一種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述膜層從玻璃基片依次向外包括：第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻擋層、功能層、第二阻擋層、第四電介質(zhì)層、第五電介質(zhì)層。本實(shí)用新型對(duì)于可見光波段具有很高的透過率，能保證良好的自然采光，同時(shí)又能有效的限制太陽熱輻射的透過，尤其是近紅外線的透過。本實(shí)用新型通過其自身的獨(dú)特膜層結(jié)構(gòu)，使得高透的低輻射鍍膜玻璃同樣具有超強(qiáng)的耐機(jī)械性能、抗化學(xué)腐蝕性能，解決了高透低輻射鍍膜玻璃異地加工中容易出現(xiàn)的脫膜、劃傷、極易氧化的難題。
【專利說明】—種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及建筑玻璃，尤其涉及一種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]低輻射鍍膜玻璃在倡導(dǎo)低能耗的現(xiàn)今社會(huì)，是非常受歡迎的，其在反射和吸收太陽光方面比透明玻璃都要高出很多，但是，過分的高反射和高吸收也會(huì)帶來一些副作用，一是可見光透過率太低影響白天室內(nèi)采光，二是玻璃過度升溫可能引起熱應(yīng)力炸裂，三是反射太高引起所謂光污染，因此，鍍膜玻璃對(duì)太陽光的反射和吸收具體要控制在什么程度，還要根據(jù)具體的環(huán)境和要求來決定，另外，鍍膜玻璃對(duì)可見光和太陽能的透過率、反射率、吸收率這些基本參數(shù)取決于鍍膜玻璃的的薄膜的材料以及薄膜的層數(shù)結(jié)構(gòu)，因此，鍍膜玻璃上鍍覆的材料的選擇、層數(shù)的限定，以及鍍膜質(zhì)量的好壞都直接影響著鍍膜玻璃的性能。
[0003]輻射率低又具有高透性的單銀低輻射鍍膜玻璃，傳統(tǒng)的方式采用的膜層結(jié)構(gòu)為:Glass/SiNx/ZnOx (SnOx) /NiCr/Ag/NiCr/ZnOx (SnOx) /SiNx,具有易脫膜、極易氧化、易劃傷等加工性能差的缺點(diǎn)。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題而提供一種結(jié)構(gòu)簡單、安裝使用方便、提高工作效率的。
[0005]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:
[0006]一種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和膜層，其特征在于，所述膜層從玻璃基片依次向外包括:第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻擋層、功能層、第二阻擋層、第四電介質(zhì)層、第五電介質(zhì)層；
[0007]所述的第一電介質(zhì)層為SiNx,膜層厚度為20_50nm ；
[0008]所述的第二電介質(zhì)層為TiOx，膜層厚度為3-10nm ；
[0009]所述的第三電介質(zhì)層為ZnOxNy,膜層厚度為5_15nm ；
[0010]所述的第一阻擋層為NiV，膜層厚度為l_3nm ；
[0011]所述的功能層為Ag,膜層厚度為5_15nm ；
[0012]所述的第二阻擋層為NiV，膜層厚度為l_3nm ；
[0013]所述的第四電介質(zhì)層為ZnOxNy,膜層厚度為5_15nm ；
[0014]所述的第五電介質(zhì)層為SiNx,膜層厚度為20_50nm。
[0015]本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:本實(shí)用新型采用上述結(jié)構(gòu)，使得本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0016]1、沉積SiNx膜層選擇合適的気氣、氮?dú)馀浔燃昂线m的工作氣壓(2.5-3E_3mbar),很大程度延長抗氧化時(shí)間。
[0017]2、增加了 TiOx層，一方面提高可見光透過率，另一方面作為SiNx膜層和ZnOxNy膜層的連接層，使膜層之間連接更牢固。[0018]3、沉積ZnOxNx膜層選擇合適的氬氣、氧氣和氮?dú)馀浔燃昂线m的工作氣壓,一方面提升耐機(jī)械性能，另一方面延長抗氧化時(shí)間。
[0019]4、選擇NiV做為功能Ag層的阻擋層，有效保護(hù)銀層，同時(shí)提高膜層之間的附著力。
