一種中性透過(guò)色的雙銀low-e玻璃的制作方法
【專利摘要】一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次設(shè)有Bi2O3介質(zhì)層、第一TiO2介質(zhì)層、CrNx膜層、ZnO平整層、第一Ag層、Cu層、第一CrNxOy膜層、第二TiO2介質(zhì)層、AZO介質(zhì)層、第二Ag層、第二CrNxOy膜層、第三TiO2介質(zhì)層、以及Si3N4Oy頂膜層。本發(fā)明的透過(guò)色更中性。
【專利說(shuō)明】—種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃
【技術(shù)領(lǐng)域】
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[0001]本發(fā)明涉及一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃。
【背景技術(shù)】
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[0002]LOff-E玻璃，是一種高端的低輻射玻璃，是在玻璃基材表面鍍制包括銀層在內(nèi)的多層金屬及其它化合物組成的膜系產(chǎn)品。
[0003]隨著現(xiàn)代建筑的發(fā)展，人們審美觀念的提高，對(duì)幕墻玻璃的外觀色調(diào)與整體的建筑的協(xié)調(diào)性越來(lái)越受到人們的關(guān)注。而在眾多顏色中，中性色越來(lái)越受到人們的喜歡。許多大型的工程建筑不約而同的都采用了中性色。傳統(tǒng)的雙銀LOW-E玻璃，均采用單銀LOW-E玻璃疊加的對(duì)稱結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)，由于第一層銀與第二層銀厚度基本一致，使得傳統(tǒng)的雙銀LOff-E玻璃的透過(guò)色偏綠色。
[0004]故有必要對(duì)現(xiàn)有的雙銀LOW-E玻璃作出改進(jìn)，以提供一種透過(guò)色呈中性的雙銀LOff-E玻璃。
【發(fā)明內(nèi)容】
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[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其透過(guò)色更中性。
[0006]一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次設(shè)有Bi2O3介質(zhì)層、第一 T12介質(zhì)層、CrNx膜層、ZnO平整層、第一 Ag層、Cu層、第一CrNxOy膜層、第二 T12介質(zhì)層、AZO介質(zhì)層、第二 Ag層、第二 CrNxOy膜層、第三T12介質(zhì)層、以及Si3N4Oy頂I旲層。
[0007]本發(fā)明可通過(guò)如下方案進(jìn)行改進(jìn):
[0008]所述Bi2O3介質(zhì)層的厚度為25nm。
[0009]所述第一 T12介質(zhì)層、第二 T12介質(zhì)層的厚度為30nm,第三T12介質(zhì)層的厚度為20nmo
[0010]所述CrNx膜層的厚度為2nm。
[0011]所述ZnO平整層的厚度為10nm。
[0012]所述第一 Ag層的厚度為3?5nm,第二 Ag層的厚度為12?15nm。
[0013]所述Cu層的厚度為3?5nm。
[0014]所述第一 CrNxOy膜層的厚度為3nm，第二 CrNxOy膜層的厚度為2nm。
[0015]所述AZO介質(zhì)層的厚度為70nm。
[0016]所述Si3N4Oy頂膜層的厚度為30nm。
[0017]本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):1、本發(fā)明通過(guò)減少第一Ag層的厚度，并在第一Ag層的上面創(chuàng)造性地增加一層Cu層，同時(shí)，增加第二 Ag層的厚度，產(chǎn)品的總輻射率相當(dāng)，但由于兩層Ag層的厚度不一致，在保證輻射率不變的情況下，其透過(guò)色更中性。2、基膜層采用Bi2O3介質(zhì)層，可以增強(qiáng)玻璃與膜層的附著力及耐腐蝕性能，是傳統(tǒng)Si3N4膜層的3倍以上，產(chǎn)品的耐腐蝕性能可增強(qiáng)3倍以上。【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】:
[0018]圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
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[0019]如圖所示，一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材I，所述玻璃基材I的上表面由下而上依次設(shè)有Bi2O3介質(zhì)層2、第一 T12介質(zhì)層3、CrNx膜層4、ZnO平整層5、第一Ag層6、Cu層7、第一 CrNxOy膜層8、第二 T12介質(zhì)層9、AZ0介質(zhì)層10、第二 Ag層11、第二CrNxOy膜層12、第三T12介質(zhì)層13、以及Si3N4Oy頂膜層14。
[0020]進(jìn)一步地，所述Bi2O3介質(zhì)層2的厚度為25nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、以氬氣為濺射氣體、氧氣為反應(yīng)氣體濺射Bi靶，其中，氬氧比為(400SCCM?420SCCM): (450SCCM?500SCCM)，將靶材上的材料打到玻璃基材表面，最終形成Bi2O3介質(zhì)層，上述氬氧比是形成該膜層的核心，決定了成膜的質(zhì)量。其可增強(qiáng)玻璃與膜層的附著力及耐腐蝕性能，是傳統(tǒng)Si3N4的三倍以上。
[0021]再進(jìn)一步地，所述第一 T12介質(zhì)層3、第二 T12介質(zhì)層9的厚度為30nm，第三T12介質(zhì)層13的厚度為20nm。各T12介質(zhì)層，均采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶，用氧氣作反應(yīng)氣體，最終形成各T12介質(zhì)層。
