與用于形成下覆層2的材料相同。由此，生產(chǎn)出這樣的光波導(dǎo)，其包括基材1、位于基材1上的下覆層2、位于下覆層2上的具有給定圖案的芯層3和用于覆蓋芯層3而形成的上覆層4。
如此得到的光波導(dǎo)的實(shí)例包括直型光波導(dǎo)、彎曲光波導(dǎo)、交叉光波導(dǎo)、Y-分支光波導(dǎo)、片型光波導(dǎo)、Mach-Zehender型光波導(dǎo)、AWG型光波導(dǎo)、柵格型光波導(dǎo)和光波導(dǎo)透鏡。使用該類光波導(dǎo)的光學(xué)元件的實(shí)例包括波長(zhǎng)過(guò)濾器、光學(xué)開關(guān)、光分支單元、光學(xué)多路器、光學(xué)多路器/分用器、光放大器、波長(zhǎng)調(diào)節(jié)器、波長(zhǎng)分割多路器、分光器、定向耦合器以及具有激光二極管或與之混和集成的光電二極管的透光模塊。
下面參考實(shí)施例和對(duì)比例說(shuō)明本發(fā)明。然而，本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。
實(shí)施例1制備用于形成芯層的材料將100重量份作為環(huán)氧樹脂的二苯氧基乙醇芴二環(huán)氧甘油醚與作為光酸產(chǎn)生劑(光聚合引發(fā)劑)的1重量份4，4-雙[(二(β-羥基乙氧基)苯基锍)苯基硫醚雙六氟銻酸鹽混合以制備可光固化環(huán)氧樹脂組合物。
制備用于形成下覆層和形成上覆層的材料將作為環(huán)氧樹脂的3，4-環(huán)氧環(huán)己烯甲酸3，4-環(huán)氧環(huán)己烯基甲酯與1重量份作為光酸產(chǎn)生劑(光聚合引發(fā)劑)的1重量份4，4-雙[(二(β-羥基乙氧基)苯基锍)苯基硫醚雙六氟銻酸鹽混合以制備可光固化環(huán)氧樹脂組合物。
形成下覆層準(zhǔn)備玻璃基材(12cm×12cm×1.1cm(厚度))。用旋涂機(jī)在500rpm×10秒+1000rpm×15秒的條件下將如上制備的用于形成下覆層的材料施加于基材表面上。之后，使用利用高壓汞燈作為光源的曝光設(shè)備以2000mJ/cm2的曝光劑量進(jìn)行全曝光。然后，通過(guò)在100℃下加熱60分鐘進(jìn)行固化，從而形成如圖1所示的在玻璃基材1上的下覆層2。如此得到的下覆層2的厚度為20μm。
形成芯層隨后，用旋涂機(jī)在500rpm×10秒+1500rpm×15秒的條件下將如上制備的用于形成芯層的材料施加于下覆層2上，形成如圖2所示的樹脂層5。接著，如圖3所示，將基于合成石英的鉻掩膜6置于樹脂層5上以通過(guò)鉻掩膜6進(jìn)行接觸式曝光，其中所述鉻掩膜6上已繪制了線寬為50μm且長(zhǎng)度為10cm的線性光波導(dǎo)圖案。曝光條件包括3000mJ/cm2的曝光劑量。曝光后，使樹脂層5的厚度保持在50μm。然后在100℃下對(duì)樹脂層5進(jìn)行加熱處理60分鐘，從而僅固化曝光區(qū)域。
隨后，將已經(jīng)受熱處理的結(jié)構(gòu)體在濃度為70重量％的γ-丁內(nèi)酯水溶液中浸沒60秒，從而顯影給定的圖案(浸漬法)。這樣，如圖4所示在下覆層2上形成芯層3。該芯層3的截面形狀具有50μm的厚度和50μm的線寬度。
形成上覆層然后，將如上制備的用于形成上覆層的材料施加在所形成的具有給定圖案的芯層3上，并以與如上所述相同的模式，以2000mJ/cm2的曝光劑量進(jìn)行全曝光。之后，通過(guò)在100℃下加熱60分鐘固化該涂層，形成如圖5所示的上覆層4。測(cè)量位于芯層3上的上覆層部分的厚度，結(jié)果為20μm。這樣，生產(chǎn)出具有如圖5所示結(jié)構(gòu)的光波導(dǎo)。
實(shí)施例2-4和對(duì)比例以與實(shí)施例1相同的模式生產(chǎn)光波導(dǎo)，不同之處是，如在后的表1所示改變要用作顯影液的γ-丁內(nèi)酯水溶液的濃度。
評(píng)價(jià)用顯微鏡目測(cè)如此得到的各光波導(dǎo)的芯層3部分，進(jìn)行下列評(píng)價(jià)。也就是說(shuō)，在如下方面檢測(cè)芯層3(1)芯層3是否具有裂縫和(2)在芯層3圖案周圍是否存在顯影殘留(芯層3的圖案辨析率)。這些評(píng)價(jià)的結(jié)果列在下表1中。
表1