[0020]5、本實(shí)用新型鍍膜玻璃，具有高可見光透過率、低反射率、低輻射率，加工此鍍膜玻璃具有成品率高的優(yōu)勢(shì)。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0021]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的
【發(fā)明內(nèi)容】
、特點(diǎn)及功效，茲例舉以下實(shí)施例，并配合附圖詳細(xì)說明如下:
[0023]請(qǐng)參閱圖1所示，本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)例所提供的一種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃，所述膜層從玻璃基片依次向外包括:第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻擋層、功能層、第二阻擋層、第四電介質(zhì)層、第五電介質(zhì)層。其中:
[0024]上述結(jié)構(gòu)中，所述第一電介質(zhì)層為SiNx,膜層厚度為20_50nm。
[0025]所述第二電介質(zhì)層為TiOx,膜層厚度為3-10nm。
[0026]所述第三電介質(zhì)層為ZnOxNy,膜層厚度為5_15nm。
[0027]所述第一阻擋層為NiV，膜層厚度為l_3nm。
[0028]所述功能層為Ag,膜層厚度為5_15nm。
[0029]所述第二阻擋層為NiV，膜層厚度為l_3nm。
[0030]所述第四電介質(zhì)層為ZnOxNy,膜層厚度為5_15nm。
[0031]所述第五電介質(zhì)層為SiNx,膜層厚度為20_50nm。
[0032]本實(shí)用新型的積極效果:1、沉積SiNx膜層選擇合適的氬氣、氮?dú)馀浔燃昂线m的工作氣壓(2.5-3E-3mbar ),很大程度延長抗氧化時(shí)間。
[0033]2、增加了 TiOx層，一方面提高可見光透過率，另一方面作為SiNx膜層和ZnOxNy膜層的連接層，使膜層之間連接更牢固。
[0034]3、沉積ZnOxNx膜層選擇合適的氬氣、氧氣、氮?dú)馀浔燃昂线m的工作氣壓，一方面提升耐機(jī)械性能，另一方面延長抗氧化時(shí)間。
[0035]4、選擇NiV做為功能Ag層的阻擋層，有效保護(hù)銀層被氧化，同時(shí)提高膜層之間的附著力。
[0036]5、本實(shí)用新型鍍膜玻璃，在實(shí)現(xiàn)膜層的低輻射率和低傳熱性能的基礎(chǔ)上，能夠?qū)崿F(xiàn)膜層對(duì)自然光的透過率高達(dá)82%?86%的優(yōu)點(diǎn)，而且具有500小時(shí)以上的裸放抗氧化時(shí)間。在異地進(jìn)行改切、磨邊、鋼化和中空等后續(xù)加工中，可加工性特別強(qiáng)，具有成品率極高的優(yōu)勢(shì)。
[0037]以上所述僅是對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡單修改，等同變化與修飾，均屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種可異地加工的高透低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片和膜層，其特征在于，所述膜層從玻璃基片依次向外包括:第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第一阻擋層、功能層、第二阻擋層、第四電介質(zhì)層、第五電介質(zhì)層；第一電介質(zhì)層為SiNx，膜層厚度為20-50nm ；第二電介質(zhì)層為TiOx，膜層厚度為3-10nm ；第三電介質(zhì)層為ZnOxNy,膜層厚度為5_15nm ；第一阻擋層為NiV，膜層厚度為l-3nm ；功能層為Ag，膜層厚度為5-15nm ；第二阻擋層為NiV，膜層厚度為l-3nm ；第四電介質(zhì)層為ZnOxNy,膜層厚度為5_15nm ;第五電介質(zhì)層為SiNx,膜層厚度為20-50nm。
【文檔編號(hào)】B32B15/04GK203543249SQ201320413751
【公開日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年7月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月12日
【發(fā)明者】林嘉宏 申請(qǐng)人:臺(tái)玻天津玻璃有限公司