[0022]更進(jìn)一步地，所述CrNx膜層4的厚度為2nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鉻靶，用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體，最終形成CrNx膜層，相對(duì)以往的產(chǎn)品，耐磨性好。
[0023]又進(jìn)一步地，所述ZnO平整層5的厚度為10nm。其主要用于平滑CrNx層，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn (AZO)靶，最終形成ZnO平整層，為第一 Ag層作鋪墊，降低輻射率。
[0024]具體地,所述第一 Ag層6的厚度為3?5nm,第二 Ag層11的厚度為12?15nm。各Ag層，均采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射銀靶，最終形成各Ag層，第一 Ag層6和第二 Ag層11的厚度不對(duì)稱，第一 Ag層6較第二 Ag層11薄，可以取得良好的膜層均勻性。
[0025]再進(jìn)一步地，所述Cu層7的厚度為3?5nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電流濺射銅靶，最終形成Cu層。通過(guò)增加這層Cu層，使本發(fā)明的透過(guò)色變得更中性。
[0026]更進(jìn)一步地，所述第一 CrNxOy膜層8的厚度為3nm，第二 CrNxOy膜層12的厚度為2nm。各CrNxOy膜層，均采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鉻靶，用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體，滲少量氧氣，最終形成各CrNxOy膜層，其可提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時(shí)抗高溫氧化。
[0027]又進(jìn)一步地，所述AZO介質(zhì)層10的厚度為70nm，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用中頻交流電源濺射陶瓷AZO靶(氧化鋅鋁靶)，最終形成AZO介質(zhì)層。
[0028]再進(jìn)一步地，所述Si3N4Oy頂膜層14的厚度為30nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體、滲入少量氧氣濺射半導(dǎo)體材料S1:Al (90:10)，提高鋼化時(shí)抗高溫氧化性。
[0029]本發(fā)明通過(guò)減少第一 Ag層的厚度，并在第一 Ag層的上面創(chuàng)造性地增加一層Cu層，同時(shí)，增加第二 Ag層的厚度，產(chǎn)品的總輻射率相當(dāng)，但由于兩層Ag層的厚度不一致，在保證輻射率不變的情況下，其透過(guò)色更中性，基本呈無(wú)色。所謂的透過(guò)色，是指玻璃豎直放置時(shí)，從內(nèi)向外看出去的顏色。另外，本發(fā)明的基膜層采用Bi2O3介質(zhì)層，可以增強(qiáng)玻璃與膜層的附著力及耐腐蝕性能，是傳統(tǒng)Si3N4膜層的3倍以上，產(chǎn)品的耐腐蝕性能可增強(qiáng)3倍以上。
[0030]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非用來(lái)限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，凡依本發(fā)明專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本發(fā)明專利涵蓋的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，其特征在于:所述玻璃基材的上表面由下而上依次設(shè)有Bi2O3介質(zhì)層、第一 T12介質(zhì)層、CrNx膜層、ZnO平整層、第一 Ag層、Cu層、第一 CrNxOy膜層、第二 T12介質(zhì)層、AZO介質(zhì)層、第二 Ag層、第二 CrNxOy膜層、第三T12介質(zhì)層、以及Si3N4Oy頂膜層；其中，所述第二 Ag層的厚度是第一 Ag層的2.4?5倍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述Bi2O3介質(zhì)層的厚度為25nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述第一T12介質(zhì)層、第二 T12介質(zhì)層的厚度為30nm，第三T12介質(zhì)層的厚度為20nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述CrNx膜層的厚度為2nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述ZnO平整層的厚度為10nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述第一Ag層的厚度為3?5nm,第二 Ag層的厚度為12?15nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述Cu層的厚度為3?5nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述第一CrNxOy膜層的厚度為3nm，第二 CrNxOy膜層的厚度為2nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述AZO介質(zhì)層的厚度為70nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中性透過(guò)色的雙銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述Si3N4Oy頂膜層的厚度為30nm。
【文檔編號(hào)】B32B17/06GK104275877SQ201410607063
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年10月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月30日
【發(fā)明者】陳圓, 禹幸福 申請(qǐng)人:中山市亨立達(dá)機(jī)械有限公司