上述結(jié)果表明如下事實(shí)。其中使用了具有在特定范圍內(nèi)的濃度的γ-丁內(nèi)酯水溶液的實(shí)施例的光波導(dǎo)不具有有關(guān)芯層3的圖案辨析率的特別的問(wèn)題，且在芯層3中完全不存在裂縫。特別地，其中分別使用了濃度為75-85重量％的γ-丁內(nèi)酯水溶液的實(shí)施例2和3的光波導(dǎo)在芯層3的圖案辨析率上令人滿意，且在芯層3中沒有裂縫。這兩種光波導(dǎo)得到非常好的結(jié)果。
相反，發(fā)現(xiàn)其中使用了濃度為100重量％的γ-丁內(nèi)酯水溶液的對(duì)比例的光波導(dǎo)在芯層3中具有裂縫。
可通過(guò)本發(fā)明的光波導(dǎo)生產(chǎn)方法獲得的光波導(dǎo)的實(shí)例包括直型光波導(dǎo)、彎曲光波導(dǎo)、交叉光波導(dǎo)、Y-分支光波導(dǎo)、片型光波導(dǎo)、Mach-Zehender型光波導(dǎo)、AWG型光波導(dǎo)、柵格型光波導(dǎo)和光波導(dǎo)透鏡。使用該類光波導(dǎo)的光學(xué)元件的實(shí)例包括波長(zhǎng)過(guò)濾器、光學(xué)開關(guān)、光分支單元、光學(xué)多路器、光學(xué)多路器/分用器、光放大器、波長(zhǎng)調(diào)節(jié)器、波長(zhǎng)分割多路器、分光器、定向耦合器以及具有激光二極管或與之混和集成的光電二極管的透光模塊。
盡管已詳細(xì)地且參考了特定實(shí)施方案描述了本發(fā)明，但對(duì)本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員顯而易見的是，可在不偏離本發(fā)明范圍的情況下在本發(fā)明內(nèi)進(jìn)行多種改變和修正。
本申請(qǐng)以2006年4月4日提交的日本專利申請(qǐng)第2006-103399號(hào)為基礎(chǔ)，在此通過(guò)引用并入其全部?jī)?nèi)容。
此外，在此通過(guò)引用并入本文所述的所有文件。
權(quán)利要求
1.生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其包括在基材表面上形成下覆層；在所述下覆層上形成光敏樹脂組合物層；用紫外線通過(guò)具有給定圖案的光掩膜輻照所述光敏樹脂組合物層的表面以進(jìn)行曝光；在曝光之后，通過(guò)用顯影液溶解所述光敏樹脂組合物層的未曝光區(qū)域而除去該層的未曝光區(qū)域，從而形成芯層；以及在所述芯層上形成上覆層，其中所述的顯影液是濃度為10-99重量％的γ-丁內(nèi)酯水溶液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的γ-丁內(nèi)酯水溶液濃度為75-85重量％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的下覆層包含熱固性樹脂或熱塑性樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的下覆層包含環(huán)氧樹脂組合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的光敏樹脂組合物層包含可光固化環(huán)氧樹脂組合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的上覆層包含熱固性樹脂或熱塑性樹脂。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其中所述的上覆層包含環(huán)氧樹脂組合物。
全文摘要
本發(fā)明涉及生產(chǎn)光波導(dǎo)的方法，其包括在基材表面上形成下覆層；在該下覆層上形成光敏樹脂組合物層；用紫外線通過(guò)具有給定圖案的光掩膜輻照該光敏樹脂組合物層的表面以進(jìn)行曝光；在曝光之后，通過(guò)用顯影液溶解該光敏樹脂組合物層的未曝光區(qū)域而除去該層的未曝光區(qū)域，從而形成芯層；以及在該芯層上形成上覆層，其中所述的顯影液是濃度為10－99重量％的γ－丁內(nèi)酯水溶液。根據(jù)該方法，可以得到其中芯層本身以及所述芯層與所述下覆層之間的界面均不裂縫且具有小的光損失的光波導(dǎo)。
文檔編號(hào)G02B6/13GK101051102SQ20071009203
公開日2007年10月10日 申請(qǐng)日期2007年4月4日 優(yōu)先權(quán)日2006年4月4日
發(fā)明者清水裕介 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社